JPH0411768Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0411768Y2 JPH0411768Y2 JP7521682U JP7521682U JPH0411768Y2 JP H0411768 Y2 JPH0411768 Y2 JP H0411768Y2 JP 7521682 U JP7521682 U JP 7521682U JP 7521682 U JP7521682 U JP 7521682U JP H0411768 Y2 JPH0411768 Y2 JP H0411768Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- platen
- press
- hollow chamber
- bolster
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本考案は加硫プレスの改良に関するものであ
る。 〔従来技術と考案が解決しようとする課題〕 従来、プラテン型タイヤ加硫プレスは第１図に
概略的に示すように下部金型１が下部プラテン３
と断熱材層７を介してプレス基体５に支持され、
又、上部金型２が上部プラテン４と断熱材層８を
介してボルスタ６に支持されプレス開閉機構（図
示せず）によつて上部金型２が昇降駆動されるよ
うになつている。上下部プラテン３，４はスチー
ムを熱源とした円盤状の熱盤を有し、内部に中空
室（即ち、スチームジヤケツト）９，１０をそれ
ぞれ備え、この中空室にスチームを吹き込み、熱
板が加熱された金型が加熱されるようになつてい
る。しかしながら、この種タイヤ加硫プレスにお
いては、プラテン３，４は熱容量と放熱面積が大
きく断熱材層７，８を隣接させても尚熱が逃げて
エネルギーのムダが多いという問題があつた。 〔課題を解決するための手段〕 本考案は上記の問題にかんがみなされたもの
で、下部金型が下部プラテンを介してプレス基体
に支持され、上部金型が上部プラテンを介してボ
ルスタに支持され、プレス開閉機構によつて上部
金型が昇降駆動されるタイヤ加硫プレスにおい
て、前記プラテンは円周方向の中空室を有する熱
盤に、円周方向に中空室を有する円盤が直接に隣
接して２層構造を形成してなり、該プラテンをそ
の円盤がプレス基体側に及びボルスタ側にそれぞ
れ位置するように加硫プレスに取りつけたもので
ある。 〔作用〕 本考案は２層構造によりプラテンの放熱を最小
限にとどめ、満足な保温効果を生じる。 〔実施例〕 以下に図面を参照しつつ本考案の１実施例を詳
細に説明する。 第２図イは本考案のプラテンの平面図で第２図
ロはその断面図を示すもので、プラテン以外の機
器即ち上下部金型、プレス基体、ボルスタ等は従
来公知のものである。 プラテン１００はいわば２層構造となつてお
り、円周周方向の中空室１０１を有するいわゆる
熱盤１０２に円周方向の中空室１０３を有する円
盤１０４が互いに一体的に当接しており、熱盤の
中空室１０１と円盤の中空室１０３は互いに直接
に隣接して２層構造を形成し、円盤の中空室１０
３の長さｌは少なくとも熱盤の中空室１０１の長
さと同一である。熱盤中空室１０１に熱源（スチ
ーム）が連結されている。 下部プラテン１００はその円盤１０４がプレス
基体５側に又、上部プラテン１００はその円盤１
０４がボルスタ６側に位置するようにそれぞれ取
り付けられる。 円盤中空室１０３は排気配管１０５を介して真
空ポンプ（図示せず）と連続しており、該中空室
１０３内気圧を一定値に下げその状態を保持す
る。 第２図イ中１０６は円盤中空室１０３のサポー
トであり、強度上プレスの締付力に充分堪えるよ
う適宜の大きさのものを円周方向に適宜個数を配
置する。例えば、サポート１０６の大きさ、個数
及び配置は熱盤中空室１０１の従来公知のサポー
ト（図示せず）とほぼ同程度にする。１０７は熱
盤中空室に通ずる排出配管でいづれも従来公知の
ものである。 中空室１０３を有する円盤１０４とプレス基体
（図示せず）及びボルスタ（図示せず）との間に
は従来通り公知の断熱材層（アスベスト系、ゴム
系等）を介入させてもよい。１０９は中空部であ
る。 第３図に示すように、本考案のプラテン（第３
図ロ）と従来構造のプラテン（第３図イ）につい
て、それぞれＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４点での放熱の程
度を測定した結果は下表の通りであつた。これか
ら判るように、本考案のプラテンは従来構造のも
のに比し、極めて高い保温効果を示している。
尚、放散熱量は熱流量計にて測定した。
る。 〔従来技術と考案が解決しようとする課題〕 従来、プラテン型タイヤ加硫プレスは第１図に
概略的に示すように下部金型１が下部プラテン３
と断熱材層７を介してプレス基体５に支持され、
又、上部金型２が上部プラテン４と断熱材層８を
介してボルスタ６に支持されプレス開閉機構（図
示せず）によつて上部金型２が昇降駆動されるよ
うになつている。上下部プラテン３，４はスチー
ムを熱源とした円盤状の熱盤を有し、内部に中空
室（即ち、スチームジヤケツト）９，１０をそれ
ぞれ備え、この中空室にスチームを吹き込み、熱
板が加熱された金型が加熱されるようになつてい
る。しかしながら、この種タイヤ加硫プレスにお
いては、プラテン３，４は熱容量と放熱面積が大
きく断熱材層７，８を隣接させても尚熱が逃げて
エネルギーのムダが多いという問題があつた。 〔課題を解決するための手段〕 本考案は上記の問題にかんがみなされたもの
で、下部金型が下部プラテンを介してプレス基体
に支持され、上部金型が上部プラテンを介してボ
ルスタに支持され、プレス開閉機構によつて上部
金型が昇降駆動されるタイヤ加硫プレスにおい
て、前記プラテンは円周方向の中空室を有する熱
盤に、円周方向に中空室を有する円盤が直接に隣
接して２層構造を形成してなり、該プラテンをそ
の円盤がプレス基体側に及びボルスタ側にそれぞ
れ位置するように加硫プレスに取りつけたもので
ある。 〔作用〕 本考案は２層構造によりプラテンの放熱を最小
限にとどめ、満足な保温効果を生じる。 〔実施例〕 以下に図面を参照しつつ本考案の１実施例を詳
細に説明する。 第２図イは本考案のプラテンの平面図で第２図
ロはその断面図を示すもので、プラテン以外の機
器即ち上下部金型、プレス基体、ボルスタ等は従
来公知のものである。 プラテン１００はいわば２層構造となつてお
り、円周周方向の中空室１０１を有するいわゆる
熱盤１０２に円周方向の中空室１０３を有する円
盤１０４が互いに一体的に当接しており、熱盤の
中空室１０１と円盤の中空室１０３は互いに直接
に隣接して２層構造を形成し、円盤の中空室１０
３の長さｌは少なくとも熱盤の中空室１０１の長
さと同一である。熱盤中空室１０１に熱源（スチ
ーム）が連結されている。 下部プラテン１００はその円盤１０４がプレス
基体５側に又、上部プラテン１００はその円盤１
０４がボルスタ６側に位置するようにそれぞれ取
り付けられる。 円盤中空室１０３は排気配管１０５を介して真
空ポンプ（図示せず）と連続しており、該中空室
１０３内気圧を一定値に下げその状態を保持す
る。 第２図イ中１０６は円盤中空室１０３のサポー
トであり、強度上プレスの締付力に充分堪えるよ
う適宜の大きさのものを円周方向に適宜個数を配
置する。例えば、サポート１０６の大きさ、個数
及び配置は熱盤中空室１０１の従来公知のサポー
ト（図示せず）とほぼ同程度にする。１０７は熱
盤中空室に通ずる排出配管でいづれも従来公知の
ものである。 中空室１０３を有する円盤１０４とプレス基体
（図示せず）及びボルスタ（図示せず）との間に
は従来通り公知の断熱材層（アスベスト系、ゴム
系等）を介入させてもよい。１０９は中空部であ
る。 第３図に示すように、本考案のプラテン（第３
図ロ）と従来構造のプラテン（第３図イ）につい
て、それぞれＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄの４点での放熱の程
度を測定した結果は下表の通りであつた。これか
ら判るように、本考案のプラテンは従来構造のも
のに比し、極めて高い保温効果を示している。
尚、放散熱量は熱流量計にて測定した。
本考案のプラテンは上記のように、熱盤中空室
に円盤中空室を直接に隣接した２層構造とし、そ
の円盤中空室をプレス基体側に又ボルスタ側にそ
れぞれ位置するようにプレスに取りつけたので、
プラテンの放熱が最小限に抑制されて満足な保温
効果を奏し、エネルギーのムダが防止されるとい
う極めて優れた実用的効果を生じる。
に円盤中空室を直接に隣接した２層構造とし、そ
の円盤中空室をプレス基体側に又ボルスタ側にそ
れぞれ位置するようにプレスに取りつけたので、
プラテンの放熱が最小限に抑制されて満足な保温
効果を奏し、エネルギーのムダが防止されるとい
う極めて優れた実用的効果を生じる。
第１図は従来のプラテン型タイヤ加硫プレスの
一部断面図、第２図イ、ロは本考案のプラテンの
平面図、断面図である。第３図イは従来のプラテ
ンで、第３図ロは本考案のプラテンである。 １０１……熱盤用中空室、１０２……熱盤、１
０３……円盤中空室、１０４……円盤、１０５…
…排気配管、１０６……円盤中空室サポート。
一部断面図、第２図イ、ロは本考案のプラテンの
平面図、断面図である。第３図イは従来のプラテ
ンで、第３図ロは本考案のプラテンである。 １０１……熱盤用中空室、１０２……熱盤、１
０３……円盤中空室、１０４……円盤、１０５…
…排気配管、１０６……円盤中空室サポート。
Claims (1)
- 下部金型が下部プラテンを介してプレス基体に
支持され、上部金型が上部プラテンを介してボル
スタに支持され、プレス開閉機構によつて上部金
型が昇降駆動されるタイヤ加硫プレスにおいて、
前記プラテンは円周方向に中空室を有する熱盤
に、円周方向に中空室を有する円盤が直接に隣接
して２層構造を形成してなり、該プラテンをその
円盤が、プラテン基体側に及びボルスタ側にそれ
ぞれ位置するように取りつけたタイヤ加硫プレ
ス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7521682U JPS58180032U (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | タイヤ加硫プレス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7521682U JPS58180032U (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | タイヤ加硫プレス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58180032U JPS58180032U (ja) | 1983-12-01 |
| JPH0411768Y2 true JPH0411768Y2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=30084585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7521682U Granted JPS58180032U (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | タイヤ加硫プレス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58180032U (ja) |
-
1982
- 1982-05-21 JP JP7521682U patent/JPS58180032U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58180032U (ja) | 1983-12-01 |
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