JPH04128801A - 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 - Google Patents

合成樹脂製光学部品への反射防止膜

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JPH04128801A
JPH04128801A JP2250923A JP25092390A JPH04128801A JP H04128801 A JPH04128801 A JP H04128801A JP 2250923 A JP2250923 A JP 2250923A JP 25092390 A JP25092390 A JP 25092390A JP H04128801 A JPH04128801 A JP H04128801A
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JP
Japan
Prior art keywords
layer
synthetic resin
electron beam
mixture composed
vapor deposition
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Pending
Application number
JP2250923A
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English (en)
Inventor
Nobuaki Mitamura
宣明 三田村
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、合成樹脂製光学部品への反射防止膜に関する
[従来の技術] 近年、レンズ等の光学部品の素材には、無機ガラスに代
えて、軽量でかつ加工の容易な合成樹脂が多く用いられ
るようになった。ところが、この合成樹脂製光学部品は
、無機ガラスを素材としたものと同様に光の反射が大き
く、また軟らかいために、表面が傷つき易いという問題
がある。このため、合成樹脂製光学部品には硬化保護を
兼ねた反射防止膜を施す必要がある。
一般に、反射防止膜は真空蒸着法により形成するもので
あり、無機ガラスの場合には無機ガラスを加熱して蒸着
させることができるので、無機ガラスと蒸着膜との密着
性がよく、強固な膜を形成可能である。しかしながら、
合成樹脂の場合、合成樹脂の熱変形温度が低いため、無
機ガラスにような基板加熱ができず、そのために合成樹
脂と蒸着膜も密着性が悪くなり、耐久性に劣るという問
題点があった。
そこで従来は、例えば特開昭60−257401号公報
や特開昭63−220101号公報に開示されるように
、−酸化ケイ素(Sill を合成樹脂との密着層とし
て介在させた反射防止膜を形成することが知られている
。SiOを密着層として用いる理由は、SiOが合成樹
脂に対して密着性が高いところによるものである。
[発明が解決しようとする課題] しかし、SiOは、不安定な物質として知られており、
該屈折率が経時的に大きく変化するため、反射率特性の
安定性が欠けるという問題点が存在する。また、SiO
は抵抗加熱蒸着法でなければ安定に蒸着できない物質で
あり、抵抗加熱蒸着法は生産性が悪(ランニングコスト
も高いことから生産する上でのコスト面の問題もあった
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、合成樹脂との密着性が良好で、安定でかつ生産性が高
い合成樹脂製光学部品への反射防止膜を提供することを
目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明は、合成樹脂基板の
表面に設けられる反射防止膜を、前記表面側から空気側
へ順に、フッ化ランタン(LaF、)またはフッ化ネオ
ジウム(NdF、)からなる第一層と、酸化ジルコニウ
ム(ZrOzlと酸化チタン(T10□)の混合物また
はZrO□と酸化タンタル(Tazos)の混合物から
なる第二層と、二酸化ケイ素(SiO□)からなる第三
層とから構成した。
本発明において、光学部品を形成する合成樹脂としては
、例えばアクルル樹脂(PMMA) 、ポリカポネート
樹脂(pc) 、ポリスチレン樹脂(PS) 、アモル
ファスポリオレフィン樹脂(APO) 、紫外18(U
VI硬化型樹脂などであればよい。
[作用] かかる構成の合成樹脂製光学部品への反射防止膜におい
て、第一層はLaF sまたはNdFsを電子線加熱蒸
着法により形成して成る。LaF 3およびNdF。
は、合成樹脂に対しSiOと同等の高い密着性を有して
いるとともに、SiOよりも安定で経時変化が少な(、
電子線加熱蒸着法により形成できるので生産性も高い。
第二層は第一層と第三層の中間に形成され、Zr02と
TlO2の混合物またはZr0zとTaJsの混合物を
電子線加熱蒸着法により形成して成る。これらの混合物
層は、第一層や第三層に比べて高い屈折率f1.85〜
2.10)を有しており、反射防止効果を向上させるも
のである。なお、上記混合物の混合比率を変えることに
より、屈折率の調整が可能で、所望の反射特性を得るこ
とができる。
第三層は第二層の上にに形成され、本発明の反射防止膜
の最表層を構成するものであり、SiO□を電子線加熱
蒸着法により形成して成る。5102は第二層に比べて
低い屈折率[1,45〜1.471 を有しており、反
射防止効果の基本的な特性を与えるとともに、SiO□
が硬いことから表面保護としての働きをする。
本発明の反射防止膜の第一層から第三層の各層の膜厚は
、設計中心波長尤に対して第一層が0.16〜0.34
え、第二層が044〜0.56え、第三層が0.23〜
028λどなるように設けるのが好ましい。
[実施例コ 直径15mmの合成樹脂基板をチャンバー径が560m
mの真空蒸着装置に500個セットした後、真空蒸着チ
ャンバー内をI X 10−5Torr以下の高真空に
排気した。排気系にはコールドトラップ付きのデイフュ
ージョンポンプあるいはクライオポンプを使用した。し
かる後に、合成樹脂基板の加熱を行うことなく、電子線
加熱法により、蒸着速度05〜1.0nm/secの条
件で表1から表5に示される膜構成の反射防止膜を蒸着
した。
(以下余白) 表1 (実施例1) ん= 500nm 表2 (実施例2) λ= 500nm 表3 (実施例3) え= 500nm 表4 (実施例4) え= 500nm 表5 (実施例5) ん= 500nm 実施例1〜5の反射防止膜の反射率特性を第1図〜第5
図に示した。本発明の反射防止膜は可視域(400〜7
00nmlで良好な反射防止効果を有している。
次に、上記実施例1〜5の反射防止膜について以下のよ
うな方法で基板との密着性、耐湿性、耐熱衝撃性を評価
した。
fl)密着性;幅]、Ommの粘着テープ(セロハン粘
着テープ)を反射防止膜にはりつけ、粘着テープの一端
を45°の角度から瞬時に引き剥して膜の剥離状態を観
察することにより評価した。
(2)耐湿性;温度45℃、温度95%の環境に300
時間放置した後に外観性能と上記(1)の方法で密着性
を評価した。
(3)耐熱衝撃性;温度が一30℃と70℃の環境下に
交互に30分間ずつ放置するサイクルをlOサイクル行
った後、外観性能と上記(1)の方法で密着性を評価し
た。
実施例1〜5の反射防止膜について密着性、耐湿性、耐
衝撃性を評価した結果は表6に示す通りである。
(以下余白) 表6 表6の結果かられかるように、 本発明の反射量 上膜は、畜着性、耐湿性、耐熱衝撃性に関して優れた耐
久性を有している。
[発明の効果1 以上のように本発明の合成樹脂製光学部品への反射防止
膜によれば、合成樹脂との密着層としてLaF aまた
はNdF3を用いているので、合成樹脂への高い密着性
を有するとともに、安定でかつ生産性の高い反射防止膜
となる。
【図面の簡単な説明】
第1図から第5図はそれぞれ本発明の反射防止膜の実施
例1〜5の反射率特性図である。 特許出願人  オリンパス光学工業株式会社第 図 涙 長 (nml 第 図 襲 長 nml 波 長 (nml

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)合成樹脂基板の表面に設けられ、該表面側から空
    気側へ順に、フッ化ランタンまたはフッ化ネオジウムか
    らなる第一層と、酸化ジルコニウムと酸化チタンの混合
    物または酸化ジルコニウムと酸化タンタルの混合物から
    なる第二層と、二酸化ケイ素からなる第三層とからなる
    ことを特徴とする合成樹脂製光学部品への反射防止膜。
  2. (2)1.54≦n_1≦1.58 0.16λ≦n_
    1d_1≦0.34λ1.85≦n_2≦2.10 0
    .44λ<n_2d_2≦0.56λ1.45≦n_3
    ≦1.47 0.23λ≦n_3d_3≦0.28λこ
    こで、 n_1;第一層の屈折率n_1d_1;第一層の光学的
    膜厚n_2;第二層の屈折率n_2d_2;第二層の光
    学的膜厚n_3;第三層の屈折率n_3d_3;第三層
    の光学的膜厚λ;中心波長の条件を満足することを特徴
    とする請求項1記載の合成樹脂製光学部品への反射防止
    膜。
JP2250923A 1990-09-20 1990-09-20 合成樹脂製光学部品への反射防止膜 Pending JPH04128801A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05330849A (ja) * 1992-05-29 1993-12-14 Hoya Corp 反射防止膜を有する光学部材、蒸着膜の形成方法及び蒸着組成物
JP2016048296A (ja) * 2014-08-27 2016-04-07 キヤノン株式会社 反射防止膜およびそれを有する光学素子、光学系、光学機器

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