JPH02246033A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野１ 本発明は、高エネルギー密度のレーザビームを用いての
情報の書き込みおよび／または読み取りが可能な情報記
録媒体の製造方法に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
などとして使用されている。

光ディスクは基本構造として、ガラス、合成樹脂などか
らなる円盤状の基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ
、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属；またはシアニン系
、金属錯体系、キノン系等の色素からなる記録層とを有
する。なお、記録層が設けられる側の基板表面には通常
、基板の平面性の改善、記録層との接着力の向上あるい
は光ディスクの感度の向上などの点から、高分子物質か
らなる中間層が設けられることが多い。

また、情報記録媒体の耐久性を向上させる目的で、記録
層上に保護層を設けたり、あるいはディスク構造として
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも−枚の基板上に
記録層を設け、この二枚の基板を、記録層が内側に位置
し、かつ空間を形成するようにリング状内側スペーサと
リング状外側スペーサとを介して接合してなるエアーサ
ンドイッチ構造が提案されている。このような保ｉ層が
設けられた光ディスクやエアーサンドイッチ構造を有す
る光ディスクでは、記録層は直接外気に接することがな
く、情報の記録、再生は基板を透過するレーザー光で行
なわれるために、記録層が物理的または化学的な損傷を
受けたり、あるいはその表面に塵埃が付着して情報の記
録、再生の障害となることがないとの利点がある。

一方、光ディスクへの情報の書き込みおよび読み取りは
通常下記の方法により行なわれる。

情報の書き込みはレーザビームをこの光ディスクに照射
することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光を
吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的な
変化（たとえば、ピットの生成）が生じてその光学的特
性を変えることにより情報が記録される。情報の読み取
りもまた、レーザビームを光ディスクに照射することに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光または透過光を検出することにより情報が再生される
。

このような情報記録媒体の記録層を形成する記録材料と
して上記のように金属類や色素等が知られている０色素
を用いた情報記録媒体は、金属等の記録材料に比べて高
感度であるなど記録媒体自体の特性において長所を有す
る他に、記録層を塗布法により簡単に形成することがで
きるという製造上の大きな利点を有している。しかしな
がら。

色素からなる記録層は、一般に反射率が低いとの欠点が
あるため１反射率を向上させる目的で色素記録層の上に
金属の反射層が設けられることが多い、モして、さらに
これらの層を保護するため上記反射層上には、保護層が
設けられる。保護層は、他の保護方法であるディスクの
構造をサンドイッチ構造する方法に比べて、製造が簡便
であり且つ製造コストがかからない等の点で有利である
。

しかしながら、反射層上に設けられた保護層は１反射層
に強力に密着しているとは言えず、保護層形成後に剥離
が発生したり、あるいは長期保存または使用している間
に剥離してくることが多かった。

また、上記のように色素記録層１反射層および保！！層
からなる構成を有する光ディスクは、ピットを形成する
ことなく相変化あるいは色素層の形状変化等により惹起
する記録部分の反射率の変化により情報の記録を行なっ
ている。このような構成の光ディスクは、Ｃ／Ｎ、ジッ
ター等の記録再生特性が充分に優れたものとは言えず、
この点でも保護層の改善が望まれている。

前記保護層の密着性を向上させるために種々の検討がな
されている１例えば、保護層を厚くして強度を向上させ
ることにより密着性を確保する試み、あるいは保護層の
種類を変えて密着性を改善する試みが行なわれている。

しかしながら、保護層を厚くしたのでは、強度は向上す
るものの密着性は逆に低下し剥離し易くなる。また、保
護層を変更した場合、その種類により密着性が良好なも
のもあるが、そのような保護層は保護層自体の強度が不
充分との問題がある。また前記記録再生特性の改善につ
いては有効な手段は見出だされていない。

従って、反射層との密着性が優れ、且つ保護層としての
強度もある。すなわち耐久性において充分に優れた性能
を有し、且つ記録再生特性も優れた保護層は得られてい
ない。

［発明の目的］ 本発明は、樹脂基板上に色素記録層、反射層および保護
層が、この順で設けられた、外観が良好で、そして向上
した耐久性および優れた記録再生特性を有する情報記録
媒体の製造方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨］ 本発明は、中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上に、レ
ーザーにより情報の読み取りおよび／または書き込みが
可能な色素からなる記録層を塗布により設ける工程。

該記録層上に、金属からなる反射層を形成する工程、 該反射層にグロー放電処理を行なう工程、次いで、該反
射層上に保護層を設ける工程、を含むことからなる情報
記録媒体の製造方法にある。

上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下のとおりである。

１）上記保護層が、塗布により設けられることを特徴と
する上記情報記録媒体の製造方法。

２）上記保護層が、スピンコーターを用いて塗布するこ
とにより行なわれることを特徴とする上記情報記録媒体
の製造方法。

３）上記樹脂基板の材料が、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンまたはセルキャストポリメチルメタクリレート
であることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

４）上記反射層の材料が、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐ
ｔ、Ｃｒ、’ｒｉおよびＡｌからなる群より選ばれる少
なくとも一種の金属よりなることを上記情報記録媒体の
製造方法。

５）上記保護層の材料が、紫外線硬化型樹脂からなるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

６）上記色素が、シアニン系色素、アズレニウム系色素
、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン系色素
およびスクワリリウム系色素から選ばれる少なくとも一
種の色素であることを特徴とする上記情報記録媒体の製
造方法。

［発明の効果］ 上記本発明の特定の製造方法により得られた情報記録媒
体は、反射層の表面がグロー放電により処理されている
ため、反射層上に設けられた保護層との密着性が顕著に
向上している。これにより、情報記録媒体の耐久性が向
上するだけでなく、Ｃ／Ｎ、ジッター等の記録再生特性
も向上している。

このような記録再生特性の向上の理由は、次のように考
えられる。すなわち、反射層と保護層が極めて強力に密
着されているため、反射層全面に均一な力により押えら
れている。従って、情報の記録時に、レーザーの照射に
よってもたらされる１色素記録層または、反射層および
色素記録層の形状変化などが不均一とならずに起こり、
信号の記録が正確に行なわれると考えられる。

さらに１本発明のグロー放電処理した反射層上に、強度
が大きく、生産性に優れた紫外線硬化型樹脂からなる保
護層を設けた場合、該保護層の上記グロー処理反射層へ
の密着性が特に優れたものとなることから、このような
構成を採ることにより顕著に向上した耐久性を有する情
報記録媒体を得ることができる。

［発明の詳細な記述］ 本発明の製造方法により得られる情報記録媒体は、基板
上に、色素記録層、反射層そして保護層がこの順で設け
られた基本構成を有する。このような構成は、色素記録
層が製造が簡便であり且つ高感度である、反射層が色素
層の欠点である低反射率を向上させる、そして保護層が
上記二層を保護し光ディスクの耐久性を向上させる、と
いうように三層のそれぞれの役割を分担するという考え
方に立脚している。

上記構成を有する情報記録媒体を製造するには、まず色
素からなる記録層は、一般にスピンコーターなどを用い
て基板上はぼ全面に塗布される。ただし、通常、基板の
内周側には記録層は設けられない、すなわち、光ディス
クを記録再生ドライブで回転させる際、光ディスクの内
周側にドライブ内のクランプに固定させるためのクラン
プエリアがあり、一般にはその近傍に色素が付着しない
ように塗布が行なわれる。この上に設けられる反射層は
、色素記録層上または記録層より内側に設けられるのが
一般的である。そして、反射層の上には、例えばＵＶ硬
化性樹脂などの保護層が塗布により設けられる。

このようにして製造される情報記録媒体では、主に耐久
性の向上を目的として形成された保護層は、下の反射層
との密着性がそれほど良好なものではないこと、また上
記構成の光ディスクは記録再生特性において充分に優れ
たものでないことが判明した。

本発明者等は上記問題を解決するため種々検討を重ねた
ところ、反射層形成後、該反射層にグロー放電処理を行
ない、次いで保護層を設けることにより反射層と保護層
との密着性が格段に向上することが明らかとなった。そ
して、このようにして設けられた保護層を有する情報記
録媒体は記録再生特性においても優れていることが分か
った。

すなわち、本発明の情報記録媒体の製造方法は、例えば
以下のように行なわれる。添付第１図〜第３図を参照し
ながら詳しく説明する。

第１図は、中央に孔部１０を備えた円盤状樹脂基板１１
、その上に塗布により設けられた色素からなる記録層１
２および該孔部の周縁部近傍に部分的に塗布されない債
城１３からなる部分断面図である０円盤状樹脂基板ｌｌ
上に、色素記録層形成用塗布液をスピンコードを用いて
塗布し１色素からなる記録層１２を形成する。塗布され
ない領域１３は、塗布時の条件によりその面積が異なル
、一般に、クランプエリアとして内周側に色素記録層を
設けない領域が確保される。塗布方法をスピンコード以
外のロールコータ−やディッピングなどで行なった場合
は、この塗布されない領域１３は通常存在しない。

第２図は、中央に孔部２０を備えた円盤状樹脂基板２１
．基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層２
２、その上に設けられた反射層２５、鎖孔＠２０の周縁
部に設けられた内周側非記録領域２３および該外周縁部
の内側に設けられた外周側非記録領域２４からなる部分
断面図である。第１図の色素からなる記録層１２上に、
スパッタリング等により金属からなる反射層２５を形成
する。その際、反射層２５は第１図の色素記録層１２上
に設けても良いが、第２図に示すように第１図の該孔部
の周縁部近傍および該基板の外周縁部近傍にある該色素
塗布層１２を除去することにより基板表面を露出させて
、反射層と基板が内外周部で接するように設けられるこ
とが好ましい、このように反射層２５は、内外周側の基
板の露出部分の一部にまで設けられ、その残った基板露
出部分が、内周側非記録領域２３および外周側非記録領
域２４となる。

上記反射層２５の形成は、内周側非記録領域２３および
外周側非記録領域２４を確保するため、通常この部分を
マスクしてスパッタリング等により行なわれる。

あるいは、第１図で、内外周側の色素層を除去せずに、
反射層を上記マスクを用いて設けた後、反射層が存在し
ない部分に残っている内外周側にある色素層を、溶剤噴
霧等により除去し、これにより内周側非記録領域２３お
よび外周側非記録領域２４を確保することもできる。内
外周側非記録領域を確保することで保護層と基板がこの
部分で良好な密着性を得ることができるので耐久性の向
上に寄与できる。

本発明の製造方法では、こうして形成された反射層にグ
ロー放電処理を行なうことが必要である。

グロー放電は、気体放電の一形式で、真空度ｌ〜１００
０　ｗＴｏｒｒ程度、冷陰極放電電流が０．０１−１．
０ｍＡ程度の場合に起こる。陰極の近傍にグロー発光が
観測されることからグロー放電と呼ばれる。

このグロー放電は陰極電流が小さいときは、放電が陰極
全面に発生しない、電流を増加させると放電発生部の電
流密度が一定に保たれながら、放電が陰極全面に広がる
。放電が陰極全面に広がった後は、電流を増加させると
陰極電流密度が増加する。放電が陰極全面に広がるまで
を正規グロー放電、放電が陰極全面に広がった後を異常
グロー放電という。

本発明のグロー放電処理は、上記陰極の位置に反射層が
設けられた基板を配置して行なわれる。

グロー放電はどのような装置を用いて行なっても良いが
、上記異常グロー放電を利用するスパッタリング装置を
用いて、逆スパツタリングによりグロー放電処理を行な
うことが好ましい。

装置としては、２極ＲＦグロー放電スパツタ、２極ＤＣ
グロー放電スパツタ、マグネトロンスパツタ等を用いる
ことができる。２極ＲＦグロー放電スパツタを用いて、
逆スパツタリングにより、グロー放電処理を行なうこと
が好ましい。

グロー放電の条件としては、電力が１０〜２ｏｏｏｗ、
電圧が５００〜２０００ｖ、ターゲット距離（電極間距
離）が３０〜３００ｍｍの範囲が好ましく、グロー放電
ガスとしはＡｒ、Ｎ２．０２　、Ｎｅ、Ｋｒ、Ｘｅ、Ｈ
ｇおよびこれらの混合物を挙げることができる。グロー
放電の処理時間は、０．１〜５分の範囲好ましい、グロ
ー放電処理を行なった反射層上には下記のように保護層
が設けられる０反射層をグロー放電処理した後保護層を
設けるまでの間隔は、できるだけ短かい方が良く、好ま
しくは０〜２時間の範囲である。

上記グロー放電処理を反射層上に行なった場合、反射層
表面にイオン注入により微細な空洞が生じ、反射層の表
面が多孔質化する、あるいは金属が酸化等のため極性基
を持つようになる。従って１反射層表面の保護層に対す
る濡れ性が向上し、密着性も強力なものとなると考えら
れる。

第３図は、中央に孔部３０を備えた円盤状樹脂基板３１
、基板上に塗布により設けられた色素からなる記録層３
２、その上に設けられた反射層３５、さらに反射層上に
設けられた保護層３６からなる部分断面図である。保護
層３６は、反射層３５上および第２図の内周側非記録領
域２３および外周側非記録領域２４全面に設けられるこ
とが好ましい、このように保護層を形成することによっ
て、色素記録層３２および反射層３５は保護層３５によ
って完全に覆われるので、保護層の保護機能が充分に発
揮できる状態になる０本発明では、反射層と保護層間の
密着性が顕著に向上しているので、特に上記のように保
護層の形成位置に配慮しなくても良好な耐久性を得るこ
とが可能である。

このようにして製造された情報記録媒体は、反射層の表
面がグロー放電により処理されているため、反射層上に
設けられた保護層との密着性が顕著に向上している。こ
れにより、情報記録媒体の耐久性の向上するだけでなく
、Ｃ／Ｎ、ジッター等の記録再生特性も向上している。

このような記録再生特性の向上の理由は、次のように考
えられる。すなわち、反射層と保護層が極めて強力に密
着されているため、反射層全面に均一な力により押えら
れている。従って、情報の記録時に、レーザーの照射に
よってもたらされる、色素記録層または、反射層および
色素記録層の形状変化などが不均一とならずに起こり、
信号の記録が正確に行なわれると考えられる。

さらに、本発明のグロー放電処理した反射層上に、強度
が大きく、生産性に優れた紫外線硬化型樹脂からなる保
護層を設けた場合、該保護層の上記グロー処理反射層へ
の密着性が特に優れたものとなることから、このような
構成を採ることにより顕著に向上した耐久性を有する情
報記録媒体を得ることができる。

本発明の情報記録媒体の製造は、たとえば以下に述べる
ような材料を用いて行なうことができる。

本発明において使用する円盤状樹脂基板は、従来の情報
記録媒体の基板として用いられている各種の材料から任
意に選択することができる。基板の光学的特性、平面性
、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストなど
の点から、基板材料の例としては、セルキャストポリメ
チルメタクリレート、射出成形ポリメチルメタクリレー
ト等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重
合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹脂；ポリカーボ
ネート樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエ
ステルを挙げることができる。好ましくは、ポリカーボ
ネート、ポリオレフィンおよびセルキャストポリメチル
メタクリレートを挙げることができる。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の変
質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい、下塗層
の材料としてはたとえば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン−ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン拳酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート等の高分子物質；シランカップリング剤などの有機
物質；および無機酸化物（Ｓ　ｉ０２　、Ａｌｚ　０３
等）、無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無機物質を挙げ
ることができる。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコ
ード、デイツプコート、エクストルージョンコートなど
の塗布法により基板表面に塗布することにより形成する
ことができる。下塗層の層厚は一般にＯ，ＯＧ５〜２０
ＩＬｍの範囲にあり、好ましくは０．Ｏ１〜１０＃Ｌｍ
の範囲である。

また、基板（または下塗層）上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層および／またはプレピット層が設け
られてもよい、プレグルーブ層等の材料としては、アク
リル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよ
びテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（
またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いる
ことができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンバ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる０
次いで、基板を母型から剥離することによりプレグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の層
厚は一般に０．０５〜１０　Ｑ　ｐｍの範囲にあり。

好ましくは０．１〜５０ｐｍの範囲である０本発明のよ
うに、基板材料がプラスチックの場合は、射出成形ある
いは押出成形などにより直接基板にプレグルーブおよび
／またはプレピットが設けられてもよい。

基板（またはプレグルーブ層等）上には１色素からなる
記録層が設けられる。木発甲に使用される色素は特に限
定されるものではなく、どのようなものでも良い０例え
ば、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ビリリウ
ム系拳チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリリウム系色素、Ｎｉ　、Ｏｒなどの金属錯塩系色
素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、インドフ
ェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニル
メタン系色素、トリアリルメタン系色素、アルミニウム
系・ジインモニウム系色素およびニトロソ化合物を挙げ
ることができる。

これらのうちでも記録再生用レーザーとして近赤外光を
発振する半導体レーザーの利用が実用化されている点か
ら、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対する吸収
率が高い色素が好ましい。

その好ましい例としては、 ｉ）シアニン系色素： ［１１（ＣＨ３）２Ｎ−（ＯＲ−ＣＨ）ｓ−ＣＨ＝ＩＮ
（ＣＨ３）ｚ　０文０４（ただし、Ｒは水素原子または
Ｎ（ＣＨ３）２である） ［４１４ｐ　°　−Ｌ　＝　９　　　　（Ｘ”−）ｌ／
１（ただし、Φおよび！はそれぞれ芳香族環が縮合して
いてもよいインドレニン環残基、チアゾール環残基、オ
キサゾール環残基、セレナゾール環残基、イミダゾール
環残基、ピリジン環残基、チアゾロピリミジン環残基ま
たはイミダゾキノキサリン環残基であり、Ｌはモノカル
ボシアニン、ジカルボシアニン、トリカルボシアニンま
たはテトラカルボシアニンを形成するための連結基であ
り　）（ａ−は１価の陰イオンであり、ｍは１または２
であり、さらにＸ−はΦ、Ｌまたは！上に置換して分子
内塩を形成しても良く、またΦとＬ、またはＬとψとは
さらに連結して環を形成しても良い） 上記一般式で表わされる具体的な化合物の例としては以
下のａ）〜ｋ）等が挙げられる。

２Ｈ５ しＮ しｎ ｔ、；２ｎｓ ｎ−に４）１ｓ Ｕ輩　ｕ４ ｎ−ｔ、；４ａｗ ｃｉｏ膚 ｌ　０４− Ｃ文Ｏ４ ｉｉ）スクワリリウム系色素： １ｉｉ）アズレニウム系色素： （ただし、Ｒ１とＲ２，１ｌｉ２とＲ３，Ｒ３と７１４
、Ｒ４とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せの
うち少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の複
素環または脂肪族環による環を形成し、鎖環を形成しな
いときのＲＩ　　Ｒ２Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６およびＲ
７はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機
残基であり、あるいはＲ１とＲ２，１ｌｉ３とＲ４，Ｒ
４とＲ５，Ｒ５とＲ６およびＲ６とＲ７の組合せのうち
少なくとも一つの組合せで置換もしくは未置換の芳香族
環を形成してもよ＜、Ａは二重結合によって結合した二
価の有機残基であり、Ｚ−はアニオン残基である。なお
、アズレン環を構成する少なくとも一つの炭素原子が窒
素原子で置き換えられてアザアズレン環となっていても
よい、）ｉマ）インドフェノール系色素： 子である） （ただし、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子、アルキル基
、アシルアミ７基、アルコキシ基またはハロゲン原子で
あり、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３はそれぞれ水素原子、Ｃ１
〜Ｃ２０の置換または未置換のアルキル基、アリール基
、複素環またはシクロヘキシル基であり、Ａは−ＮＨＣ
Ｏ−または−ＣＯＮ）Ｉ−である） ■）金属錯塩系色素： （ただし、Ｒ１−Ｒ４はそれぞれアルキル基またはアリ
ール基であり１Ｍは二価の遷移金属源（ただし　１１１
１およびＲ２はそれぞれアルキル基またはハロゲン原子
であり、Ｍは二価の遷移金属原子である） （ただし、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ置換または未置換
のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ３はアルキル
基、ハロゲン原子または−Ｎ−Ｒ５基（ここで、Ｒ４お
よびＲ５はそれぞれ置換または未置換のアルキル基また
はアリール基である）であり、Ｍは遷移金属原子であり
、ｎは０〜３の整数である） （ただし、（Ｇａｔｌは錯塩を中性ならしめるために必
要な陽イオンであり１ＭはＮｉ、Ｃｕ、Ｇｏ、Ｐｄまた
はｐｔであり、ｎは１または２である） （ただし、Ｘは水素原子、塩素原子、臭素原子またはメ
チル基であり、ｎは１〜４の整数であり、Ａは第四級ア
ンモニウム基である）（ただし、　ＩＣａｔｌは錯塩を
中性ならしめるために必要な陽イオンであり、ＭはＮｉ
、Ｃｕ、Ｇｏ、ＰｄまたはＰｔであり、ｎは１または２
である） 基および／または／Ｘロゲン原子であり、ｆＬｌおよ びＲ２はそれぞれ１〜３の整数であり　Ｒ１およびＲ２
はそれぞれアミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキ
ルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基（
置換ベンゾイルアミノ基を含む）であり、ＸＩとｘ２、
ｎｌとＲ２およびＲ１とＲ２はそれぞれ互いに同じであ
っても異なっていてもよく、ＭはＣｒまたはＣｏ原子で
あり、Ｙは水素、ナトリウム、カリウム、アンモニウム
、脂肪族アンモニウム（置換脂肪族アンモニウムを含む
）または詣環族アンモニウムである）マｉ）ナフトキノ
ン系、アントラキノン系色素：（ただし、Ｒは水素原子
、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミノ基
である）（ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル
基、アミノ基または置換アミン基である）υ （ただし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリル基、アミ
ノ基または置換アミン基である）〜ｌＯの整数である） （ただし、Ｘはｌ＼ロゲン原子である）などを挙げるこ
とができる。

これらの色素のうちで、本発明の方法を好ましく適用す
ることができるのはシアニン系色素、アズレニウム系色
素、スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素およ
びイミダゾキノキサリン系色素である。なお、これらの
色素は単独でもあるいは二種以上の混合物として用いて
もよい、また、シアニン系色素を用いる場合に、上記金
属錯塩系色素またはアミニウム系・ジインモニウム系色
素をクエンチャ−として−緒に用いてもよい。

記録層の形成は、上記色素、さらに所望により結合剤を
溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基
板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することによ
り行なうことができる。

上記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、酢
酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチル
ケトンなどのケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロ
ルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、テ
トラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどの
エーテル、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパ
ツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチルホ
ルムアミドなどのアミド、２，２．３．３、テトラフロ
ロプロパニール等フッソ系溶剤などを挙げることができ
る。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、５０容量
％以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化水
素溶剤、芳香族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含
んでいてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤。

可塑剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加して
もよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の
範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般に０
．０１〜１１０７ｔの範囲にあり、好ましくは０．０２
〜Ｉｇｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい。

上記色素記録層の上には本発明の反射層が設けられる０
反射層を設けることにより、反射率の向上の効果の他、
情報に再生時におけるＳ／Ｎの向上および記録時におけ
る感度の向上の効果が得られる。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
％Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ。

Ｎ　ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ。

Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｎ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ
、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ。

Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙げることができ
る。これらのうちで好ましいものはＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、
Ｐｔ、Ａｉ、ＣｒおよびＮｉである。これらの物質は単
独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまた
は合金として用いてもよい。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸着、スパッタ
リングまたはイオンブレーティングすることにより記録
層の上に形成することができる。

反射層の層厚は一般にはｉｏｏ〜３ｏｏｏｚの範囲にあ
る。

そして該反射層の上には、記録層および情報記録媒体全
体を物理的および化学的に保護する目的で保護層が設け
られる。また、この保Ｍ層は、基板の記録層が設けられ
ていない側にも耐傷性、耐湿性を高める効果も有する。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、５ｉＯ１Ｓｉ０２．５ｉＮａ、ＭｇＦ２．５ｎ０２
等を挙げることができる。また、有機物質としては、熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げる
ことができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である０本発明
においては、上記物質を塗布により設けた場合に顕著な
効果を得ることができる。特に上記有機物質を塗布によ
り設けた場合に有効である。

すなわち、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適当な溶
剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布
し、乾燥することによっても形成することができる。Ｕ
Ｖ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤
に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、
ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ
）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリ
エステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレー
トのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エステル等のモ
ノマー類等さらに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹
脂を使用することができる。これらの塗布液中には、更
に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤
を目的に応じて添加してもよい０本発明では、ＵＶ硬化
性樹脂を用いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には０．１−１００終ｍの範囲にあ
る。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。

あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられてもよい。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ および上記色素に下記の色素： ０．０１モル％添加したものＩｇを、２，２゜３．３−
テトラフロロプロパツールに溶解して色素記録層塗布液
（濃度＝２．７５重量％）を調製した。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のボリカーボネ
ート基板（外径：１３０ｍｍ、内径＝１５ｍｍ、厚さ：
１．２ｍｍ、トラックピッチ＝１．６ＪＬｍ、グループ
の深さ二８００又）上に。

上記塗布液をスピンコード法により回転数１０００ｒｐ
■の速度で塗布した後、該基板をさらに２０００　ｒｐ
ｍの速度で１分間回転させることにより乾燥させ、膜厚
が１２００スの記録層を形成した。

上記色素記録層上に、Ａｕをスパッタリングして膜厚が
１３００スの反射層を形成した。

上記反射層にＲＦグロー放電スパッタ装置を用いて、圧
カニ　２Ｐａ、電カニ５０Ｗ、電圧：１ｋＶ、ターゲッ
ト距離：１１０ｍｍの条件にて逆スパツタリングを行な
うことにより、グロー放電処理を行なった。

上記反射層上に、保護層としてＵＶ硬化性樹脂（商品名
：　３０７０、スリーポンド社製）をスピンコード法に
より回転数１５００ｒｐ−の速度で塗布した後、高圧水
銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚１ｐｍの保護
層を形成した。

このようにして、基板、色素記録層１反射層および保護
層からなる情報記録媒体を製造した。

［比較例１］ 実施例１において、該反射層にグロー放電処理を行なわ
なかった以外は実施例１と同様にして情報記録媒体を製
造した。

［情報記録媒体の評価］ ｌ）上記で得られた情報記録媒体について、発振波長ニ
ア８０ｎｍ、レンズ開口数（ＮＡ）：０．５の半導体レ
ーザーを用いて、記録する際のレーザーパワー（記録パ
ワー）を７　ｍ　Ｗ　、線速度：１．３ｍ／秒および変
調周波数ニア２０ｋＨｚにて記録を行ない、Ｃ／Ｎの測
定をスペクトラムアナライザー（ＴＲ４１３５：アドバ
ンテスト社ＩＩ）を用いて、分解バンド輻：３０ｋＨｚ
、再生パワー：０．５ｍＷにて行なった。

２）りで再生された２値化信号の立上りから立ち下り迄
の時間および立ち下がりから立ち上がり迄の時間を信号
長ごとに多数回測定し、その標準偏差をジッターとした
。

３）上記で得られた情報記録媒体について。

ｌＯ日間保存後（８０℃、８０％ＲＨ）、上記ｌ）のＣ
／Ｎの測定を行なった。

得られた結果を第１表に示す。

第１表 Ｃ／Ｎ　　　ジ−２ター　Ｃ／　Ｎ　（ｄＢ）（ｄＢ）
　　　　　　　（ａｓ）　　　　　１０日後り、反射層
と保護層との密着性が顕著に向上するだけでなく、記録
時の信号も均一なものが得られることを示している。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図および第３図は、本発明の情報記録媒体
の製造方法を説明するための部分断面の模式図である。 実施例１　　　５６　　　　２０　　　５６比較例１　
　　５３　　　　２３　　　５１第１表が示すように、
実施例１の情報記録媒体は、従来の情報記録媒体（比較
例１）に比較して保存後のＣ／Ｎが良好で耐久性に優れ
ているばかりでなく、初期のＣ／Ｎも高く、ジッターも
低いことから記録再生特性に優れたものであることが分
かる。 これは、本発明の製造方法に従う情報記録媒体は、反射
層彫成後グ、ロー放電処理されることによ２０．３０：
孔部 ２１．３１：円盤状樹脂基板 ２２．３２：色素記録層 二部公的に塗布されない領域 ：内周側非記録領域 ：外周側非記録領域 ３５：反射層 保護層 ｌ　０１ １１゜ １２、 ２５゜ ３６　：

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上に、レーザー
   により情報の読み取りおよび／または書き込みが可能な
   色素からなる記録層を塗布により設ける工程、 該記録層上に、金属からなる反射層を形成する工程、 該反射層にグロー放電処理を行なう工程、 次いで、該反射層上に保護層を設ける工程、を含むこと
   からなる情報記録媒体の製造方法。