JPH04143702A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH04143702A JPH04143702A JP2266404A JP26640490A JPH04143702A JP H04143702 A JPH04143702 A JP H04143702A JP 2266404 A JP2266404 A JP 2266404A JP 26640490 A JP26640490 A JP 26640490A JP H04143702 A JPH04143702 A JP H04143702A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＯＡ機器や光通信、光情報処理、カメラなど
の光学応用機器等を構成する光学部品に対して施される
反射防止膜に関する。
の光学応用機器等を構成する光学部品に対して施される
反射防止膜に関する。
従来から、レンズ、プリズムなどの光学部品には、有害
な表面反射を低減させるために反射防止層を設けること
が行われている。
な表面反射を低減させるために反射防止層を設けること
が行われている。
特にレーザ応用機器に用いられる光学部品に対しては表
面反射の低減が重要であり、この目的に合致する反射防
止層は、一般に低屈折率物質からなる単層構成のもの、
あるいは高屈折率物質層と低屈折率物質層を組み合わせ
た多層構成のものが用いられることが多い。
面反射の低減が重要であり、この目的に合致する反射防
止層は、一般に低屈折率物質からなる単層構成のもの、
あるいは高屈折率物質層と低屈折率物質層を組み合わせ
た多層構成のものが用いられることが多い。
しかしこのような従来構成の反射防止膜は、例えば単層
構成の膜においては反射率が１．３％以上となり、反射
防止性能が充分でない。また２層構成の膜の場合には、
中心波長域での反射率を０．２％以下にすることが可能
であるものの、これから離れた波長域では反射率が急激
に増大するという問題があり、光学部品の反射防止膜と
して満足できるものではなかった。
構成の膜においては反射率が１．３％以上となり、反射
防止性能が充分でない。また２層構成の膜の場合には、
中心波長域での反射率を０．２％以下にすることが可能
であるものの、これから離れた波長域では反射率が急激
に増大するという問題があり、光学部品の反射防止膜と
して満足できるものではなかった。
更にまた、これらの反射防止膜は光学部品の表面に真空
蒸着する等の方法によって形成されるが、耐久性が良く
ないという問題もあった。
蒸着する等の方法によって形成されるが、耐久性が良く
ないという問題もあった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、広い
波長域にわたって反射防止効果が優れるとともに充分な
耐久性を有する、光学部品用の反射防止膜を擢供するこ
とを目的とする。
波長域にわたって反射防止効果が優れるとともに充分な
耐久性を有する、光学部品用の反射防止膜を擢供するこ
とを目的とする。
〔課題を解決するための手段］
かかる本発明の目的は、二酸化珪素からなる第１層と酸
化セリウム又は五酸化タンタルからなる第２層と二酸化
珪素からなる第３層とを光学部品の表面に順次積層して
なり、該第１層、該第２層および該第３層の光学的膜厚
が、それぞれ下記の式： ％式％ 但し、λは適用される光の波長、ｎｌ 、ｎｌおよび
ｎ３は波長λの光に対するそれぞれ第１層、第２層およ
び第３層の屈折率、ｄ、、ｄ、およびｄ、はそれぞれ第
１層、第２層および第３層の膜厚である。
化セリウム又は五酸化タンタルからなる第２層と二酸化
珪素からなる第３層とを光学部品の表面に順次積層して
なり、該第１層、該第２層および該第３層の光学的膜厚
が、それぞれ下記の式： ％式％ 但し、λは適用される光の波長、ｎｌ 、ｎｌおよび
ｎ３は波長λの光に対するそれぞれ第１層、第２層およ
び第３層の屈折率、ｄ、、ｄ、およびｄ、はそれぞれ第
１層、第２層および第３層の膜厚である。
で表される範囲内のｎｌ ｄｌ 、ｎｚ ｄＺおよ
びｎ。
びｎ。
ｄ、の値を有することを特徴とする光学部品の反射防止
膜によって達成することができ、また、二酸化珪素から
なる第１層と酸化ジルコニウム、酸化チタンおよび酸化
イツトリウムの混合物からなる第２層と二酸化珪素から
なる第３層と該混合物からなる第４層と二酸化珪素から
なる第５層とを光学部品の表面に順次積層してなり、該
第１層、該第２層、該第３層、該第４層および該第５層
の光学的膜厚が、それぞれ下記の式： ％式％ 但し、λは適用される光の波長、ｎ１ｔｎ２ 。
膜によって達成することができ、また、二酸化珪素から
なる第１層と酸化ジルコニウム、酸化チタンおよび酸化
イツトリウムの混合物からなる第２層と二酸化珪素から
なる第３層と該混合物からなる第４層と二酸化珪素から
なる第５層とを光学部品の表面に順次積層してなり、該
第１層、該第２層、該第３層、該第４層および該第５層
の光学的膜厚が、それぞれ下記の式： ％式％ 但し、λは適用される光の波長、ｎ１ｔｎ２ 。
ｎ ３ ｙ ｎ ａおよびｎ、は波長λの光に対する
それぞれ第１層、第２層、第３層、第４層および第５層
の屈折率、ｄ、、ｄｔ 、ｄ、、ｄ、およびｄ、はそれ
ぞれ第１層、第２層、第３層、第４層および第５層の膜
厚である。
それぞれ第１層、第２層、第３層、第４層および第５層
の屈折率、ｄ、、ｄｔ 、ｄ、、ｄ、およびｄ、はそれ
ぞれ第１層、第２層、第３層、第４層および第５層の膜
厚である。
で表される範囲内のｎ、ｄｌ ９ｎ２ ｄＺ 、ｎ
＝ ｄ。
＝ ｄ。
、ｎ４ｄ４およびｎｓ ｄ、の値を有することを特徴と
する光学部品の反射防止膜によっても達成することがで
きる。
する光学部品の反射防止膜によっても達成することがで
きる。
本発明の反射防止膜を光学部品の表面上に形成するには
、反射防止膜を構成する各単位層をたとえば真空蒸着法
やイオンブレーティング法などの成膜形成技術を用いて
順次積層する方法が用いられる。
、反射防止膜を構成する各単位層をたとえば真空蒸着法
やイオンブレーティング法などの成膜形成技術を用いて
順次積層する方法が用いられる。
［作 用］
上記のようにして形成された本発明の反射防止膜は、優
れた光学特性と耐久性とを有するものである。
れた光学特性と耐久性とを有するものである。
〔実施例１〕
特殊な脂環基を有するアクリル樹脂（日立化成０Ｚ−１
０００，屈折率：１．４９）で成形した板状の光学部品
を精密洗浄したのちに充分乾燥し、真空蒸着装置内に取
り付け、真空度ｌＸｌ０−’〜４Ｘ１０−５）−ルの条
件下で電子ビーム加熱によって、光学的厚さが５４ｎｍ
の二酸化珪素の膜を蒸着して第１層を形成した。この層
の厚さはλを７８０ｎｍとすると０．０６９λに相当す
る。
０００，屈折率：１．４９）で成形した板状の光学部品
を精密洗浄したのちに充分乾燥し、真空蒸着装置内に取
り付け、真空度ｌＸｌ０−’〜４Ｘ１０−５）−ルの条
件下で電子ビーム加熱によって、光学的厚さが５４ｎｍ
の二酸化珪素の膜を蒸着して第１層を形成した。この層
の厚さはλを７８０ｎｍとすると０．０６９λに相当す
る。
次に、同様にして光学的厚さが７８ｎｍ （０，１００
λに相当する）の酸化セリウムの膜を蒸着して第２層を
形成し、更にその上に同様にして光学的厚さが２４８ｎ
ｍ （０，３１８λに相当する）の二酸化珪素の膜を蒸
着して第３層を形成し、３層構成の反射防止膜を得た。
λに相当する）の酸化セリウムの膜を蒸着して第２層を
形成し、更にその上に同様にして光学的厚さが２４８ｎ
ｍ （０，３１８λに相当する）の二酸化珪素の膜を蒸
着して第３層を形成し、３層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射率を測定した
結果を第１図に示すが、７２０から８４０ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．５％以下であった。
結果を第１図に示すが、７２０から８４０ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．５％以下であった。
〔実施例２〕
ポリカーボネート樹脂（奇人化成ＡＤ−５５０３、屈折
率：１．５６）で成形した板状の光学部品の表面上に、
実施例１と同様にして、第１層として光学的厚さが４７
ｎｍ（λを７８０ｒ＋ａ＋とすると０゜０６０λに相当
する）の二酸化珪素の膜を、次いで第２層として光学的
厚さが９３ｎｍ（０，１１９λに相当する）の五酸化タ
ンタルの膜を、更に第３層として光学的厚さが２４２ｎ
ｍ （０，３１λに相当する）の二酸化珪素の膜を順次
形成して、３層構成の反射防止膜を得た。
率：１．５６）で成形した板状の光学部品の表面上に、
実施例１と同様にして、第１層として光学的厚さが４７
ｎｍ（λを７８０ｒ＋ａ＋とすると０゜０６０λに相当
する）の二酸化珪素の膜を、次いで第２層として光学的
厚さが９３ｎｍ（０，１１９λに相当する）の五酸化タ
ンタルの膜を、更に第３層として光学的厚さが２４２ｎ
ｍ （０，３１λに相当する）の二酸化珪素の膜を順次
形成して、３層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射率を測定した
結果を第２図に示すが、７２０から８４ｏｎ＃ｌの波長
域にわたって反射率が０．５％以下であった。
結果を第２図に示すが、７２０から８４ｏｎ＃ｌの波長
域にわたって反射率が０．５％以下であった。
［実施例３］
実施例１で用いたと同じアクリル樹脂の光学部品を用い
、実施例１と同様の真空蒸着法によって真空度５Ｘ１０
−ｓトール前後の条件下で、第１層として光学的厚さが
６３ｎｍ（λを７８ｏｎ−とするとｏ、 ｏ ｓ ｉλ
に相当する）の二酸化珪素の膜を、第２層として光学的
厚さが６９ｎ＋＊ （０，０８８λに相当する）の酸化
ジルコニウム、酸化チタンおよび酸化イツトリウムの混
合物（重量比８４：６：１４）の膜を、第３層として光
学的厚さが６１ｎｍ（０，０７８λに相当する）の二酸
化珪素の膜を、第４層として光学的厚さが１９７ｎｍ
（０，２５２λに相当する）の第２層と同じ酸化ジルコ
ニウム、酸化チタンおよび酸化イツトリウムの混合物の
膜を、そして更に第５層として光学的厚さが１９５ｎ…
（０，２５０λに相当する）の二酸化珪素の膜を順次形
成して、５層構成の反射防止膜を得た。
、実施例１と同様の真空蒸着法によって真空度５Ｘ１０
−ｓトール前後の条件下で、第１層として光学的厚さが
６３ｎｍ（λを７８ｏｎ−とするとｏ、 ｏ ｓ ｉλ
に相当する）の二酸化珪素の膜を、第２層として光学的
厚さが６９ｎ＋＊ （０，０８８λに相当する）の酸化
ジルコニウム、酸化チタンおよび酸化イツトリウムの混
合物（重量比８４：６：１４）の膜を、第３層として光
学的厚さが６１ｎｍ（０，０７８λに相当する）の二酸
化珪素の膜を、第４層として光学的厚さが１９７ｎｍ
（０，２５２λに相当する）の第２層と同じ酸化ジルコ
ニウム、酸化チタンおよび酸化イツトリウムの混合物の
膜を、そして更に第５層として光学的厚さが１９５ｎ…
（０，２５０λに相当する）の二酸化珪素の膜を順次形
成して、５層構成の反射防止膜を得た。
こうして得た反射防止膜について分光反射率を測定した
結果を第３図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．３％以下であった。
結果を第３図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．３％以下であった。
〔実施例４〕
光学硝子（ＢＫ７、屈折率：１．５１）で形成した光学
部品の表面上に、実施例３と同様な方法で５層構成の反
射防止膜を形成した。
部品の表面上に、実施例３と同様な方法で５層構成の反
射防止膜を形成した。
この反射防止膜は、第１層として光学的厚さが５６ｎｍ
（λを７８０ｎｍとすると０．０７１λに相当する）の
二酸化珪素の膜、第２層として光学的厚さが８０ｎｗ（
０，１０３λに相当する）の酸化ジルコニウム、酸化チ
タンおよび酸化イツトリウムの混合物（重量比８０：６
：１４）の膜、第３層として光学的厚さが５５ｎｍ （
０，０７１λに相当する）の二酸化珪素の膜、第４層と
して光学的厚さが１９４ｎｍ （０，２４９λに相当す
る）の第２層と同じ酸化ジルコニウム、酸化チタンおよ
び酸化イ、ットリウムの混合物の膜、そして更に第５層
として光学的厚さが１９５ｎｏ＋（０゜２５０λに相当
する）の二酸化珪素の膜を、順次形成したものである。
（λを７８０ｎｍとすると０．０７１λに相当する）の
二酸化珪素の膜、第２層として光学的厚さが８０ｎｗ（
０，１０３λに相当する）の酸化ジルコニウム、酸化チ
タンおよび酸化イツトリウムの混合物（重量比８０：６
：１４）の膜、第３層として光学的厚さが５５ｎｍ （
０，０７１λに相当する）の二酸化珪素の膜、第４層と
して光学的厚さが１９４ｎｍ （０，２４９λに相当す
る）の第２層と同じ酸化ジルコニウム、酸化チタンおよ
び酸化イ、ットリウムの混合物の膜、そして更に第５層
として光学的厚さが１９５ｎｏ＋（０゜２５０λに相当
する）の二酸化珪素の膜を、順次形成したものである。
こうして得た反射防止膜について分光反射率を測定した
結果を第４図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．２％以下であった。
結果を第４図に示すが、７００から９００ｎｍの波長域
にわたって反射率が０．２％以下であった。
〔比較例１］
実施例１で用いたと同様な板状の光学部品の表面に、実
施例１と同様な方法により、光学的厚さが１９４ｒ＋ｎ
＋（λを７８Ｏｎ１１とすると０．２４９λに相当する
）の弗化マグネシウムの単一層の反射防止膜を形成した
。
施例１と同様な方法により、光学的厚さが１９４ｒ＋ｎ
＋（λを７８Ｏｎ１１とすると０．２４９λに相当する
）の弗化マグネシウムの単一層の反射防止膜を形成した
。
この反射防止膜について分光反射率を測定した結果を第
５図に示すが、反射率が１．５％以上であった。
５図に示すが、反射率が１．５％以上であった。
〔比較例２〕
実施例２で用いたと同様な板状の光学部品の表面に、実
施例１と同様な方法により、光学的厚さが１９３ｎｍ（
λを７８０ｎｍとすると０．２４７λに相当する）の酸
化ジルコニウムの第１層と光学的厚さが１９６ｎｍ （
０，２５１λに相当する）の弗化セリウムの第２層とを
順次積層して、２層構成の反射防止膜を形成した。
施例１と同様な方法により、光学的厚さが１９３ｎｍ（
λを７８０ｎｍとすると０．２４７λに相当する）の酸
化ジルコニウムの第１層と光学的厚さが１９６ｎｍ （
０，２５１λに相当する）の弗化セリウムの第２層とを
順次積層して、２層構成の反射防止膜を形成した。
この反射防止膜について分光反射率を測定した結果を第
６図に示す。この場合、中心波長７８０ｎｍでの反射率
はＯ，１％以下となるが、波長が中心から外れると反射
率は急激に高くなっている。
６図に示す。この場合、中心波長７８０ｎｍでの反射率
はＯ，１％以下となるが、波長が中心から外れると反射
率は急激に高くなっている。
〔試験例］
光学部品の表面に設けた反射防止膜の耐久性を以下の方
法で評価した。
法で評価した。
耐湿試験：
温度４５°Ｃ１相対湿度９５％の恒温恒湿槽内に２４時
間放置した後乾燥して、膜の状態の変化を観察した。実
施例１．２．３．４および比較例２の膜には何らの異常
も認められなかったが、比較例１の膜には剥離と曇りと
が発生していた。
間放置した後乾燥して、膜の状態の変化を観察した。実
施例１．２．３．４および比較例２の膜には何らの異常
も認められなかったが、比較例１の膜には剥離と曇りと
が発生していた。
熱衝撃試験ニ
ー ３０ ’Ｃおよび７０°Ｃの環境に交互に各３０分
間放置することを１０回繰り返したのち常温に戻し、表
面状態を観察した。実施例１．２．３．４および比較例
２の膜には何らの変化も認められなかったが、比較例１
の膜にはクランクが生していた。
間放置することを１０回繰り返したのち常温に戻し、表
面状態を観察した。実施例１．２．３．４および比較例
２の膜には何らの変化も認められなかったが、比較例１
の膜にはクランクが生していた。
〔発明の効果］
本発明の反射防止膜は、特定材料からなる層を特定順序
に積層してなるもので、７００から９００ｎｍという広
い波長域において優れた分光反射特性を示すものであり
、また優れた耐久性を有していて安定した性能を維持し
、極めて有用である。
に積層してなるもので、７００から９００ｎｍという広
い波長域において優れた分光反射特性を示すものであり
、また優れた耐久性を有していて安定した性能を維持し
、極めて有用である。
第１図、第２図、第３図および第４図はそれぞれ本発明
の実施例１．２．３および４の反射防止膜の分光反射特
性図であり、 第５図および第６図はそれぞれ比較例１および比較例２
の反射防止膜の分光反射特性図である。
の実施例１．２．３および４の反射防止膜の分光反射特
性図であり、 第５図および第６図はそれぞれ比較例１および比較例２
の反射防止膜の分光反射特性図である。
Claims (2)
- （１）二酸化珪素からなる第１層と酸化セリウム又は五
酸化タンタルからなる第２層と二酸化珪素からなる第３
層とを光学部品の表面に順次積層してなり、該第１層、
該第２層および該第３層の光学的膜厚が、それぞれ下記
の式： ｎ＿１ｄ＿１：０．０６λ〜０．０７λ、 ｎ＿２ｄ＿２：０．１０λ〜０．１２λ、 および ｎ＿３ｄ＿３：０．３１λ〜０．３２λ 但し、λは適用される光の波長、ｎ＿１、ｎ＿２および
ｎ＿３は波長λの光に対するそれぞれ第１層、第２層お
よび第３層の屈折率、ｄ＿１、ｄ＿２およびｄ＿３はそ
れぞれ第１層、第２層および第３層の膜厚である。 で表される範囲内のｎ＿１ｄ＿１、ｎ＿２ｄ＿２および
ｎ＿３ｄ＿３の値を有することを特徴とする光学部品の
反射防止膜。 - （２）二酸化珪素からなる第１層と酸化ジルコニウム、
酸化チタンおよび酸化イットリウムの混合物からなる第
２層と二酸化珪素からなる第３層と該混合物からなる第
４層と二酸化珪素からなる第５層とを光学部品の表面に
順次積層してなり、該第１層、該第２層、該第３層、該
第４層および該第５層の光学的膜厚が、それぞれ下記の
式： ｎ＿１ｄ＿１：０．０７λ〜０．０８λ、 ｎ＿２ｄ＿２：０．０８λ〜０．１１λ、 ｎ＿３ｄ＿３：０．０７λ〜０．０８λ、 ｎ＿４ｄ＿４：０．２４λ〜０．２６λ、 および ｎ＿５ｄ＿５：０．２４λ〜０．２６λ 但し、λは適用される光の波長、ｎ＿１、ｎ＿２、ｎ３
、ｎ＿４およびｎ＿５は波長λの光に対するそれぞれ第
１層、第２層、第３層、第４層および第５層の屈折率、
ｄ＿１、ｄ＿２、ｄ＿３、ｄ＿４およびｄ＿５はそれぞ
れ第１層、第２層、第３層、第４層および第５層の膜厚
である。で表される範囲内のｎ＿１ｄ＿１、ｎ＿２ｄ＿
２、ｎ＿３ｄ＿３、ｎ＿４ｄ＿４およびｎ＿５ｄ＿５の
値を有することを特徴とする光学部品の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2266404A JPH04143702A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2266404A JPH04143702A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04143702A true JPH04143702A (ja) | 1992-05-18 |
Family
ID=17430463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2266404A Pending JPH04143702A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04143702A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005274527A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Cimeo Precision Co Ltd | 時計用カバーガラス |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP2266404A patent/JPH04143702A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005274527A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Cimeo Precision Co Ltd | 時計用カバーガラス |
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