JPH041494B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH041494B2
JPH041494B2 JP57206631A JP20663182A JPH041494B2 JP H041494 B2 JPH041494 B2 JP H041494B2 JP 57206631 A JP57206631 A JP 57206631A JP 20663182 A JP20663182 A JP 20663182A JP H041494 B2 JPH041494 B2 JP H041494B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
signal
electron beam
scanning
moment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57206631A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5996725A (ja
Inventor
Hideo Kusakabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP57206631A priority Critical patent/JPS5996725A/ja
Publication of JPS5996725A publication Critical patent/JPS5996725A/ja
Publication of JPH041494B2 publication Critical patent/JPH041494B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、位置合わせマークを電子ビームで走
査してマークの中心位置を検出するマーク位置検
出装置の改良に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
近時、半導体ウエハやマスク基板等の試料に微
細パターンを形成するものとして各種の電子ビー
ム露光装置が用いられているが、この装置では精
度良い露光を可能とするため試料の高精度な位置
合わせが必要となる。このため、試料、カセツト
或いは試料台等に位置合わせ用マークを設け、こ
のマークを電子ビームで走査して得られる反射電
子、2次電子或いは吸収電子等に基づいてマーク
位置を検出し、これにより試料の位置合わせを行
うようにしている。
ところで、上記マーク位置の検出に用いられる
マーク位置検出装置として、最近次の(1)(2)に示す
手法を利用したものが考案されている。
(1) マークからの反射電子を検出して得られるマ
ーク信号のピークと基準値とから、マーク部が
2値信号の「1」を得るようなレベルでマーク
信号を2値化し、2値信号の「1」と電子ビー
ムの走査位置とから1次モーメントを算出して
マークの中心位置を求める手法。
(2) マーク信号をA/D変換して記憶回路に記憶
すると共に、複数回の電子ビーム走査を行いマ
ーク信号のA/D変換値を平均加算し、ノイズ
成分を除去する。かくして得られたマーク波形
のP・P値(Poak to Peak)からスライスレ
ベルを求め、そのスライスレベル以上のマーク
波形のA/D変換値と電子ビームの走査位置と
から1次モーメントを算出してマークの中心位
置を求める手法。
しかしながら、この種の手法を用いたマーク位
置検出装置にあつては次のような問題があつた。
すなわち、前記第1の手法では、マーク信号の一
部しか利用していないため、マーク中心位置の検
出精度が劣る。また、前記第2の手法では、A/
D変換したマーク波形を平均加算するために多大
な時間を要し、かつそのための記憶回路が必要と
なりコスト高を招く等の問題があつた。
そこで本発明者等は、位置合わせ用マークを電
子ビームで走査して得られる反射電子、2次電子
或いは吸収電子を電子検出器で検出し、この検出
信号の微分波形を所定の振幅閾値XOでスライス
し、閾値XO以上の微分波形の時系列が所定の連
続時系列閾値GO以上連続している場所をマーク
端と判定し、このときの上記検出信号の振幅値
XAを記憶し、該振幅値XAより大きな検出信号の
振幅値と電子ビームの走査位置とから1次モーメ
ントを算出し、この算出結果をマークの中心位置
として検出するマーク位置検出装置を提案した。
この提案によれば、マーク信号全体の情報を無
駄なく利用でき、マーク中心位置の検出を精度良
く行うことができる。また、平均加算する必要が
なく、そのためのメモリが不要となり、さらに平
均加算のための時間も不要となる。しかも、電子
ビーム走査と同時に計算するようにしているの
で、マーク中心位置検出のための時間を短縮化し
得る等の利点がある。
しかしながら、このような装置にあつては1次
モーメントの計算範囲を決定するのに複雑な回路
が必要となり、装置構成の複雑化を招いた。ま
た、ノイズの影響を受け易く、ノイズによりマー
ク位置検出精度が低下する等の問題を招いた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、ノイズの影響を減らすことが
でき、マーク位置検出精度の向上をはかり得るマ
ーク位置検出装置を提供することにある。
〔発明の概要〕
本発明の骨子は、A/D変換されたマーク信号
を一定期間累積加算してノイズの影響を低減し、
累積加算した値の信号分布から1次モーメントを
計算することにある。
すなわち本発明は、位置合わせマークの中心位
置を検出するマーク位置検出装置において、マー
クを電子ビームで走査し該走査による反射電子、
2次電子或いは吸収電子を検出してマーク信号を
得、このマーク信号をA/D変換し、このA/D
変換されたマーク信号を一定期間累積加算すると
共にその計算領域を1つずつシフトし、上記累積
加算により得られた信号分布の所定値以上と電子
ビームの走査位置とから1次モーメントを求める
ようにしたものである。
〔発明の効果〕 本発明によれば、A/D変換されたマーク信号
を一定期間累積加算しているので、ノイズによる
影響を著しく少なくすることができる。このた
め、ノイズによる検出誤差をなくし、マーク位置
検出精度の向上をはかり得る。また、1次モーメ
ントの計算範囲を決定する複雑な回路を必要とす
ることなく、各種の演算器を用いることでマーク
の中心位置を検出することができる。このため、
装置構成の簡略化をはかり得る等の効果を奏す
る。
〔発明の実施例〕
第1図は本発明の一実施例の概略構成を示すブ
ロツク図である。図中1は位置合わせ用マークで
あり、このマーク1を電子ビーム2で走査したと
きに得られるマーク1からの反射電子は、反射電
子検出器3にて検出される。ここで、反射電子検
出器3の検出信号(マーク信号)4は、第2図に
示す如く電子ビーム2がマーク1を横切るときそ
の振幅が大きいものとなる。マーク信号4はアナ
ログ・デジタル・コンバータ(以下A/Dと略記
する)5に供給され、デジタル信号に変換され
る。そして、この変換出力は直接減算器6に供給
されると共に、遅延回路(以下DLと略記する)
7を介して一定期間dOだけ遅延されて上記減算器
6に供給される。減算器6ではA/D5の出力か
らDL7の出力が減算され、この減算出力は累積
加算器8に供給されている。累積加算器8では上
記減算出力が累積加算され、この累積加算出力は
1次モーメント計算回路9及び1次モーメント設
定器10に供給されている。1次モーメント計算
回路9は上記累積加算出力の信号分布の上記1次
モーメント設定器10に設定した値以上と前記電
子ビームの走査位置を示す信号Xとに基づいて、
上記信号分布の1次モーメントを求めるものであ
り、その出力は減算器11に供給されている。減
算器11では上記出力(1次モーメント値)から
前記DL7の遅延期間dOの1/2に相当するビー
ム走査距離d/2が減算され、この減算結果がマ
ーク信号4の中心位置情報として出力されるもの
となつている。
なお、前記1次モーメント計算回路9は、例え
ば第3図に示す如く乗算器21、除算器22及び
累積加算器23,24から構成されている。そし
て、前記累積加算器8の出力信号をaとしたとき
(Σa・x/Σa)を計算し、マーク信号4の重みづ
けした中心位置を求めるものとなつている。
このように構成された本装置の作用について第
4図を参照して説明する。
まず、前記A/D5の出力をA〔i〕、最初のビ
ーム位置から前記DL7の遅延期間dOに相当する
時間経過したのちのビーム位置をdとすると、累
積加算器8の上記期間dOにおける加算出力B〔i〕
は次のように計算される。ただし、i= 1,
2,…,N(i:電子ビーム位置)とする。
A〔1〕+A〔2〕+……+A〔d〕→B〔d〕 A〔2〕+A〔3〕+……+A〔d+1〕 =B〔d〕−A〔1〕+A〔d+1〕→B〔d+1〕 〜 A〔n+1〕+A〔n+2〕+……+A〔d+n〕 =B〔d+n−1〕−A〔n〕 +A〔d+n〕→B〔d+n〕 ただし、n=0,1,2,……である。
減算器6はi=d+1番目から A〔i〕−A〔i−d〕 を計算する。累積加算器8はi<d+1の場合、
A〔i〕を累積加算する。i≧d+1の場合、減
算器6の出力がA〔i〕−A〔i−d〕となり、前
に計算された累積加算値にこれを加算することに
より、期間dOの累積加算値B〔i〕がビーム走査
と連続的に計算される。1次モーメント設定器1
0に設定された値をCとすると B〔i〕≧C の条件で1次モーメント計算回路9により、電子
ビーム位置Xと上記累積加算値B〔i〕の信号分
布とに基づき1次モーメントが計算される。ここ
で、最初の累積加算値B〔d〕はA〔d〕のデータ
を取り込んでから行われる。累積加算値B〔d〕
が計算されるとき電子ビームの位置はdにある。
累積加算値B〔d〕は電子ビームの位置がd/2
のときの値であるから、1次モーメント計算回路
9の出力Mをd/2だけ減算器11で減算した値
がマーク信号の中心位置となる。
かくして減算器11の出力からマーク信号の中
心位置が検出されることになる。なお、マーク1
の中心位置を求めるには、前記マーク1上のビー
ム走査を少なくともX方向で2回行いマーク1の
Y方向中心線を求め、さらにビーム走査を少なく
ともY方向で2回行いX方向中心線を求め、これ
ら各中心線の交点座標を求めればよい。
このように本装置によれば、A/D5によりデ
ジタル化されたマーク信号を減算器6、DL7及
び累積加算器8により一定期間dで累積加算して
いるので、上記マーク信号のノイズ成分を減少さ
せることができる。そして、ノイズ成分の少ない
上記累積加算値から得られる信号分布の所定値C
以上の1次モーメントを計算してマーク信号の中
心位置を求めているので、マーク位置検出精度の
向上をはかり得る。また、1次モーメントの計算
範囲を決定する複雑な回路を必要とすることな
く、各種の演算器を用いるのみでマーク中心位置
を検出できるので、装置構成の簡略化をはかり得
る。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるも
のではない。例えば、前記反射電子検出器の代り
には、マークを電子ビームで走査したときに得ら
れる2次電子或いは吸収電子を検出するものを用
いてもよい。また、前記累積加算値B〔i〕を前
記遅延期間dOに相当する累積回数(=d)で除算
し、1次モーメントの計算桁数を少なくして周辺
回路の簡素化をはかることも可能である。さら
に、累積回数を2のn乗に設定すれば、除算は累
積加算出力をn乗分だけシフトすればよい。ま
た、前記遅延回路7の遅延期間dOは、マークの幅
やビーム走査速度等の条件に応じて適宜定めれば
よい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で、種々変形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す概略構成図、
第2図は上記実施例に係わるビーム走査とマーク
信号波形との関係を示す模式図、第3図は上記実
施例の要部構成を示すブロツク図、第4図は上記
実施例の作用を説明するためのものでマーク信号
波形と累積加算による信号分布との関係を示す模
式図である。 1…マーク、2…電子ビーム、3…反射電子検
出器、4…マーク信号、5…アナログ・デジタ
ル・コンバータ(A/D)、6…減算器、7…遅
延回路(D/L)、8…累積加算器、9…1次モ
ーメント計算回路、10…1次モーメント設定
器、11…減算器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 位置検出に供されるマークを電子ビームで走
    査し該走査による反射電子、2次電子或いは吸収
    電子を検出してマーク信号を得る手段と、上記マ
    ーク信号をアナログ・デジタル変換する手段と、
    上記アナログ・デジタル変換されたマーク信号を
    一定期間累積加算すると共にその計算領域を1つ
    ずつシフトする手段と、この手段により得られた
    信号分布の所定値以上と前記電子ビームの走査位
    置とに基づいて1次モーメントを求める手段とを
    具備してなることを特徴とするマーク位置検出装
    置。
JP57206631A 1982-11-25 1982-11-25 マ−ク位置検出装置 Granted JPS5996725A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57206631A JPS5996725A (ja) 1982-11-25 1982-11-25 マ−ク位置検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57206631A JPS5996725A (ja) 1982-11-25 1982-11-25 マ−ク位置検出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5996725A JPS5996725A (ja) 1984-06-04
JPH041494B2 true JPH041494B2 (ja) 1992-01-13

Family

ID=16526558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57206631A Granted JPS5996725A (ja) 1982-11-25 1982-11-25 マ−ク位置検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5996725A (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62229939A (ja) * 1986-03-31 1987-10-08 Advantest Corp 荷電粒子ビ−ム露光装置におけるマ−ク位置検出回路

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5996725A (ja) 1984-06-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH041494B2 (ja)
JPH0645941A (ja) 検査装置
JPH029281B2 (ja)
JPH05296754A (ja) エッジ検出方法
JPH0656293B2 (ja) 欠陥検出方法
JP2755885B2 (ja) Ccdへの入射光線束の位置検出方法
JPS6233735B2 (ja)
JPH0363213B2 (ja)
JPH058498Y2 (ja)
JP2000292127A (ja) 物体形状測定方法
JPH0261133B2 (ja)
JPS58223326A (ja) マ−ク幅測定装置
JPS61225604A (ja) 寸法測定方法
JPH0554605B2 (ja)
JPH11142109A (ja) 3次元計測装置、及び3次元計測方法
JPS641857B2 (ja)
JPH0423419B2 (ja)
SU1619198A1 (ru) Устройство дл измерени модул коэффициента передачи четырехполюсников
JPH052111B2 (ja)
JP3240175B2 (ja) スペックル測長計
JP2758979B2 (ja) マーク位置検出方法
JP2639276B2 (ja) 信号波形のピーク値検出方法
KR820002144B1 (ko) 표면결함 검출방법
CN118089582A (zh) 形貌测量设备、形貌测量装置及测量方法
JPH05273349A (ja) レーザードップラ速度計の信号処理装置