JPH0414619A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0414619A JPH0414619A JP2118323A JP11832390A JPH0414619A JP H0414619 A JPH0414619 A JP H0414619A JP 2118323 A JP2118323 A JP 2118323A JP 11832390 A JP11832390 A JP 11832390A JP H0414619 A JPH0414619 A JP H0414619A
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- Japan
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- magnetic recording
- film
- thin film
- metal thin
- ferromagnetic metal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
近年、記録密度の向上は目覚しく、磁気記録層として強
磁性金属薄膜を用いることが進み［例えばアイイーイー
イー トランザクションズ オンマグネティクス（ＩＥ
ＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎＭａｇｎｅｔ
ｉｃｓ）Ｖｏｌ、ＭＡＧ−２０，ｆｆ１５ ＰＰ８２
４〜８２６（１９８４）］、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にＣｏ−Ｎｉを酸素雰囲気で斜め蒸着した
磁気テープがビデオ用途に実用化され注目されている。
磁性金属薄膜を用いることが進み［例えばアイイーイー
イー トランザクションズ オンマグネティクス（ＩＥ
ＥＥ Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ ｏｎＭａｇｎｅｔ
ｉｃｓ）Ｖｏｌ、ＭＡＧ−２０，ｆｆ１５ ＰＰ８２
４〜８２６（１９８４）］、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にＣｏ−Ｎｉを酸素雰囲気で斜め蒸着した
磁気テープがビデオ用途に実用化され注目されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記した磁気テープは、強磁性金属薄膜が
０．２μｍ程度の厚みしかないため、用いる高分子フィ
ルムに表面の形状をそのまま反映する。従って、高分子
フィルム表面に傷を入れないよう製膜することは勿論、
後工程でもクリーンルーム内での処理や、超音波エネル
ギーを用いて付着ダストを除去する等が行われている。
０．２μｍ程度の厚みしかないため、用いる高分子フィ
ルムに表面の形状をそのまま反映する。従って、高分子
フィルム表面に傷を入れないよう製膜することは勿論、
後工程でもクリーンルーム内での処理や、超音波エネル
ギーを用いて付着ダストを除去する等が行われている。
しかし、より高密度記録でのエラー率を確保できる水準
に全体の技術が到達していないことから、エラー原因の
除去技術の改善が望まれている。本発明は上記した事情
に鑑みなされたもので、高密度記録を行った時にもエラ
ー率の良好な磁気記録媒体を製造できる方法を提供する
ものである。
に全体の技術が到達していないことから、エラー原因の
除去技術の改善が望まれている。本発明は上記した事情
に鑑みなされたもので、高密度記録を行った時にもエラ
ー率の良好な磁気記録媒体を製造できる方法を提供する
ものである。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、高分子フィルムの表面を溶剤ジェット洗浄
した後、強磁性金属薄膜を形成するようにしたものであ
る。
製造方法は、高分子フィルムの表面を溶剤ジェット洗浄
した後、強磁性金属薄膜を形成するようにしたものであ
る。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成により
、従来除去されにくがった付着異物も除去され、エラー
発生の原因となる不要の突起の核が減少し、エラー発生
の少ない磁気記録媒体が製造できるようになる。
、従来除去されにくがった付着異物も除去され、エラー
発生の原因となる不要の突起の核が減少し、エラー発生
の少ない磁気記録媒体が製造できるようになる。
実施例
以下、本発明の実施例について詳しく説明する。
Ｅ実施例ＩＪ
第１図は本発明によって製造される代表的な磁気記録媒
体の拡大断面図である。第１図で１は、ポリエチレンテ
レフタレート２ポリエチレンナフタレート、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
イミド等の高分子フィルムで、２は、微粒子塗布層で、
水溶性高分子と微粒子を混合分散させ、製膜時に塗布乾
燥延伸により形状形成したものがよく用いられるが、特
にそれに限らず高分子フィルム上に別工程で製膜後塗布
して形状形成してもよいのは勿論である。
体の拡大断面図である。第１図で１は、ポリエチレンテ
レフタレート２ポリエチレンナフタレート、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
イミド等の高分子フィルムで、２は、微粒子塗布層で、
水溶性高分子と微粒子を混合分散させ、製膜時に塗布乾
燥延伸により形状形成したものがよく用いられるが、特
にそれに限らず高分子フィルム上に別工程で製膜後塗布
して形状形成してもよいのは勿論である。
３は電子ビーム蒸着法、スパッタリング法等により形成
したＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｃ。
したＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｃ。
Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｂ、Ｃ。
Ｎｉ−０等の強磁性金属薄膜で１層構成に限らず多層構
成でもよいし、磁化容易軸の方向についても特にＩＩＪ
限は受けない。４は保護潤滑層で、ＳｉＯｘ。
成でもよいし、磁化容易軸の方向についても特にＩＩＪ
限は受けない。４は保護潤滑層で、ＳｉＯｘ。
ＴｉＯｘ、Ｔ１Ｃｘ、ＷＣｘ、カーボン、ブラブマ重合
膜や脂肪酸、パーフルオロポリエーテル等を適宜組み合
わせたもので、バックコート層の配設や磁気テープ、磁
気ディスクの形態により、両面アクセス可能な構成とし
てもよいのは勿論である。
膜や脂肪酸、パーフルオロポリエーテル等を適宜組み合
わせたもので、バックコート層の配設や磁気テープ、磁
気ディスクの形態により、両面アクセス可能な構成とし
てもよいのは勿論である。
本発明により上記した構成の磁気記録媒体を製造する上
で、従来用いられてきた清浄空気流での付着異物除去や
、イオンと超音波振動を組み合わせてのり１ノーニング
を補助的に行うことを拒むものではない。
で、従来用いられてきた清浄空気流での付着異物除去や
、イオンと超音波振動を組み合わせてのり１ノーニング
を補助的に行うことを拒むものではない。
次に溶剤ジェット洗浄について詳述する。
洗浄対象のフィルムを巻出し側がら巻取り側へ移動する
間に、溶剤ジェットを吹きつけ、必要ならば乾燥エアを
吹きつけることで達成される溶剤ジェット洗浄に用いら
れる溶剤はアルコール類。
間に、溶剤ジェットを吹きつけ、必要ならば乾燥エアを
吹きつけることで達成される溶剤ジェット洗浄に用いら
れる溶剤はアルコール類。
ケトン類、フロン類等で、噴射圧力は２〜１゜（ｋｇ
／ ｃ！ ）が好ましい。溶剤回収や燃焼処理等は現在
又は改良される公害防止技術により行えばよい。溶剤噴
射ジェットは１段に限らず複数段としてもよ（、当然ク
リーンルーム内で行われるものである。
／ ｃ！ ）が好ましい。溶剤回収や燃焼処理等は現在
又は改良される公害防止技術により行えばよい。溶剤噴
射ジェットは１段に限らず複数段としてもよ（、当然ク
リーンルーム内で行われるものである。
以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で説明する。
対比で説明する。
厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
にフィルム製膜時に、水溶性高分子に直径２０ＯＡのＳ
ｉ Ｏ２微粒子を分散させ塗布した後乾燥延伸し、ミ
ミズ状の形状に加えて粒子状突起を平均２０（ケ／μ２
）配したものを用い、直径０．１５ｍφの小孔を１備間
隔に配した横長（長さ７０ ｃｍ ＞のノズルを溶剤シ
ェツト噴射ノズルとして配し、乾燥空気を１１０℃、２
０ｉ／ｍｉｎで吹きつける方法で、溶剤条件とノズル段
数を変えて洗浄を行った。
にフィルム製膜時に、水溶性高分子に直径２０ＯＡのＳ
ｉ Ｏ２微粒子を分散させ塗布した後乾燥延伸し、ミ
ミズ状の形状に加えて粒子状突起を平均２０（ケ／μ２
）配したものを用い、直径０．１５ｍφの小孔を１備間
隔に配した横長（長さ７０ ｃｍ ＞のノズルを溶剤シ
ェツト噴射ノズルとして配し、乾燥空気を１１０℃、２
０ｉ／ｍｉｎで吹きつける方法で、溶剤条件とノズル段
数を変えて洗浄を行った。
尚溶剤は、０．２μｒｎを最終段フィルタとし、乾燥空
気は０．３μｍを最終段フィルタとし、異物除去を行っ
たものを用いた。又比較例は、超音波イオン風クリーナ
ーで処理したものと、未処理のものを用いた。
気は０．３μｍを最終段フィルタとし、異物除去を行っ
たものを用いた。又比較例は、超音波イオン風クリーナ
ーで処理したものと、未処理のものを用いた。
実施例、比較例共に、直径１ｍの円筒キャンに治わせて
、Ｃｏ−Ｎｉ （Ｃｏ ８０ｗｔ％）をｏ、１５μｍ
、 ８ Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で、最小入
射角３５度で電子ビーム蒸着し、更にその上にデュポン
社製（７）ＫＲＹＴＯＸ１４３ＡＣを３５ （ｕ／ｎｆ
）塗布し、０６４μｍの０．０７μｍ径のカーボンを
フィラーとして６重量％含むポリウレタン系のバックコ
ート層を配し、８ミリ幅の磁気テープとした。夫々のテ
ープをハイバンド８ミリビデオ（／ニーＮ製ＥＶ−８９
００）（７）ＬＰモードでＰＣＭの゛エラー率を比較し
た結果を第１表に示した。
、Ｃｏ−Ｎｉ （Ｃｏ ８０ｗｔ％）をｏ、１５μｍ
、 ８ Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で、最小入
射角３５度で電子ビーム蒸着し、更にその上にデュポン
社製（７）ＫＲＹＴＯＸ１４３ＡＣを３５ （ｕ／ｎｆ
）塗布し、０６４μｍの０．０７μｍ径のカーボンを
フィラーとして６重量％含むポリウレタン系のバックコ
ート層を配し、８ミリ幅の磁気テープとした。夫々のテ
ープをハイバンド８ミリビデオ（／ニーＮ製ＥＶ−８９
００）（７）ＬＰモードでＰＣＭの゛エラー率を比較し
た結果を第１表に示した。
（以 下 余 白）
［実施例２１
課題を解決するための別の手段は、高分子フィルム上に
第１の強磁性金属薄膜を形成した後、バニッシング処理
し、その上に第２の強磁性金属薄膜を形成するようにし
たものである。本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記
した構成により、強磁性金属薄膜がエラーとなる突起を
もたな（なると共に、第２の強磁性金属薄膜により、ピ
ンホールの発生がおさえられることで従来の強磁性金属
薄膜形成後、バニッシング処理するのと比較してエラー
発生源を最小とすることができる。以下、更に詳しく本
発明の実施例について説明する。
第１の強磁性金属薄膜を形成した後、バニッシング処理
し、その上に第２の強磁性金属薄膜を形成するようにし
たものである。本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記
した構成により、強磁性金属薄膜がエラーとなる突起を
もたな（なると共に、第２の強磁性金属薄膜により、ピ
ンホールの発生がおさえられることで従来の強磁性金属
薄膜形成後、バニッシング処理するのと比較してエラー
発生源を最小とすることができる。以下、更に詳しく本
発明の実施例について説明する。
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等の高分子フィルムに強磁性金属薄膜を形成する。
ト等の高分子フィルムに強磁性金属薄膜を形成する。
強磁性金属薄膜の形成は、高周波スパッタリング法、電
子ビーム蒸着法、イオンブレーティング法等で行えばよ
く、薄膜としてはＣｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｏ。
子ビーム蒸着法、イオンブレーティング法等で行えばよ
く、薄膜としてはＣｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｃｏ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｏ。
Ｃｏ−Ｐｔ’−０，Ｃｏ−Ｎｉ−０，Ｃｏ−Ｂ−Ｐｔ−
０等いずれでもよい。薄膜は５００Ａから１５０ＯＡの
範囲とするのが好ましい。薄膜形成後、研磨材により、
いわゆるバニッシング処理を行う。処理雰囲気は減圧中
でも大気中でもよ（、研磨材は独自に構成してもよいが
、市販されてるものを用いる場合は、５０００番以上の
細かいものがよい。押圧と相対運動速度は、条件検討に
より選べる。バニッシング処理した後、もう−原簿膜形
成を行う。膜厚、材質、製法は、先に述べたものの中よ
り選べる。次に、保護潤滑層、必要ならバックコート層
を配し、所定のテープ又はディスク形状に加工すればよ
い。
０等いずれでもよい。薄膜は５００Ａから１５０ＯＡの
範囲とするのが好ましい。薄膜形成後、研磨材により、
いわゆるバニッシング処理を行う。処理雰囲気は減圧中
でも大気中でもよ（、研磨材は独自に構成してもよいが
、市販されてるものを用いる場合は、５０００番以上の
細かいものがよい。押圧と相対運動速度は、条件検討に
より選べる。バニッシング処理した後、もう−原簿膜形
成を行う。膜厚、材質、製法は、先に述べたものの中よ
り選べる。次に、保護潤滑層、必要ならバックコート層
を配し、所定のテープ又はディスク形状に加工すればよ
い。
上記した方法により、第２の強磁性金属薄膜はエラーの
原因となる大きな突起を含まないのと、バニッシングで
除去された強磁性金属薄膜部分は１／２程度の磁気記録
層厚みになることでよりエラーも少なくできることにな
る。
原因となる大きな突起を含まないのと、バニッシングで
除去された強磁性金属薄膜部分は１／２程度の磁気記録
層厚みになることでよりエラーも少なくできることにな
る。
以下、更に具体的に本発明の第２の実施例について比較
例との対比で説明する。
例との対比で説明する。
厚み８１μｍのポリエチレンナフタレートフィルムの上
に直径１２ＯＡの５ｉ０２微粒子を２０ケ／μ２塗布し
、その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、Ｃｏ−Ｎ
ｉ （Ｃｏ ：８０ｗｔ％）を最小入射角４０度、８
Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ ）の酸素中で膜厚条件を変え
て電子ビーム蒸着した。その後、研磨材でバニッシング
処理を行った。条件Ａは、９０００番の研磨材を、速度
０．４（ｍ／ｗｉｎ）、押圧０．５ （ｋｇ／ｃｓｆ）
、接触面積５０ｃｄ、条件Ｂは、１５０００番の研磨
材とした以外は条件Ａと同じとし、条件Ｃは、条件Ｂで
、押圧を０．７（ｋｇ／ｃａｔ）、接触面積を８０ｃｊ
としたもので、いずれも、幅４０（！ＩＩの蒸着膜を配
したフィルムを７０（ｍ／−１ｎ）で移動しながらの処
理である。バニッシング処理した後、同じく、Ｃｏ−Ｎ
１（Ｃｏ：８０ｗｔ％）を最小入射角４４度、６Ｘ１０
−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で、膜厚条件を変えて電子ビ
ーム蒸着を行い、その後モンテジソン社製のパーフルオ
ロポリエーテル“フォンブリンｚ−２５”を３５ （ｗ
／ｄ ）塗布し、ポリエステル樹脂１００重量部に対し
、１６重量部カーボンブラックを配したバックコート層
を０．４５μｍ配し、夫々８ミリ幅の磁気テープとした
。
に直径１２ＯＡの５ｉ０２微粒子を２０ケ／μ２塗布し
、その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、Ｃｏ−Ｎ
ｉ （Ｃｏ ：８０ｗｔ％）を最小入射角４０度、８
Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ ）の酸素中で膜厚条件を変え
て電子ビーム蒸着した。その後、研磨材でバニッシング
処理を行った。条件Ａは、９０００番の研磨材を、速度
０．４（ｍ／ｗｉｎ）、押圧０．５ （ｋｇ／ｃｓｆ）
、接触面積５０ｃｄ、条件Ｂは、１５０００番の研磨
材とした以外は条件Ａと同じとし、条件Ｃは、条件Ｂで
、押圧を０．７（ｋｇ／ｃａｔ）、接触面積を８０ｃｊ
としたもので、いずれも、幅４０（！ＩＩの蒸着膜を配
したフィルムを７０（ｍ／−１ｎ）で移動しながらの処
理である。バニッシング処理した後、同じく、Ｃｏ−Ｎ
１（Ｃｏ：８０ｗｔ％）を最小入射角４４度、６Ｘ１０
−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で、膜厚条件を変えて電子ビ
ーム蒸着を行い、その後モンテジソン社製のパーフルオ
ロポリエーテル“フォンブリンｚ−２５”を３５ （ｗ
／ｄ ）塗布し、ポリエステル樹脂１００重量部に対し
、１６重量部カーボンブラックを配したバックコート層
を０．４５μｍ配し、夫々８ミリ幅の磁気テープとした
。
比較例は、バニッシング処理は、２回の蒸着を行った後
に施したものと、未処理のものを用いた。条件とＬＰモ
ードでのドロップアウトを第２表に示した。
に施したものと、未処理のものを用いた。条件とＬＰモ
ードでのドロップアウトを第２表に示した。
（以 下 余 白）
第２表に示したデータは、実施例１と組み合わせること
て更に改善されることは勿論で、より高密度化した時に
は有効性が明確になる。
て更に改善されることは勿論で、より高密度化した時に
は有効性が明確になる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高密度記録再生に供して
も信号欠落の極めて少ない、信頼性の高い磁気記録媒体
が得られるといった優れた効果がある。
も信号欠落の極めて少ない、信頼性の高い磁気記録媒体
が得られるといった優れた効果がある。
断面図である。
１・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・微粒子
塗布層、３・・・・・・強磁性金属薄膜、４・・・・・
・保護潤滑層。
塗布層、３・・・・・・強磁性金属薄膜、４・・・・・
・保護潤滑層。
Claims (2)
- （１）高分子フィルムの表面を溶剤ジェット洗浄した後
、強磁性金属薄膜を形成することを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。 - （２）高分子フィルム上に第１の強磁性金属薄膜を形成
した後バニッシング処理しその上に第２の強磁性金属薄
膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2118323A JPH0414619A (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2118323A JPH0414619A (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0414619A true JPH0414619A (ja) | 1992-01-20 |
Family
ID=14733828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2118323A Pending JPH0414619A (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0414619A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2167299A4 (en) * | 2007-06-21 | 2010-12-01 | 3M Innovative Properties Co | ARTICLES AND METHOD FOR THE REPLICATION OF MICROSTRUCTURES AND NANOMERAL PAINTS |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63313322A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6453344A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Konishiroku Photo Ind | Method and apparatus for producing magnetic recording medium |
| JPH01182925A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Canon Inc | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH02110828A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1990
- 1990-05-07 JP JP2118323A patent/JPH0414619A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63313322A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-21 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6453344A (en) * | 1987-08-25 | 1989-03-01 | Konishiroku Photo Ind | Method and apparatus for producing magnetic recording medium |
| JPH01182925A (ja) * | 1988-01-13 | 1989-07-20 | Canon Inc | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH02110828A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-04-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2167299A4 (en) * | 2007-06-21 | 2010-12-01 | 3M Innovative Properties Co | ARTICLES AND METHOD FOR THE REPLICATION OF MICROSTRUCTURES AND NANOMERAL PAINTS |
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