JPH04122479A - 精密部品の洗浄方法 - Google Patents
精密部品の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH04122479A JPH04122479A JP23901090A JP23901090A JPH04122479A JP H04122479 A JPH04122479 A JP H04122479A JP 23901090 A JP23901090 A JP 23901090A JP 23901090 A JP23901090 A JP 23901090A JP H04122479 A JPH04122479 A JP H04122479A
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- JP
- Japan
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- cleaning
- drying
- washing
- cleaned
- cleaning agent
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
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- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は電子部品等の精密部品の洗浄方法、詳しくは
塩素系溶剤を用いることなく極性の小さい非極性汚染物
質、極性の大きい極性汚染物質を完全に除去できる精密
部品の洗浄方法に関するものである。
塩素系溶剤を用いることなく極性の小さい非極性汚染物
質、極性の大きい極性汚染物質を完全に除去できる精密
部品の洗浄方法に関するものである。
［従来の技術］
従来、電子部品等の精密部品の洗浄方法としてはフロン
１，１．３などの塩素系溶剤を用いて洗浄を行った後、
蒸気乾燥する方法か主に採用されている。
１，１．３などの塩素系溶剤を用いて洗浄を行った後、
蒸気乾燥する方法か主に採用されている。
例えば、液晶基板の製造工程においては液晶の注入、封
止後どうしても液晶の一部か液晶セルのすきまに残留し
、絶縁性等において問題となる為、塩素系溶剤を用いて
洗浄乾燥することが行われている。
止後どうしても液晶の一部か液晶セルのすきまに残留し
、絶縁性等において問題となる為、塩素系溶剤を用いて
洗浄乾燥することが行われている。
［発明か解決しようとする課題］
しかしなから、塩素系溶剤を使用すると洗浄上程中に溶
剤中から塩素か分離してしまい、イオン性残渣として残
留し、腐蝕発生の原因となっていた。
剤中から塩素か分離してしまい、イオン性残渣として残
留し、腐蝕発生の原因となっていた。
又、塩素系溶剤は非極性溶剤の為、極性汚染物と非極性
汚染物の双方か付着している精密部品の洗浄では極性汚
染物質か残留し、洗浄不良となっていた。
汚染物の双方か付着している精密部品の洗浄では極性汚
染物質か残留し、洗浄不良となっていた。
又、液晶注入、封止後の液晶セルの洗浄では液晶セル端
子部の腐食、液晶セル表面の指紋などの極性汚染物の残
留かおこり、洗浄不良となっていた。
子部の腐食、液晶セル表面の指紋などの極性汚染物の残
留かおこり、洗浄不良となっていた。
この発明は、電子部品等の精密部品の洗浄作業に関する
上記問題点を解決することを目的とするものであり、被
洗浄物である精密部品に付着している極性の小さい非極
性汚染物質、極性の大きい極性汚染物質の双方を完全に
除去でき、しかも塩素の場合の様に被洗浄物に腐食を生
しさせることなく、洗浄作業を行うことかてきる精密部
品の洗浄方法を提供せんとするものである。
上記問題点を解決することを目的とするものであり、被
洗浄物である精密部品に付着している極性の小さい非極
性汚染物質、極性の大きい極性汚染物質の双方を完全に
除去でき、しかも塩素の場合の様に被洗浄物に腐食を生
しさせることなく、洗浄作業を行うことかてきる精密部
品の洗浄方法を提供せんとするものである。
［課題を解決する為の手段］
この発明は汚染された精密部品を炭素数１０〜１５のパ
ラフィン系飽和炭化水素を主成分とする洗浄剤て洗浄し
、次いで分子量１８以上８０以下の水酸基を有する洗浄
剤で洗浄することにより上記課題を解決せんとするもの
である。
ラフィン系飽和炭化水素を主成分とする洗浄剤て洗浄し
、次いで分子量１８以上８０以下の水酸基を有する洗浄
剤で洗浄することにより上記課題を解決せんとするもの
である。
次に、本発明を更に具体的に説明する。
まず始めに、被洗浄物である電子部品等の精密部品に付
着している極性の大きい油、液晶、樹脂などの非極性汚
染物質を炭素数１０〜１５のパラフィン系飽和炭化水素
を主成分とする第１洗浄剤で洗浄する。なお、この炭素
数１０〜１５のパラフィン系炭化水素としては、直鎖の
ものか好ましい。この第１洗浄剤は精密部品の非極性汚
染物質である油、液晶、樹脂等に対する溶解、除去能力
が大きく、これらを効率よく除去てき、しかも被洗浄物
である精密部品の品質劣化も生しさせない。この第１洗
浄剤による洗浄は第１図に示す方法て好適に実施される
。
着している極性の大きい油、液晶、樹脂などの非極性汚
染物質を炭素数１０〜１５のパラフィン系飽和炭化水素
を主成分とする第１洗浄剤で洗浄する。なお、この炭素
数１０〜１５のパラフィン系炭化水素としては、直鎖の
ものか好ましい。この第１洗浄剤は精密部品の非極性汚
染物質である油、液晶、樹脂等に対する溶解、除去能力
が大きく、これらを効率よく除去てき、しかも被洗浄物
である精密部品の品質劣化も生しさせない。この第１洗
浄剤による洗浄は第１図に示す方法て好適に実施される
。
即ち、第１図中２は被洗浄物１を第１洗浄剤９中に浸漬
させる第１洗浄槽であり、底面には超音波発振器６を、
側面にはオーバーフローした第１洗浄剤９を捕集する樋
８がそれぞれ設けられており、前記樋８によって捕集さ
れた第１洗浄剤９はポンプ３によりフィルター４に圧送
され、このフィルター４によって濾され再び第１洗浄槽
２の下部に還流する様になっている。なお、図中５は第
１洗詐剤９の温度を所定の範囲内に保持する為樋８内に
設けられた冷却コイル等の温度制御手段である。
させる第１洗浄槽であり、底面には超音波発振器６を、
側面にはオーバーフローした第１洗浄剤９を捕集する樋
８がそれぞれ設けられており、前記樋８によって捕集さ
れた第１洗浄剤９はポンプ３によりフィルター４に圧送
され、このフィルター４によって濾され再び第１洗浄槽
２の下部に還流する様になっている。なお、図中５は第
１洗詐剤９の温度を所定の範囲内に保持する為樋８内に
設けられた冷却コイル等の温度制御手段である。
この第１洗浄槽２内で第１洗浄剤による趙首孜洗浄が行
われた被洗浄物１はこの第１洗浄槽２から引き上げられ
、第２図に示す第２洗浄槽７に送られ、この第２洗浄槽
７中に浸漬され、第２段階の洗浄か行われる。この第２
段階においては分子量か１８以上８０以下の水酸基を有
する第２洗浄剤ＩＯによる洗浄か行われる。第２洗浄槽
の横這は第１洗浄槽と回してあり、同一部分には同一符
号を付しその説明を省略する。第２洗浄剤１０としては
水、イソプロパツールを用いることが特に望ましい。こ
の第２洗浄剤１０は適度な極性を有しており、被洗浄物
１に付属している極性物質及び第１洗浄剤９を効果的に
除去することかでき、しかも被洗浄物１の劣化を招来す
ることもない。
われた被洗浄物１はこの第１洗浄槽２から引き上げられ
、第２図に示す第２洗浄槽７に送られ、この第２洗浄槽
７中に浸漬され、第２段階の洗浄か行われる。この第２
段階においては分子量か１８以上８０以下の水酸基を有
する第２洗浄剤ＩＯによる洗浄か行われる。第２洗浄槽
の横這は第１洗浄槽と回してあり、同一部分には同一符
号を付しその説明を省略する。第２洗浄剤１０としては
水、イソプロパツールを用いることが特に望ましい。こ
の第２洗浄剤１０は適度な極性を有しており、被洗浄物
１に付属している極性物質及び第１洗浄剤９を効果的に
除去することかでき、しかも被洗浄物１の劣化を招来す
ることもない。
この第２洗浄槽７によって第２段階の洗浄かなされた被
洗浄物１は乾燥装置（図示省略）へ送られ、乾燥される
。乾燥の方法としてはインフロパノール蒸気乾燥、温風
乾燥、超純度温水中に被乾燥物１を浸漬した後これを引
き上げ温風を吹き付けながら行う乾燥、減圧下て行う乾
燥、赤外線の照射下て行う乾燥等が望ましい。
洗浄物１は乾燥装置（図示省略）へ送られ、乾燥される
。乾燥の方法としてはインフロパノール蒸気乾燥、温風
乾燥、超純度温水中に被乾燥物１を浸漬した後これを引
き上げ温風を吹き付けながら行う乾燥、減圧下て行う乾
燥、赤外線の照射下て行う乾燥等が望ましい。
［作 用］
汚染されている精密部品である被洗浄物を洗浄するに際
し、まず始めに、被洗浄物を炭素数１０〜１５のパラフ
ィン系飽和炭化水素を主成分とする第１洗浄剤て洗浄し
、油、液晶、樹脂等の非極性汚染物質を除去し、次いで
分子量１８以上８０以下の水酸基を有する第２洗浄剤で
洗浄し、指紋などの極性汚染物質及び第１洗浄剤を除去
し、被洗浄物を清浄化させる。なお、この際、被洗浄物
の劣化を招来することはない。
し、まず始めに、被洗浄物を炭素数１０〜１５のパラフ
ィン系飽和炭化水素を主成分とする第１洗浄剤て洗浄し
、油、液晶、樹脂等の非極性汚染物質を除去し、次いで
分子量１８以上８０以下の水酸基を有する第２洗浄剤で
洗浄し、指紋などの極性汚染物質及び第１洗浄剤を除去
し、被洗浄物を清浄化させる。なお、この際、被洗浄物
の劣化を招来することはない。
［実施例］
液晶を注入、封止した液晶セルのすきまに液晶が付着し
ており、表面には指紋か付着している放晶カラス基板（
被洗浄物）を５０°Ｃにおいて平均炭素数１２のｎ−パ
ラフィン混合物を主成分とする溶剤を第１洗浄剤として
用い超音波を印加しつつ１２０秒間第１段階の洗浄を行
い、次いで、２０’Ｃにおいてイソプロパノールを第２
洗浄剤として用い超音波を印加しつつ１２０秒間第２段
階の洗浄を行った。この第２段階の洗浄後、被洗浄物で
ある液晶カラス基板を引き」−げ、８２．５°Ｃのイン
フロパノール蒸気中で乾燥を行った。乾＃少この液晶ガ
ラス基板のすきまにおける液晶の残りを偏光板（液晶は
偏光板を通さねば肉眼ては視認不可能）と５０倍の顕微
鏡て、表面の指紋を肉眼でそれぞれ観察した。結果は、
液晶ガラス基板のすきまの液晶は完全に除去されており
、表面の指紋も同様に完全に除去されていた。
ており、表面には指紋か付着している放晶カラス基板（
被洗浄物）を５０°Ｃにおいて平均炭素数１２のｎ−パ
ラフィン混合物を主成分とする溶剤を第１洗浄剤として
用い超音波を印加しつつ１２０秒間第１段階の洗浄を行
い、次いで、２０’Ｃにおいてイソプロパノールを第２
洗浄剤として用い超音波を印加しつつ１２０秒間第２段
階の洗浄を行った。この第２段階の洗浄後、被洗浄物で
ある液晶カラス基板を引き」−げ、８２．５°Ｃのイン
フロパノール蒸気中で乾燥を行った。乾＃少この液晶ガ
ラス基板のすきまにおける液晶の残りを偏光板（液晶は
偏光板を通さねば肉眼ては視認不可能）と５０倍の顕微
鏡て、表面の指紋を肉眼でそれぞれ観察した。結果は、
液晶ガラス基板のすきまの液晶は完全に除去されており
、表面の指紋も同様に完全に除去されていた。
［比較例１］
実施例の第２洗浄剤に代え、第１洗浄剤と同しｎ−パラ
フィンを用い前記実施例と同じ実験を行ったところ、液
晶カラス基板のすきまの潅晶は除去されたか、表面の指
紋は残った。
フィンを用い前記実施例と同じ実験を行ったところ、液
晶カラス基板のすきまの潅晶は除去されたか、表面の指
紋は残った。
［比較例２］
実施例の第１洗浄剤、第２洗浄剤に代入、フロン１，１
．３を用い実施例と同様に洗浄作業を行い、４７．６°
Ｃの蒸気中において乾燥させた。乾燥後観察したところ
、すきまの液晶、表面の指紋等残っており、除去されて
いなかった。
．３を用い実施例と同様に洗浄作業を行い、４７．６°
Ｃの蒸気中において乾燥させた。乾燥後観察したところ
、すきまの液晶、表面の指紋等残っており、除去されて
いなかった。
［発明の効果］
この発明に係る精密部品の洗浄方法は以上述べた如く、
電子部品等の精密部品を劣化させることなく、その表面
に付着している非極性汚染物質、極性汚染物質を完全に
除去することかてき、精密部品製造に資することかてき
るすぐれた効果を有する。
電子部品等の精密部品を劣化させることなく、その表面
に付着している非極性汚染物質、極性汚染物質を完全に
除去することかてき、精密部品製造に資することかてき
るすぐれた効果を有する。
第１図はこの発明において用いる第１洗浄槽の断面図、
第２図は同しく第２洗浄槽の断面図である。 被洗浄物 第１洗浄槽 ポンプ フィルター 温度制御手段 超音波発振器 第２洗浄槽 樋 第１洗浄剤 第２洗浄剤
第２図は同しく第２洗浄槽の断面図である。 被洗浄物 第１洗浄槽 ポンプ フィルター 温度制御手段 超音波発振器 第２洗浄槽 樋 第１洗浄剤 第２洗浄剤
Claims (6)
- （１）非極性汚染物質及び極性汚染物質で汚染された精
密部品を炭素数１０〜１５のパラフィン系飽和炭化水素
を主成分とする洗浄剤で洗浄し、次いで分子量１８以上
８０以下の水酸基を有する洗浄剤で洗浄することを特徴
とする精密部品の洗浄方法。 - （２）乾燥をイソプロパノール蒸気乾燥で行うことを特
徴とする請求項１記載の洗浄乾燥方法。 - （３）乾燥を温風を吹き付けながら行う請求項２記載の
洗浄乾燥方法。 - （４）超純度温水中に浸漬した被洗浄物を引き上げ温風
を吹き付けながら乾燥を行う請求項２記載の洗浄乾燥方
法。 - （５）乾燥を減圧下で行う請求項１記載の洗浄乾燥方法
。 - （６）乾燥を赤外線の照射下で行う請求項２記載の洗浄
乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23901090A JPH04122479A (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 精密部品の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23901090A JPH04122479A (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 精密部品の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04122479A true JPH04122479A (ja) | 1992-04-22 |
Family
ID=17038555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23901090A Pending JPH04122479A (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 精密部品の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04122479A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57101676A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-24 | Kazumasa Uryu | Defatting and washing treatment |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP23901090A patent/JPH04122479A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57101676A (en) * | 1980-12-17 | 1982-06-24 | Kazumasa Uryu | Defatting and washing treatment |
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