JPH04129799A - 情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の記録か可能な情報記録媒体とその製造方法に関す
るものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のヒーム
を用いる情報記録媒体か開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ティスフと称され、ヒテオ・ティ
スフ、オーディオ・ティスフ、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ティスク・メモリ
などとして使用ざわている。

光ティスフは基本構造として、カラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属：またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。光ティスフへの情報の８き込みはレーザビームを
この光ディスクに基板を通して照射することにより行な
わわ、記録層の照射部分かその光を吸収して局所的に温
度上昇し、物理的あるいは化学的な変化（たとえば、ピ
ットの生成）か生してその光学的特性を変えることによ
り情報が記録される。情報の読み取りもまた、レーザビ
ームを光ディスクに基板を通して照射することにより行
なわれ、記録層の光学的特性の変化に応した反射光また
は透過光を検出することにより情報か再生される。

このような情報記録媒体の耐久性を向上させる目的で、
記録層上に保護層を設けたり、あるいはティスフ構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
トに記録層を設け、この枚の基板を、記録層か内側に位
置し、かつ空間を形成するように接合してなるエアーサ
ンドイッチ構造か提案されている。サンドイッチ構造に
する方法に比べて保護層の形成は、製造が簡便であり且
つ製造コストかかからない等の点で有利である。このよ
うな保護層か設けられた光ディスクやエアーサンドイッ
チ構造を有する光ディスクでは、記録層は直接外気に接
することかなく、情報の記録、再生は基板を透過するレ
ーザー光で行なわれるために、記録層か物理的または化
学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃か付着
して情報の記録、再生の障害となることかないとの利点
かある。

上記保護層は記録材料か金属の場合は記録層上に、記録
層材料か色素の場合は色素記録層上に設けられた反射層
上に一般に設けられる。色素記録層上に反射層か設けら
れる理由としては、色素からなる記録層は、一般に反射
率が低いあるいは塗布により保護層を形成すると色素か
溶剤等で侵されるなとの問題を回避するためである。す
なわち、色素を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材
料に比べて高感度であるなと記録・媒体自体の特性にお
いて長所を有する他に、記録層を塗布法により補筆に形
成することかできるという製造上の大きな利点を有して
いる。しかし、色素からなる記録層は、上記欠点があり
、このため、色素記録層の上に金属の反射層を設けられ
ることか多い。

色素記録層および反射層をを保護する目的で上記反射層
の上に、さらに保護層か設けられるのか一般的である。

従来、反射層上（記録材料か色素の場合）あるいは金属
記録層上に形成される保護層としては、紫外線硬化型樹
脂を用いたものが、製造工程の短縮か可能なことや、表
面硬度が高いことなとの点から比較的多く採用されてい
る。金属記録層上に設けられる上記保護層としては、例
えば特開昭６０−２０９７２号公報にはフォスフェート
基を有するウレタンアクリレートとアクリルモノマーと
の組成物、特開昭６１−２１１１３号公報には多官能ア
クリルモノマーとフッ素化アクリルモノマー　の組成物
、特開昭６３−３０８８０号公報には紫外線硬化型樹脂
の例としてエポキシアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレートおよび１．６−ヘキサンヂオーリ
シアクリレートからなる組成物などが提案されている。

また、色素記録層上に設けられた反射層上に形成される
保護層に、紫外線硬化型樹脂を用いることが、例えば特
開平１−１５９８４２号公報および特開平２−１３２６
５４号公報に記載されているが、その組成については明
らかにされていない。

樹脂基板上に色素記録層、反射層、および保護層がこの
順で形成された上記色素記録層を有する情報記録媒体に
おいては、金属記録層を有する光ティスフと異なり樹脂
基板と色素記録層との密着性および色素記録層と反射層
との密着性か共に良好とは言えないため、保護層かこれ
らの層間て剥離し易いとの問題かある。本出願人は、こ
のような密着性を改善するために第１図に示す構成を有
する情報記録媒体に関する出願を行なフた（特願平１．
−５８９７２号）。すなわち、第１図か示すように、円
盤状樹脂基板１１上に円環状に設けられた色素記録層１
２、記録層上に、それぞれの内周側縁部と外周側縁部が
一致するように積層された円環状反射層１５、そして、
内周側縁部と外周側縁部か該反射層の内周側縁部と外周
側縁部をそれぞれ越えて伸び、円盤状基板表面に接触す
るように該反射層上に設けられている保護層１６からな
る情報記録媒体を提案している。この媒体は、保護層か
樹脂基板の内周側縁部と外周側縁部て直接接触して形成
されているため、一般に基板と保護層の密着性は比較的
良好なことから密着性か改善さｔたものである。

しかしながら、更に優れた保護層の密着性を得るだめに
は、樹脂基板と、さらに反射層との密着付か一層優れて
いることか必要であり、また保護層の耐火性を得るため
には高い表面硬度および表面の撥水性に優わた保護層で
あることか望まれる。航記公報で示された紫外線硬化型
樹脂は、第１図で示される光ティスフについて全く考慮
されておらず、これらを用いてもト記密着性等の優れた
保護層を得ることは困難である。

［発明の目的］ 本発明は、樹脂基板上に色素記録層、反射層および保護
層か、この順で設けられた、外観か良好で、そして向上
した耐久性および優れた記録再生特性を有する情報記録
媒体を提供することを目的とする。

また本発明は、特に保護層の基板および反射層に対する
密着性に優れた情報記録媒体を提供することを目的とす
る。

また本発明は、上記情報記録媒体を簡易に製造する方法
を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、円盤状樹脂基板上に、円環状に設けられたレ
ーザーによる情報の記録か可能な色素記録層、該円環状
記録層上に、それぞれの内周側縁部と外周側縁部か一致
するように積層された金属からなる円環状反射層、そし
て内周側縁部と外周側縁部か該反射層の内周側縁部と外
周側縁部をそれぞれ越えて伸び、円盤状基板表面に接触
するように該反射層上に設けられた保護層からなり、且
つ 該保護層か、重合性二重結合を少なくとも５個有する化
合物と重合性二重結合を３または４個有する化合物との
重合による硬化層であり、その硬化層中にフッ素原子ま
たは硅素原子を有する化合物を含有し、そして該保護層
の層厚が５μｍ未満であることを特徴とする情報記録媒
体にある。

上記情報記録媒体は、円盤状樹脂基板上に、レーザーに
よる情報の記録が可能な色素記録層を塗布形成する工程
、 該記録層上に円環状反射層を形成する工程、重合性二重
結合を少なくとも５個有する化合物、重合性二重結合を
３または４個有する化合物およびフッ素原子または硅素
原子を有する化合物を少なくとも樹脂基板を溶解可能な
有機溶剤と色素を溶解可能な有機溶剤とを含む有機溶剤
組成物中に溶解した、粘度か１０ｃｐｓ　（２５℃）以
下の紫外線硬化型樹脂塗布液を、該円環状反射層か設け
られた以外の領域に存在する色素記録層の露出部分を除
去しながら、該反射層と該円盤状樹脂基板の全表面に塗
布した後、該塗布層に紫外線を照射することにより保護
層を形成する工程を含むことを特徴とする情報記録媒体
の製造方法により有利に得ることかできる。

本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下のとおりで
ある。

１）重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物と重
合性二重結合を３または４個有する化合物との重量比が
、０．５：９８〜２０：８０の範囲にあることを特徴と
する上記情報記録媒体。

２）重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物か、
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、シベンタ
エワスリトールベンタアクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサメタクリレートおよびジペンタエリスリト
ールペンタメタクリレートからなる群より選ばれる少な
くとも一種であることを特徴とする上記情報記録媒体。

３）フッ素原子あるいは硅素原子を有する化合物か、フ
ッ素原子あるいは硅素原子を有する界面活性剤であるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体。

４）上記色素か、シアニン系色素、アズレニウム系色素
、フタロシアニン系色素、イミダソキノキサリン系色素
およびスクフワワウム系色素がら選ばれる少なくとも一
種の色素であることを特徴とする情報記録媒体。

５）上記樹脂基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンまたはポリメチルメタクリレートであることを
特徴とする上記情報記録媒体。

６）上記反射層の材料か、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、Ｃｒ、ＴｉおよびＡｕからなる群より選ばゎる少な
くとも一種の金属よりなることを上記情報記録媒体。

本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は以下
のとおりである。

１）上記色素層の塗布が、スピンコーターを用いて行な
わわることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、上記のように保護層か基板の
内外周側縁部て直接接触するようにして設けられた構成
を仔し、且つその保護層として特定の層厚の、特定の重
合性二重結合を有する化合物からなる組成物（紫外線硬
化型樹脂）の硬化物か用いられている。これにより、保
護層の樹脂基板及び反射層との密着性か顕著に向上する
こと、高い表面硬度および低い表面エネルギーを有する
ため撥水性に優れていることから極めて耐久性に優れた
保護層が形成された情報記録媒体であるということがで
きる。

また、本発明の情報記録媒体を製造方法は、低粘度で溶
解性の高い保護層形成用塗布液を塗布することにより、
基板の内外周縁部の余分な色素を溶解、除去しなから上
記保護層を形成することができるので、簡便で容易な製
造方法であるといえる。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上に、色素記録層、反射
層そして保護層かこの順で設けられた基本構成を有する
。このような構成において、色素記録層は、その製造か
簡便であり且つ高感度である、反射層は色素層の欠点で
ある低反射率を向上させる、そして保護層か上記二層を
保護し光ディスクの耐久性を向上させる、というように
三層のそれぞれの役割を有している。そして、これらが
それぞれの機能を分担するという考え方に立脚している
。

本発明の情報記録媒体の基本構成を第１図に示す。

第１図は、中央に孔部１０を備えた円盤状樹脂基板１１
、基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層１
２、その上に設けられた反射層１５、さらに反射層上に
設けられた保護層１６からなる情報記録媒体の部分断面
図である。保護層１６は、反射層１５の表面の全面、お
よび内周側非記録領域１３および外周側非記録領域１４
のほぼ全面に設けられる。従って、色素記録層１２およ
び反射層Ｉ５は保護層１６によフて完全に覆われた状態
になる。

上記のように、保護層はその内外周縁部か直接基板と接
するように形成されている。このため、色素記録層と反
射層との密着性、および反射層と保護層との密着性か顕
著に向−トしている。

本発明の上記保護層の形成材料である紫外線硬化型樹脂
は、重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物およ
び重合性二重結合を３または４個有する化合物からなり
、さらにフッ素原子あるいは硅素原子を有する化合物を
含むものである。また形成された保護層の層厚が５μｍ
未満である。

上記層厚で、上記組成の紫外線硬化型樹脂の硬化物を保
護層として用いることにより、保護層の樹開基板及び反
射層との密着性か顕著に向上すること、高い表面硬度お
よび低い表面エネルギーを有するため撥水性に優れてい
ることから極めて耐久性に優れた保護層であるというこ
とができる。本発明の保護層は、重合性二重結合を３個
以ト有する千ツマ−で構成されているため、薄い層厚て
あっても高い硬度を得ることができる。このように薄い
層厚にすることによって、硬化時の応力の集中か減少し
、得られる保護層の樹脂基板および反射層との密着性か
向１すると考えられる。

本発明の情報記録媒体の製造方法は、例えば以下のよう
に行なわれる。添付第２図、第３図および第１図を参照
しなから詳しく説明する。

第２図は、中央に孔部２０を備えた円盤状樹脂基板２１
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層２
２および該孔部の周縁部近傍に部分的に塗布されない領
域２３からなる部分断面図である。円盤状樹脂基板２１
上に、色素記録層形成用塗布液をスピンコードを用いて
塗布し、色素からなる記録層２２を形成する。塗布され
ない領域２３は、塗布時の条件によりその面積が異なり
、一般に後の保護層等の密着性を向１−できるほと充分
な面積を確保できない。

第３図は、中央に孔部３０を備えた円盤状樹脂基板３１
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層３
２、該孔部３０の周縁部に設けられた内周側非記録領域
３３および該外周縁部の内側に設けられた内周側非記録
領域３４以外の領域に設けられた金属からなる反射層３
５かうなる部分断面図である。第２図の色素からなる記
録層２２上に、蒸着等により金属からなる反射層３５を
形成する。その際、反射層３５は基板３１の孔部の周縁
に設けられた内周側非記録領域３３および該外周縁の内
側に設けられた内周側非記録領域３４以外の領域に設け
られる。このため、色素記録層３２内外の周縁近傍は反
射層３５によって覆われていない。このような反射層３
５の形成は、内周非記録領域３３および外周側非記録領
域３４を確保するため、通常この部分をマスクして蒸着
またはスパッタリンク等を実施することにより行なわれ
る。

次いて、記録層３２および反射層３５が形成された基板
全面に本発明の紫外線硬化型樹脂塗布液か例えばスピン
コード法により塗布される。

重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物、重合性
二重結合を３または４個有する化合物およびフッ素原子
あるいは硅素原子を有する化合物を含む樹脂組成物を有
機溶剤に溶解して粘度が１０ｃｐｓ　（２５℃）以下の
塗布液を調製する。

使用する溶剤は、少なくとも樹脂基板を溶解可能な有機
溶剤と色素を溶解可能な有機溶剤とを含む有機溶剤組成
物である。たたし、本発明で、樹脂基板または色素を溶
解可能な有機溶剤とは、樹脂基板または色素の材料を０
．０１重量％（２５℃）濃度以上で溶解することができ
る有機溶剤である。

このような低粘度で溶解性の高い塗布液をスビコート法
により、記録層３２および反射層３５か形成された基板
全面に塗布した場合、内周側非記録領域３３および外周
側非記録領域３４の領域に存在する色素か溶解、除去さ
れ、第１図に示すようにこの領域には保護層のみが形成
される。このように塗布液は、該反射層と該円盤状樹脂
基板の全表面に塗布された後、該塗布層は紫外線照射さ
れて紫外線硬化型樹脂の重合硬化した保護層が設けられ
る。

このようにして製造された情報記録媒体は、反射層形成
後、反射層が設けられていない内周側および外周側の領
域にある色素を除去しなから保護層を、その周囲か直接
基板と接するように形成している。このため、色素記録
層と反射層との密着性、および反射層と保護層との密着
性が顕著に向上た情報記録媒体を簡易に作成することが
できる。さらに保護層が直接色素記録層に接しないため
、保護層の塗布時に色素記録層を侵すことがないことか
ら、得られる情報記録媒体の外観か良好となり、また記
録特性についてもＣ／Ｎ等が向上したものとなる。従っ
て、このようして得られる情報記録媒体は、外観が良好
であり、かつ向上した耐久性および優れた記録再生特性
を有する。

本発明の情報記録媒体の製造は、たとえば以下に述へる
ような材料を用いて行なうことかてきる。

本発明にて使用する樹脂基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種のプラスチック材料から
任意に選択することかできる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、静時安定性および製造コストな
との点から、基板材料の例としては、セルキャストポリ
メチルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレ
ート等のアクリル樹脂：ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共
重合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹脂；ポリカー
ホネート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリ
エステルを挙げることかできる。好ましくは、ポリカー
ボネート、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチ
ルメタクリレートを挙げることかできる。

記録層か設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的て、下塗層が設けら打てもよい。下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリヒニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合
体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース
、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステ
ル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート等の高分子物質ニジランカッ
ブリンク剤なとの有機物質：および無機酸化物（Ｓｉｎ
２、Ａｊ２２０３等）、無機フッ化物（ＭｇＦ２）なと
の無機物質を挙げることかできる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなと
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０
μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキンク用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および／またはプレピット層か設け
られてもよい。プレクループ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種の千ツマ−（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことかできる。

プレグルーブ層の形成は、まずＮ密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプレクルー
プ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。本発明のように、
基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより直接基板にプレクループおよび／また
はプレピットが設けら基板（またはプレクループ層等）
トには、色素からなる記録層か設けられる。本発明に使
用される色素は特に限定されるものではなく、とのよう
なものでも良い。例えば、シアニン系色素、フタロシア
ニン系色素、ビリリウム系・チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒ
なとの金属錯塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系
色素、アルミニウム系・ジインモニウム系色素およびニ
トロソ化合物を挙げることができる。

辺、下金口 こわらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。

その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素・ ［１］　　（Ｃｔｂ）ｚＮ−（Ｃ：ＨＪ：Ｈ）５−ＣＨ
＝”Ｎ（ＣＨ３）２ｃｉシ（たたし、ｎは２または３で
ある） （たたし、Ｒは水素原子またはＮ（ＣＨ３）２である） ［４］　　Φ　”　　−Ｌ　＝ｖ　　　　　（Ｘ　ｆｆ
１−）Ｉ／　ｆｆ１（たたし、Φおよび平はそれぞれ芳
香族環か縮合していてもよいインドレニン環残基、チア
ツル環残基、オキサゾール環残基、セレナソール環残基
、イミダゾール環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリ
ミジン環残基またはイミダゾキノキサリン環残基であり
、Ｌはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリカ
ルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成するた
めの連結基であり、Ｘ″′−はｍ価の陰イオンであり、
ｍは１または２であり、さらにＸ″′−はΦ、Ｌまたは
！上に置換して分子内塩を形成しても良く、またΦとし
、またはＬと平とはざらに連結して環を形成しても良い
） 上記−数式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等か挙げられる。

１Ｓ０−Ｃ４Ｈ５ ｌ　Ｓ　Ｏ−Ｃ４Ｈ。

［Ｃｌ Ｃｌ０゛ ＩＯ ［ｆｌ ［９］ ＣＩＯ ＣＩＯ ［〕］ ［ｋｌ ＣＩＯ’ ｉｉ） スクワリリウム渠色素 １ｉｉ）アズレニウム系色素： （ただし、Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ３とＲ’、Ｒ’
とＲ５、Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少
なくとも一つの組合せて置換もしくは未置換の複素環ま
たは脂肪族環による環を形成し、該埋を形成しないとき
のＲｌ　、　Ｒ２Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７は
それぞれ水素原子、ハロゲン原子またはｍ個の有機残基
であり、あるいはＲ１とＲ２，）ｌｊ３とＲ’、Ｒ’と
Ｒ５，Ｒ’とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち少な
くとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族環を
形成してもよく、Ａは二重結合によって結合した二価の
有機残基であり、Ｚ−はアニオン残基である。なお、ア
ズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子か窒素原
子で置き換えられてアサアズレン環となっていてもよい
。）ｉｖ）インドフェノール系色素： （たたし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミノ基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水素原子、０１
〜Ｃ２ｏの置換または未置換のアルキル基、アリール基
、複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは−ＮＨＣ
Ｏ−または一〇〇ＮＨ−である） ■）金属錯塩系色素： （たたし、Ｒ１−Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基てあり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （たたし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれアルキル基または
ハロケン原子てあり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （たたし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子またはＲ′ Ｎ−Ｒ５基（ここで、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ置換ま
たは未置換のアルキル基またはアリール基である）であ
り、Ｍは遷移金属原子であり、ｎは０〜３の整数である
） （たたし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） （たたし、［Ｃａｔ］は錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンてあり、ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） 子またはメチル基であり、 ｎは１〜４の整数であ り、 Ａは菓四級アンモニウム基である） （たたし、 およびｘ２ はそわぞれニトロ 基および／またはハロゲン原子であり、およ びＲ２はそれぞれ１〜３の整数てあり、Ｒ１およびＲ２
はそれぞれアミン基、モノアルキルアミノ基、ジアルキ
ルアミノ基、アセチルアミノ基、ヘンソイルアミノ基（
置換ヘンシイルアミノ基を含む）であり、ＸＩとＸ２、
ｎ、とＲ２およびＲ１とＲ２はそれぞれ互いに同してあ
っても異なっていてもよく、ＭはＣｒまたはＣｏ原子で
あり、Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム
、脂肪族アンモニウム（Ｗ換脂肪族アンモニウムを含む
）または脂環族アンモニウムである）ｖｉ）ナフトキノ
ン系、アントラキノン系色素二（ただし、Ｒは水素原子
、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基
である）（たたし、 Ｒは水素原子、 アルキル基、 アリ ル基、 アミノ基または置換アミン基である） （たたし、 Ｒは水素原子、 アルキル基、 アリ ル基、 アミン基または置換アミン基である） 〜１０の整数である） （ただし、 Ｘはハロゲン原子である） なとを挙げることかてきる。

これらの色素のうちて、本発明の方法を好ましく適用す
ることかできるのはシアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素およ
びイミタゾキノキサリン系色素である。なお、これらの
色素は単独てもあるいは二種以上の混合物として用いて
もよい。また、シアニン系色素を用いる場合に、上記金
属錯塩系色素またはアミニウム系・シインモニウム系色
素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなとのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒトロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなとの
エーテル、エタノール、ｎ−フロパノール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなとのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなとのアミド、２．２．３．３−テトラフロ
ロプロパツール等フッ素系溶剤などを挙げることかでき
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤なとの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばセラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなとの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共用合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物なと
の合成有機高分子物質を挙げることかできる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、ティ
ップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることかできる
。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１０〜９５％（重量比）の範
囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は般に０，
０１〜１０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０２〜１
μｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみなら
ず両面に設けられていてもよい。

上記色素記録層の上には反射層か設けられる。

反射層を設けることにより、反射率の向上の効果の他、
情報に再生時におけるＳ／Ｎの向上および記録時におけ
る感度の向上の効果か得られる。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
Ｉ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ
、Ｂｉなとの金属および半金属を挙げることかできる。

これらのうちで好ましいものはＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ
、Ａｎ、ＣｒおよびＮｉである。これらの物質は単独で
用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せてまたは合
金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーテインクすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００又の範囲にあ
る。

そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒１体
全体を物理的および化学的に保護する目的で紫外線硬化
型樹脂からなる保護層が設けられる。また、この保護層
は、基板の記録層が設けられていない側にも耐傷性、耐
湿性を高める効果も有する。

本発明の保護層の形成材料は、■重合性二重結合を少な
くとも５個存する化合物を少なくとも一種、■重合性二
重結合を３または４個有する化合物を少なくとも一種お
よび■フッ素原子あるいは硅素原子を有する化合物から
なる。

■重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物と■重
合性二重結合を３または４個有する化合物との重量比は
、一般に０．５：９８〜２０：８０（■：■）の範囲で
あり、２：９８〜２０：８０の範囲にあることが好まし
く、特に３：９７〜１５：８５（■：■）の範囲にある
ことが好ましい。■フッ素原子あるいは硅素原子を有す
る化合物か、紫外線硬化型樹脂（■重合性二重結合を少
なくとも５個有する化合物と■重合性二重結合を３また
は４個有する化合物の総量）に対して０．０１〜５．０
重量％の割合て含まわていることが好ましく、特に０．
０２〜３．０重量％の割合で含まわでいることが好まし
い。さらに、光重合開始剤が紫外線硬化型樹脂に対して
０．１〜５．０重量％の割合で含まれていることが好ま
しい。紫外線硬化型樹脂は、更に帯電防止剤、酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて含まれて
いても良い。

■重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物として
は、 ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリ
トールへキサメタクリレートおよびジペンタエリスリト
ールペンタメタクリレートなどの多官能子ツマー１多官
能ウレタンくメタ）アクリレート、エポキシ（メタ）ア
クリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等の（
メタ）アクリレートの多官能オリゴマー類を挙げること
かてきる。上記多官能子ツマ−か高い硬度と優わた密着
性かえられることから好ましい。これらの化合物は、一
種でも二種以上組合せて使用することかできる。

■重合性二重結合を３または４個有する化合物としては
、 ペンタエリスリトールテトラアクリレート、テトラメチ
ロールメタンテトラアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、 Ａ−１ ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＣＨ＝＝ＣＨ２ Ａ−２ 多官能特殊アクリレートである東亜合成化学工業■製の
アロニックスＭ−３１５（上記構造式ＴＡ−１）、同Ｍ
−３２５（上記構造式ＴＡ−２）、多官能ポリエステル
アクリレートである東亜合成化学工業■製のアロニック
スＭ−７１００、四Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同
Ｍ−８１００を挙げることができる。これらの中でトリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、アロニックスＭ−３１５
（上記構造式ＴＡ−１）、同Ｍ−３２５（上言己構造式
ＴＡ−２）が好ましい。これらの化合物は、一種でも二
種以上組合せて使用することがてきるが、二種以上用い
ることが種々の物性のバランスを得る上で好ましい。

■フッ素原子あるいは硅素原子を有する化合物としては
、フッ素原子あるいは硅素原子を有する界面活性剤であ
ることが好ましい。

フッ素原子あるいは硅素原子を有する界面活性剤の例と
しては、例えば下記のものを挙げることかできる。

以下仝臼 Ｓ−１ ｆｃ２Ｈ，、）３Ｓｉ（ＣＨ２）ｎｃＯＯＨｎ＝６−１
０ Ｃ６Ｈ，、（ＣＨ３）　２Ｓ工（ＣＨ２）２ＣＯＯＨＨ
ＯＯＣＣ２Ｈ４Ｓｌ　（ＣＨ３）　２０　（ＣＨ３）　
２ＳｉＣ２Ｈ４Ｃ（Ｘ）ＨＩＣＨ３）３ＳｉＯ５ｉ　（
ＣＨ２）　２５ＣＨ２ＣＯＯＨ０ｃＨ３）３Ｓｉ○］２
Ｓｉ　（ＣＨ３）（ＣＨ２１３０ｓ０３Ｈ（Ｃ４Ｈ９０
）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ４ＮＨ２）２・２Ｒ−ｃＯＯＨ［１
ｃＨ３＋３ｓｉ○〕３Ｓｉ（ＣＨ２）３ＮＮ（（ＣＨ２
）ＮＨ２−Ｂ ［（ＲＮＲ’Ｒ”）　、−ａＳｘ　（Ｒ″’）　ａ］　
（ａ−ａ）　・（４ａ）Ｃ１ＨＯ（Ｃ２Ｈ４Ｃ）　３Ｓ
ｉＣ２Ｈ４Ｃｏｏ　（Ｃ２Ｈ４０）３Ｈ（ＣＨ３）　３
ＳｉＣ６Ｈ４ＱＣ２Ｈ４０ＨＣｒ　５Ｈ１７Ｓｘ　［ｏ
　（Ｃ２ＨａＯ）　ｎＨ］３ｎ＝　１　〜２ ｎ＝ｏ〜２０ ｍ＝ｏ〜２０ ｘ＝１〜２０ ゜：０〜２０ χ＝１〜２０ −Ｉ Ｒ，ＣＯＯＭ Ｒ（Ｓ０２　　Ｎ　　（Ｒ’　　）２　　ＣＨ２ＣＯＯ
ＭＲｒ　　Ｂ　Ｎ　Ｒ’　　Ｃ２Ｈ４０ＳＯ，ＭＲ，Ｓ
Ｏ３Ｍ Ｒｒ　　ＣＨ２０ＣＩＩＨ２−５０３Ｍ　　　　ｍ＝１
〜２０ＭＯ３５−ＣＨＣＯＯＣＨ２Ｒ。

ＣＨ２ＣＯＯＣＨ２Ｒ。

■ Ｒｒ　　Ｂ　Ｎ　Ｃ．Ｊ（２−Ｃ　Ｐ　　（　Ｏ　Ｈ　
）　　２Ｒ’　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
ｍ＝１　〜２０Ｆ　−　１　２ Ｆ　−　１　３ Ｆ　−　１　４ Ｒ，ＯＨ Ｒｆ　Ｂ　Ｎ　　（Ｃｔ　　Ｈ４　０　）、Ｈ（ＣＨ２ ＣＨ）　　。

ｎ−１　　〜２０ ＣＯＯＣＨ　２　Ｒ。

ｎ＝１　　〜２０ たたし、Ｒ，は、フッ素原子を含むアルキル基を表わし
、Ｒ．Ｒ’　、Ｒ”およびＲパ°は、水素原子またはア
ルキル基を表わし、Ｂは、ＣＯ、ＳＯ２を表わし、Ｘは
ハロゲン原子を表わし、ＨＸは酸を表わす。

上記化合物はｒ界面活性剤ハンドブック」（工学図書株
式会社、１９７８年５月発行）の３２頁および３４頁に
記載されている。

フッ素原子あるいは硅素原子を有する化合物はフッ素原
子あるいは硅素原子を有する重合性モノマーでも良く、
その例としては、 ＣＨ２−ＣＨＣＯＯＣＨ２ＣＦ３ ＣＨｚ＝ＣＨＣＯＯＣＨｚ　（ＣＦ２）　２Ｈ・ＣＨ２
−ＣＨｆｌ；ＯＯＣＨ２（（：Ｆ２）　４ＨＧＨｚ＝に
ＨＣＯＯ（：Ｌ　（ＣＨ２）　２　（ＣＦ２）　８ＨＣ
Ｈ２＝Ｃ　（Ｃ）Ｈ３）ＣＯＯＣＨ２ＣＦ３ＣＩ（２〜
Ｇ　（（：Ｈ３）ＣＯＯにＨ２　（ＣＦ２）　２ＨＣＨ
２−Ｃ　（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）　４ＨＣＨ
２−Ｃ　（ＣＨ３）ＣＯＯＣＨ２　（（：Ｈ２）　２　
（ＣＦｚ）　ａＨを挙げることができる。

保護層の形成は、上記化合物を樹脂基板を溶解可能な有
機溶剤と色素を溶解可能な有機溶剤とを含む有機溶剤組
成物に溶解して粘度か１０ｅｐｓ（２５℃）以下の紫外
線硬化型樹脂塗布液を調製し、該円環状反射層が設けら
れた以外の領域に存在する色素記録層の露出部分を除去
しながら、該反射層と該円盤状樹脂基板の全表面に塗布
した後、該塗布層に紫外線を照射することにより行なわ
れる。

上記樹脂基板を溶解可能な有機溶剤と色素を溶解可能な
有機溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソル
ブアセテートなとのエステル、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタン、クロロホ
ルムなとのノ＼ロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン
、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル、エタノ
ール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ　−ブ
タノールなどのアルコール、ジメチルホルムアミドなど
のアミド、２．２．３．３、テトラフロロプロパニール
等のフッ素系溶剤などを挙げることかできる。樹脂基板
を溶解可能な有機溶剤は般に脂肪族炭化水素溶剤、低級
アルコールを除く上記溶剤であり、色素を溶解可能な有
機溶剤は、色素により異なるか、例えばシアニン色素の
場合は一般にハロゲン化炭化水素、フッ素系溶剤なとで
ある。

紫外線の照射は、例えば高圧水銀灯（８０〜２００　ｗ
　／　ｃ　ｍ　）を用いて、照射距ｌ１１１０〜５０ｃ
ｍで、０．１〜１００秒間、塗布層に紫外線を照射する
ことにより行なうことかてきる。

保護層の層厚は５μｍ未満であり、０．５〜３μｍの範
囲か好ましい。

以下に、 本発明の実施例および比較例を記載す る。

たたし、 これらの各側は本発明を制限するも のではない。

［実施例１ ］ 下記の構造の色素： １　。

ｇおよび上記色素に下記の色素 ＲＧ− ０２３、日本化薬■製）： ０　。

７ｇを、 ２゜ ２　。

３　。

３−テトラフロロブ ロバツールに溶解して色素記録層塗布液（濃度 １．７＠量％）を調製した。

トラッキンクガイトか設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１２０ｍｍ、内径。

１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、トラックピッチ＝１．６
μｍ、グループの深さ：９００λ）上に、上記塗布液を
スピンコード法により回転数１０００　ｒｐｍの速度で
塗布した後、乾燥して＠厚か１３００Ｘの記録層を形成
した。

上記色素記録層上に、Ａｕを蒸着して膜厚が１３００λ
の反射層を基板の内径４４ｍｍから１１６ｍｍの範囲に
形成した。その際、反射層は添付第２図示すように、第
３図の孔部の周縁部に設けられた内周側非記録領＠３３
および該外周縁部の内側に設けられた内周側非記録領域
３４以外に設けるためマスクを用いて蒸着を行なった。

上記反射層上に、保護層形成用塗布液（第１表のＡ）を
スピンコード法により塗布した後、高圧水銀灯（１００
ｗ／ｃｍ）を用いて照射距１１１２０ｃｍで３０秒間紫
外線を照射して硬化させ、層厚２μｍの保護層を形成し
た。この際、上記内周側非記録領域３３および該外周縁
部の内側に設けられた内周側非記録領域３４に存在した
色素は除去され、保護層は添付第１図に示すように反射
層上および上記の内周側非記録領域および外周側非記録
領域全面に設けられた。

このようにして、基板、色素記録層、反射層及び保護層
からなる情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のへの
代わりに第１表のＢを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例２］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のへの
代わりに第１表のＣを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例３］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のへの
代わりに第１表のＤを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［実施例２］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のＡの
代わりに第１表のＥを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例４］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のＡの
代わりに第１表のＦを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例５］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のＡの
代わりに第１表のＧを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例６コ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のＡの
代わりに第１表のＨを用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

［比較例７］ 実施例１において、保護層形成用塗布液を第１表のＡの
代わりに第１表の■を用いた以外は実施例１と同様にし
て情報記録媒体を製造した。

第１表 ■ ＴＭＭＴＡ　　　５５　　５５　　５５　　５５　　−
−　　−−　　−−　　５５　　５５特殊Ｔ八　４０　
４０　４０　４０　４０　−−　−−　４０　４０ＤＰ
ＨＡ　　　　　５　　　５　　　５−５　　５　　　５
　　　５　　　５ＴＭＰＴＡ　　　　−−−−−−−−
５５５５５５１６−ＨＤ　　　−−−−−−−−−−４
０２−ＥＨＡ　　　　−−−−−−−−−−−−４０３
００−−弗素物　０．５０．５−０．５０．５０．５０
．５０．５−開始剤　２２２２２２２２２ トルエン ＥｔＡｃ ｅｌＡｃ ＡＡ 第１表における略号は以下のとおりである。

ＴＭＭＴＡ　　：テトラメチロールメタンテトラアクリ
レート 特殊ＴＡ：特殊トリアクリレート化合物（前記構造式：
　ＴＡ−１、アロニックスＭ−３１５、東亜合成化学工
業■製） ＤＰＨＡ　ニジペンタエリスリトールへキサアクリレー
ト ＴＭＰＴＡ　　：　ｌ−リメチロールブロバントリアク
リレート １．６−ＨＤ：　１　、　６−ヘキサンジオールジアク
リレート ２−ＥＨＡ　　・２−エチルへキシルアクリレート弗素
物二弗素系界面活性剤（Ｆ−１７７、第日本インキ化学
工業■製） 開始剤：　（イルガキュアー１１７３、チバガイキー■
製） ＥｔＡｃ：エチルアセテート Ｃｅ１Ａｃ　：セロソルブアセテート ＤＡＡ　：ジアセトンアルコール ［情報記録媒体の評価コ ■）密着性 上記で得られた情報記録媒体の保護層表面にマイラーテ
ープ（スコッチ■製）を完全に密着させ、表面に対して
９０度の角度て引っ張って剥離し、保護層か剥離しなか
ったものをＡＡ、剥離したものをＣＣとした。

２）耐傷性 上記で得られた情報記録媒体の保護層表面を、ＪＩＳ　
Ｓ　６００６に規定された鉛筆Ｈを用いて鉛筆の芯を表
面に対して４５度の角度で押しつけ、前方に押し出して
表面に傷かつかなかったものをＡＡ、傷かついたものを
ＣＣとした。

３）保存安定性 上記て得られた情報記録媒体について、光デイスク評価
機（ＤＤＵｌｏｏＯ、パルステック工業■製）を用いて
、記録する際のレーサーパワー（記録パワー）を６ｍＷ
、線速度：１．２ｍ／秒にてＥＦＭ信号を記録した。記
録した情報記録媒体について、１０００時間保存後（８
０℃、８０％ＲＨ）、　　ジッターの測定を行なった。

ジッターの測定は、上記評価機による再生て得られるＲ
Ｆ再生信号をパルスジッターカウンター（ＴＲ５８３５
、アトハンチスト−製）に入力して行なった。測定条件
は、再生パワー、ｏ６５て行なった。測定条件は、再生
パワｍ：０．５ｍＷ、線速度：１．２ｍ／秒、再生イス
号出力ＡＣカップリンク、ウィンドー幅：下側５７５ｎ
ｓ、上側８１２．５ｎｓ、極性、＋、スライスレベル：
０■にて行なった。

ジッターか３０ｎｓ未満のものをＡＡ、３０ｎｓ以上の
ものをＣＣとした。

４）密着性１　（高温高湿保存後） 上記の１０００時間保存後（８０℃、８０％ＲＨ）の情
報記録媒体の保護層について１）の密着性のテストを行
ない、保護層か剥離しなかったものをＡＡ、剥離したも
のをＣＣとした。

５）外観 上記で得られた情報記録媒体の保護層の外観を目視で観
察した。均一な層厚で層厚ムラのないものをＡＡ、ある
ものをＣＣとした。

得られた結果を第２表に示す。

第２表 実 比 比 比 実 比 比 比 比 級ユ （ｃｐｓ） 七 （μｍ） 蜜ｊＬ性 耐」［性 安ｊＬ性 密」Ｌ性“ 第２表が示すように、本発明に従う、重合性−重結合を
３または４個有するモノマーおよび５個以上有する千ツ
マ−からなり且つ弗素系界面活性剤を含む実施例１およ
び２の情報記録媒体は、密着性、耐傷性に優れ、保存後
のジッター、密着性も良好で、耐久性が顕著に優れてい
ることか分かる。また外観も良好である。

一方、層厚の厚い比較例１は、密着性、外観か劣り、界
面活性剤のない比較例２．５官能以上の千ツマ−を含ま
ない比較例３．２官能モノマーを含む比較例４、単官能
モノマーを含む比較例５および６は、保存安定性が劣）
ている。また、比較例２において溶剤を少なくして比較
的粘度の高い状態で塗布した比較例７は、さらに外観か
不良となっている。さらに、全ての比較例が保存後の密
着性に問題がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の構成を示す部分断面
図である。 第２図および第３図は、本発明の情報記録媒体の製造方
法を説明するための部分断面の模式図である。 １０．２０．３０：孔部 １１．２１．３１：円盤状樹脂基板 １２．２２．３２：色素記録層 ２３・部分的に塗布されない領域 １３．３３：内周側非記録領域 １４．３４：外周側非記録領域 １５．３５：反射層 １６　保護層 特許出願人　富士写真フィルム株式会社代　　理　　人
　　弁理士　　　柳　　川　　泰　　男第 図 ○ 第 図 第 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、円盤状樹脂基板上に、円環状に設けられたレーザー
   による情報の記録が可能な色素記録層、該円環状記録層
   上に、それぞれの内周側縁部と外周側縁部が一致するよ
   うに積層された金属からなる円環状反射層、そして内周
   側縁部と外周側縁部が該反射層の内周側縁部と外周側縁
   部をそれぞれ越えて伸び、円盤状基板表面に接触するよ
   うに該反射層上に設けられた保護層からなり、且つ該保
   護層が、重合性二重結合を少なくとも５個有する化合物
   と重合性二重結合を３または４個有する化合物との重合
   反応による硬化層であり、その硬化層中にフッ素原子ま
   たは硅素原子を有する化合物を含有し、そして該保護層
   の層厚が５μｍ未満であることを特徴とする情報記録媒
   体。 ２、円盤状樹脂基板上に、レーザーによる情報の記録が
   可能な色素記録層を塗布形成する工程、該記録層上に円
   環状反射層を形成する工程、重合性二重結合を少なくと
   も５個有する化合物、重合性二重結合を３または４個有
   する化合物およびフッ素原子または硅素原子を有する化
   合物を少なくとも樹脂基板を溶解可能な有機溶剤と色素
   を溶解可能な有機溶剤とを含む有機溶剤組成物中に溶解
   した、粘度が１０ｃｐｓ（２５℃）以下の紫外線硬化型
   樹脂塗布液を、該円環状反射層が設けられた以外の領域
   に存在する色素記録層の露出部分を除去しながら、該反
   射層と該円盤状樹脂基板の全表面に塗布した後、該塗布
   層に紫外線を照射することにより保護層を形成する工程
   を含むことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。