JPH0415216B2 - - Google Patents

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JPH0415216B2
JPH0415216B2 JP63016755A JP1675588A JPH0415216B2 JP H0415216 B2 JPH0415216 B2 JP H0415216B2 JP 63016755 A JP63016755 A JP 63016755A JP 1675588 A JP1675588 A JP 1675588A JP H0415216 B2 JPH0415216 B2 JP H0415216B2
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lower alkyl
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alkyl
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、プロペニルアミン類、その製造法、
これを含む薬剤組成物および医薬としてのその用
途に関する。 本発明は、式 [式中、 (a) R1は式 または の基およびR2は水素または低級アルキルを表
わすか、またはR1およびR2は合して式 または の基を表わす(R7およびR8は独立して水素、
ハロゲン、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、
ニトロ、低級アルキルまたは低級アルコキシ、
R9は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アル
キルまたは低級アルコキシ、Xは酸素、イオ
ウ、イミノ、低級アルキルイミノまたは式−
(CH2)r−の基を表わし、pは1、2または
3、rは1、2または3、sは3、4または
5、tは2、3または4、およびvは3、4、
5または6である。) R3およびR5は独立して水素または低級アル
キルを表わす。 R4はC1-6アルキルまたはC3-8シクロアルキ
ル−(C1-6)アルキルを表わす。および、 R6は式 −C≡C−R11、a、
【式】 または、 の基を表わす(R11は水素、所望によりα−ヒ
ドロキシ置換されたアルキル、アルケニル、ア
ルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルア
ルキル、フエニル、フエナルキルまたはチエニ
ル、R12、R13およびR14は独立して水素または
低級アルキル、および
【式】は所望に より二重結合を含むC5-8シクロアルキリデン基
を表わす。(但し、R1が式aであり、R2
R3、R5、R7とR8がそれぞれ水素であり、R4
メチルであり、R6が式aであるとき、R11
t−ブチルではない。)または、 (b) R1は上記(a)に定義の式a〜gの式を表
わす。 R2は水素または低級アルキルを表わす。 R3およびR4は合して式−(CH2)u−(uは
1〜8の整数である)の基を形成する。およ
び、 R5およびR6は上記(a)と同意義である。] の化合物を提供する。 低級アルキル基または低級アルコキシ基は、1
〜4の炭素数、特に2または1の炭素数を有する
ことか好ましい。特に説明しない限り、アルキル
部分は、1〜12の炭素数、特に2〜8の炭素数、
殊に2〜6の炭素数、更に2〜4の炭素数を有す
ることが好ましく、また橋かけの場合には1〜
4、特に1または2の炭素数を有することが好ま
しい。アルケニル基またはアルキニル基は、3〜
6の炭素数、特に3または4の炭素数を有するこ
とが好ましく、例えばアリル、プロペニルまたは
プロピニルである。かかるアルキル基、アルコキ
シ基、アルケニル基およびアルキニル基は、直鎖
または分枝鎖であつてよい。好ましいシクロアル
キリデン基はシクロヘキシリデンである。シクロ
アルキルは、ボルニルまたはアダマンチルのよう
なポリシクロ基を包含するものとして理解されね
ばならないが、シクロヘキシルまたはシクロペン
チルが好ましい。 有利には、R7およびR8は同一であり、両者共
に水素である。有利には、R9は水素またはハロ
ゲンである。bおよびcにおいて、R2およ
びR3が結合する炭素原子に対する結合は、それ
ぞれXに対してメタ結合および環窒素に対してパ
ラ結合が有利である。Xはイオウ、イミノまたは
低級アルキルイミノが有利である。R1は式b、
cまたはdの基が好ましく、特にaであ
る。R2は水素が好ましい。R3は水素が好ましく、
R4はアルキルが有利である。R5は水素が有利で
ある。 p、r、s、t、uおよびvの値は、7員環、
好ましくは5員環または6員環を形成するのに有
利に選定される。 R6と窒素原子の間の二重結合は、トランス配
置を有することが好ましい。 ハロゲンは、フツ素、塩素または臭素、好まし
くは塩素または臭素を表わす また、本発明は式の化合物の製造法を提供す
る。該方法は、 (a) R6が上記定義の式aの基を表わすとき
(化合物a)、式 [式中、R1〜R4は前記と同意義。] の化合物を式 [式中、Aは脱離基、R5は前記と同意義、
R6′は上記定義の式aの基を表わす。] の化合物と反応させる、または (b) R6が式aの基(R11はα−ヒドロキシアル
キルを表わす)を表わすとき(化合物b)、
式c [式中、R1〜R5は前記と同意義。] のメタル化化合物を式 [式中、R15、R16およびR17は独立して水素ま
たは低級アルキルを表わす。] のカルボニル化合物と反応させる、または (c) R6と窒素原子の間の二重結合がトランス配
置であるとき(化合物d)、式 [式中、R1〜R6は前記と同意義。] の化合物を水素化ジイソブチルアルミニウムで
還元する、または (d) R6が上記定義の式bまたはcの基また
は式d [式中、R15、R16およびR17は前記と同意義。] の基を表わすとき(化合物e)、式f [式中、R1〜R5は前記と同意義、R6は式
e、fまたはgの基を表わす。 (式中、R11〜R17およびZは前記と同意義。)] の化合物から水を分離する、または (e) R3が水素または低級アルキルを表わし、R4
がC1-6アルキルまたはC3-8シクロアルキル−
(C1-6)アルキルを表わすとき(化合物g)、
[式中、R1、R2、R5およびR6は前記と同意
義、R3′は水素または低級アルキルを表わす。] の化合物にR4′基(C1-6アルキルまたはC3-8
クロアルキル−(C1-6)アルキルを表わす)を
導入する、 ことから成る。 方法(a)は、類似出発物質から縮合によつて第三
級アミンを製造するための常套方法で行われてよ
い。当該方法は、低級アルカノール(例えばエタ
ノール)(要すれば水混合物)、芳香族炭化水素溶
媒(例えばベンゼンまたはトルエン)、環状エー
テル(例えばジオキサン)またはカルボン酸ジア
ルキルアミド溶媒(例えばジメチルホルムアミ
ド)のような不活性溶媒中で行われてよい。反応
温度は、室温から反応混合物の沸騰温度までが有
利であり、室温が好ましい。反応は、アルカリ金
属炭酸塩(例えば炭酸ナトリウム)のような酸結
合剤の存在下で有利に行われる。脱離基Aは、ヨ
ウ素が有利であり、好ましくは塩素または臭素、
または1〜10の炭素数を有する有機スルホニルオ
キシ基(例えばメシルオキシのような好ましくは
1〜4の炭素数を有するアルキルスルホニルオキ
シまたはトシルオキシのような好ましくは7〜10
の炭素数を有するアルキルフエニルスルホニルオ
キシ)である。 方法(b)は通常の方法で行われてよい。例えば、
式cの化合物を例えば、エーテル(例えばテト
ラヒドロフラン)のような不活性溶媒中でブチル
リチウムでメタル化し、次いで得られる式cの
メタル化化合物を好ましくは単離することなく式
の化合物と反応させることによつて行われてよ
い。 方法(c)での水素化ジイソブチルアルミニウムに
よる還元は、不活性溶媒中で、例えばトルエンま
たはベンゼンのような芳香族炭化水素中で、室温
または加熱温度(例えば35〜40℃)で実施するの
が好ましい。 方法(d)での水の分離は、無機酸(例えば塩酸ま
たは硫酸)、有機酸(例えばメタンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸またはp−トルエンスルホン
酸)または無機酸もしくは有機酸の無水物もしく
はハロゲン化物(例えばPOCl3)のような適当な
剤で不活性溶媒中で実施することができる。過剰
の酸ハロゲン化物を使用すると、それは反応媒体
として作用し得るので、反応は第三級アミン(例
えばトリアルキルアミンまたはピリジン)のよう
な酸結合剤の存在下で実施する。反応温度は反応
条件に従つて変化し、例えば−10〜180℃である。
また、水の分離はポリリン酸でもつて80〜120℃
の温度で実施することもできて、リン酸のような
無機酸、酢酸のような有機酸または過剰のポリリ
ン酸は溶媒として機能し得る。 方法(e)は、第二級アミンの「アルキル化」(こ
のアルキル化は、ここでは炭化水素基R4の導入
を示すのに用いる)のための通常の方法で行われ
てよい。例えば、アルキル化剤(例えばハロゲン
化物または硫酸エステル)による直接アルキル
化、または還元的アルキル化、特に適当なアルデ
ヒドによる反応と同時にまたはその後の還元とに
よつて行われてよい。還元的アルキル化は、式
の化合物を相当するアルデヒドと低級アルカノー
ル(例えばメタノール)のような不活性有機溶媒
中で加熱温度で、特に反応混合物の沸騰温度で反
応させることにより行うのが適当である。その後
の還元は、例えば水素化錯体金属還元剤(例えば
NaBH4またはNaCNBH3)で行われてよい。ま
た、還元はアルキル化と同時に行われてもよく、
例えば、還元剤としてまた反応媒体として両方に
機能できるギ酸を使用して行われてよい。反応は
加熱温度、特に反応混合物の沸騰点で実施するの
が好ましい。 式の化合物の遊離塩基体は塩形態に変えられ
てよく、またその逆であつてもよい。適当な酸付
加塩としては、例えば塩酸塩、水素フマル酸塩ま
たはナフタリン−1,5−ジスルホン酸塩であ
る。 式の化合物およびそれらの中間体は、確立さ
れた方法に従つて分離可能な各種シス/トランス
異性体の異性体混合物の形態で得ることができ
る。他方、当該化合物の異性体は、出発物質の適
当な異性体を使用して得ることができる。特に説
明しない限り、当該化合物は常にこれらの異性体
の混合物であるとして理解されねばならない。 式の出発物質は一部新規であり、通常の方法
で式 [式中、R1〜R3は前記と同意義、Halはハロゲ
ンを表わす。] の化合物を式XI R4−NH2 XI [式中、R4は前記と同意義。] の化合物と反応させることによつて調製できる。 式の出発物質は一部新規であり、式XII R6′H XII [式中、R6′は前記と同意義。] の化合物を次の反応式 [式中、R5およびAは前記と同意義、Meは金
属カチオンを表わす。] に従つて反応させることにより調製できる。 式の出発物質は新規であり、 (a)′ 上記定義の式の化合物およびおよび
HC≡C−R6 、 R5CHO [式中、R5およびR6は前記と同意義。] の化合物をマンニツヒ反応に付すことによつ
て、または (b)′ R6が上記定義の式aの基を表わす場合に
おいては、上記定義の式の化合物を式 [式中、R5およびAは前記と同意義。] の化合物と反応させて式 [式中、R1〜R5は前記と同意義。] の化合物を得、そしてこれをCu+および式 R6′Hal [式中、R6′およびHalは前記と同意義。] の化合物でもつてカジオ−チヨキヴイツツ
(Cadiot−Chodkiewicz)カツプリング反応に
付すことによつて、または (c)′ R6が上記定義の式bの基を表わすとき、
式XI [式中、R1〜R5およびR11は前記と同意義。] の化合物から水を分離することによつて、 調製できる。 式の出発物質は新規であり、例えば、式
XII [式中、R1、R2およびR3′は前記と同意義。] の化合物を式 [式中、R5およびR6は前記と同意義。] の化合物と反応させて式 [式中、R1、R2、R3′、R5およびR6は前記と同
意義。] の化合物を得、そしてこれを例えば、NaBH4
のような水素化錯体で還元することによつて調
製できる。 式XIの化合物は、 (a)″ 上記定義の式の化合物、上記定義の式
の化合物および式 [式中、R11は前記と同意義。] の化合物をマンニツヒ反応に付すことによつ
て、または (b)″ 上記定義の式の化合物をメタル化し、
そして得られる金属化合物を式 CH3.CO.R11 [式中、R11は前記と同意義。] のカルボニル化合物と反応させることによつ
て、調製できる。 式aおよびb [式中、R1、R2およびuは前記と同意義。] の化合物は、次の反応式 [式中、R1、R2およびuは前記と同意義。] に従つて調製できる。 R6が上記定義の式eまたはfの基
を表わす式fの出発物質は新規であり、
LiAlH4でもつて式XIa [式中、R1〜R5は前記と同意義、R6は上
記定義の式eまたはfの基を表わす。] の化合物を還元することによつて調製でき
る。 式の化合物は一部新規であり、上記定
義の式XIIの化合物をブチルリチウムおよびハ
ロゲンと反応させることによつて調製でき
る。 式、、、、およびfの新規化合
物も本発明の一部を構成する。残りの中間化合物
は公知であるか、または公知方法に従つてもしく
は前述の如くして調製できる。 式の化合物は化学療法活性を示す。特に、こ
れらは、トリコフイトン・エスピーピー
(Tricho phyton spp)、アスペルギルス・エスピ
ーピー(Aspergillus spp)、ミクロスポルム・エ
スピーピー(Microsporum spp)およびスポロ
トリチウム・スケンキイ(Sporotrychium
schenkii)およびカンジダ・エスピーピー
(Candida spp)を包含する各種フアミリーやタ
イプの真菌類における例えば0.01〜100μg/mlの
濃度でのインビトロ試験、およびモルモツトの実
験皮膚真菌症モデルのインビボ試験で示される如
く、抗真菌性活性を示す。このモデルでは、モル
モツトはトリコフイトン・クインクケアヌム
(Trichophyton Quinckeanum)の皮下適用によ
つて感染されている。試験物質は感染24時間後か
ら初めて7日間毎日、皮膚表面に試験物質(ポリ
エチレングリコールに溶解)をこすることによる
局所適用によつて、または懸濁液として試験物質
を経口的または皮下的に適用することによつて投
与される。活性は、局所適用で例えば0.01〜5%
の濃度で示される。経口活性は、モルモツト−白
せん症モデルのインビボ試験で例えば2〜70mg/
Kgの用量で示される。 従つて、当該化合物は、特に皮膚糸状菌に対す
る抗真菌性剤としての用途を示す。指示一日量は
70〜2000mgである。要すれば、これは約17.5〜
1000mgを含む単位用量体で一日2〜4回の分割用
量でまたは持効型において投与されてよい。従つ
て、本発明は、式の化合物を使用して真菌類に
よつて引き起こされる疾病または感染を治療する
方法、および化学療法剤(例えば抗真菌性剤)と
しての用途および療法によりひとまたは動物を処
置する用途のための式の化合物にも関する。 当該化合物は、遊離塩基体または化学療法的に
許容される酸付加塩の形態で使用されてよい。か
かる塩形態は遊離塩基体と同程度の活性を示す。
適当な塩形態は、例えば塩酸塩、水素フマル酸塩
またはナフタリン−1,5−ジスルホン酸塩であ
る。 当該化合物は、通常の化学療法的に許容される
希釈剤および担体、要すれば他の賦形剤と混合さ
れてよく、また錠剤またはカプセル剤のような形
態で投与されてよい。他方、当該化合物は、軟膏
またはクリームのような通常の形態で局所的にま
たは非経口的に投与されてよい。勿論、活性物質
の濃度は、使用化合物、所望の治療、形態の性質
等に従つて変化する。しかし、一般には、満足な
結果は、例えば局所適用形態で、0.05〜5wt%、
特に0.1〜1wt%の濃度で得られる。 かかる組成物も本発明の一部を構成する。 好ましい化合物群の例は以下の通りである。 () R11はアルキル、アルケニル、アルキニル、
シクロアルキルアルキル、フエニルまたはフエ
ナルキルを表わし、他のすべての置換基は式
での定義通りである式の化合物。 ()(a) R1は式a、bまたはeの基、R2
水素、R3は水素、R4は低級アルキル、R5
水素または低級アルキルを表わし、または
R3およびR4は合して−(CH2)u−の基を形
成し、または (b) R1およびR2は合して式hの基、R3は水
素、R4は低級アルキル、R5は低級アルキル
を表わし、およびR6は前記と同意義である、 式の化合物(ここで、これらR6基において
式aの基が好ましく、および/またはR1
式aの基が好ましい。) 式の化合物における置換基の好ましい意義
は、上述の通りである。 R6と窒素原子の間の二重結合はトランス配置
である式の化合物が、一般に好ましい。 特に好ましい化合物は、N−メチル−N−(1
−ナフチルメチル)−ノナ−2(トランス)−エン
−4−イニル−1−アミン および塩酸塩である。 次に実施例を挙げて本発明を説明する。 実施例 1 トランス−N−(3−ベンゾ[b]チオフエン
メチル)−N−メチル−ノナ−2−エン−イニ
ル−1−アミンおよびシス−N−(3−ベンゾ
[b]チオフエンメチル)−N−メチル−ノン−
2−エン−イニル−1−アミン[方法(a)] 12gの1−ブロモ−2−ノネン−4−イン(シ
ス/トランス混合)を、10.5gのN−(3−ベン
ゾ[b]−チオフエンメチル)−N−メチルアミ
ン、8.2gのK2CO3および100mlのジメチルホルム
アミドの混合物に滴下し、次いで一晩中撹拌す
る。反応混合物を濾過し、溶媒を減圧下で除去す
る。残渣をエーテルとNaHCO3飽和水溶液の間
に分配し、有機層を乾燥し、減圧濃縮し、次いで
溶離剤としてトルエン/酢酸エチル4:1を用い
てキーゼルゲル上でクロマトグラフイーする。先
ずトランス異性体を溶離し、続いてシス異性体を
溶離する。両者は油である。 実施例 2 トランス−N−メチル−N−(1−ナフチルメ
チル)−6−ヒドロキシ−6−メチル−ヘプト
−2−エン−4−イニル−1−アミン[方法
(b)] ヘキサンに溶かしたブチルリチウム15%溶液
10.7mlを、無水テトラヒドロフラン中の3gのト
ランス−N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
ペント−2−エン−4−イニル−1−アミンに滴
下し、次いで30分後1.79gのアセトンの溶液と反
応させる。反応混合物を室温で24時間撹拌し、氷
上に注ぎ、次いでクロロホルムで抽出する。有機
層を洗い、乾燥し、および減圧濃縮する。キーゼ
ルゲル上でクロマトグラフイー(溶離剤;トルエ
ン/酢酸エチル4:1)後、表記化合物が油とし
て得られる。 実施例 3 (a) トランス−N−メチル−N−(1−ナフチル
メチル)−ノナ−2−エン−4−イニル−1−
アミン[方法(c)] トルエン中のDIBAH(水素化ジイソブチル
アルミニウム)の1.2M溶液72mlを、乾燥トル
エン中の5gのN−メチル−N−(1−ナフチ
ルメチル)−2,4−ノナジイニル−1−アミ
ンの溶液に滴下し、次いで生成する混合物を保
護ガス下40℃で一晩中、および室温で24時間撹
拌する。 過剰の試薬を冷却下2N−NaOHで分解させ、
反応混合物をエーテルで抽出する。有機層を乾
燥し、減圧濃縮し、次いでキーゼルゲル上でク
ロマトグラフイー(溶離剤;トルエン/酢酸エ
チル95:5)する。表記物質が油として単離さ
れる。 (b) 塩酸塩 上記(a)の化合物を通常の方法で、例えば4N
−エタノール性HClで処理することにより、そ
の塩酸塩に変換し、これは再結晶後118〜121℃
で溶融する。 実施例 4 N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)−デカ
−2(トランス),6(シス)−ジエン−4−イニ
ル−1−アミン 1gのトランス−N−メチル−N−(1−ナフ
チルメチル)−6−ヒドロキシ−デク−2−エン
−4−イニル−1−アミンを、ベンゼン中の570
mgのp−トルエンスルホン酸(1水和物)と共に
水分離器下で還流する。混合物を2時間後に冷却
し、有機層をNaHCO3飽和水溶液と数回振とう
し、乾燥し、次いで減圧濃縮する。残渣をキーゼ
ルゲル上でクロマトグラフイー(溶離剤;トルエ
ン/酢酸エチル9:1)して、表記生成物を得
る。 実施例 5 N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)−4−
シクロヘキシル−2−(トランス)−4−ペンタ
ジエニル−1−アミン(A)およびN−メチル−N
−(1−ナフチルメチル)−4−シクロヘキシリ
デニル−2−(トランス)−ペンテニル−1−ア
ミン(B) 1gのN−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
−4−ヒドロキシ−4−シクロヘキシル−2−ペ
ンテニル−1−アミンを、ベンゼン中の570mgの
p−トルエンスルホン酸(1水和物)と共に水分
離器下で還流する。混合物を2時間後に冷却し、
有機層をNaHCO3飽和水溶液と数回振とうし、
乾燥し、次いで減圧濃縮する。残渣をキーゼルゲ
ル上でクロマトグラフイー(溶離剤;トルエン/
酢酸エチル9:1)して、先ず表記生成物(A)を、
続いて表記生成物(B)をそれぞれ油として得る。 実施例 6 トランス−N−メチル−N−(1−ナフチルメ
チル)−4−シクロヘキシリデニル−2−ブテ
ン−イル−アミン[方法(e)] 3gの(1−ナフチルメチル)メチルアミンお
よび2.86gの4−シクロヘキシリデニル−2−ブ
テナールを、エーテル中で4Åの分子ふるいと共
に撹拌する。反応混合物を濾過し、減圧濃縮す
る。残渣をメタノールに採取し、800mgのNaBH4
で処理し、次いで室温で2時間撹拌する。 このようにして得られる第2級アミンを含有す
る反応混合物を直接に還元的メチル化に供する。
8mlのホルムアルデヒド37%水溶液を加え、1時
間還流する。次いで、混合物を氷冷却下3.6gの
NaBH4で処理し、室温で16時間撹拌する。生成
する混合物を減圧濃縮し、残渣を飽和NaHCO3
と酢酸エチルに間に分配し、次いで有機層を乾燥
し、濃縮する。キーゼルゲル上でクロマトグラフ
イー(溶離剤;トルエン/酢酸エチル4:1)す
ることにより、表記物質が油として得られる。 以下に示す式の化合物は、同様な方法で得る
ことができる。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 次表に、NMRデータを付与する。データは、
CDCL3中の標準としてのTMSに関してppm単位
のピークから成る。ピークの種類は以下の通りで
ある。 m=多重線、dt=ダブル三重線、dm=ダブル
多重線、s=一重線、d=二重線、t=三重線、
ps.t=偽三重線、dd=ダブル二重線、dbr=ダブ
ル広幅、br=広幅、qua=四重線、mbr=マルチ
広幅、sext=六重線、ddd=ダブルダブル二重
線、sbr=一重広幅 また、arom.は芳香環およびolef.はオレフイン
をそれぞれ意味する。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 必要な出発材料は、例えば以下の如くして得る
ことができる。 1 式の化合物 (A) (3−ベンゾ[b]チオフエンメチル)メ
チルアミン(実施例1の) 3−クロロメチルベンゾ[b]チオフエン
をベンゼンに溶解し、これをエタノール中の
約10倍過剰のメチルアミンに0〜5℃で滴下
し、次いで室温で16時間撹拌する。粗混合物
を減圧濃縮し、残渣を塩化メチレンと1N−
NaOHの間に分配し、次いで有機層に乾燥
し、減圧蒸発させる。減圧蒸留により、b.
p.90〜94℃/1.33Paの純生成物が得られる。 (B) (3−ベンゾ[b]フランメチル)メチル
アミン(実施例12および13の) 実施例(A)と同様にして得られる。b.p.105
〜110℃/5.3Pa。 (C) 2−(1−ナフチル)ピペリジン(実施例
15、32および33の) 無水エーテル中の43.4gの1−ブロモナフ
タリンを、50mlの無水エーテル中の5.1gの
マグネシウムに滴下して、グリニヤール錯体
を調製する。反応混合物からエーテルを除去
し、無水ベンゼンと置換する。沸とうする反
応混合物に8gの6−メトキシ−2,3,
4,5−テトラヒドロピリジンを加える。更
に8時間後混合物を冷却し、塩化アンモニウ
ム飽和水溶液で処理し、次いでHCl水溶液と
振とうさせて有機層から反応生成物を除去す
る。中和およびワークアツプ後、2−(1−
ナフチル)−3,4,5,6−テトラヒドロ
ピリジンをメタノールに直接溶解し、
NaBH4で還元する。通常のワークアツプ後、
生成物をアルコール性HCl溶液でその塩酸塩
に変換する。融点287〜289℃(高減圧下328
〜329℃の強力乾燥後)。 2 式の化合物 (D) 1−ブロモ−6,6−ジメチル−2−ヘプ
テン−4−イン(実施例54、55および57の) (a) 6,6−ジメチル−1−ヘプテン−4−
イン−3−オール 38mlの3,3−ジメチル−1−ブチンを
無水テトラヒドロフランに溶解し、172ml
のn−ブチル−リチウム20%溶液を保護ガ
ス下−20℃の温度で滴下する。次いで、反
応混合物を−75℃に冷却し、20mlのテトラ
ヒドロフラン中の19.3gのアクロレインを
滴下する。混合物を室温に温ため、
NH4Cl飽和水溶液と反応させ、次いでエ
ーテルで何回か抽出する。有機層を乾燥
し、濃縮し、次いで減圧蒸留してb.p.70〜
72℃/1600Paの純生成物を得る。 (b) 1−ブロモ−6,6−ジメチル−2−ヘ
プテン−4−イン 50mlの48%HBrと10gのPBr3を、均一
な混合物が得られるまで40℃で撹拌する。 13.5gの6,6−ジメチル−1−ヘプテ
ン−4−イン−3−オールのアルコール溶
液を、10℃で滴下し、室温で11/2時間撹拌
する。反応混合物を氷上に注ぎ、ヘキサン
で何回か抽出する。有機層をNaCl水溶液
で何回か洗い、乾燥し、次いで濃縮する。
NMR−スペクトグラフによれば、油状の
生成物はトランス−およびシス−1−ブロ
モ−6,6−ジメチル−2−ヘプテン−4
−インの3:1混合物から成り、および直
接アルキル化されることが示される。 NMR;δ=5.5〜6.4(m、2olef.H)、[比率1:
3の4.15(d、J=8Hz)および3.95
(d、J=8Hz)、2H、=CH−CH2 Br]、
1.20(m、9H)。 上記(D)と同様にして、以下に示す式の
化合物を得ることができる。
【表】 式の残りの化合物は、上記(D)と同様に
して得ることができる。 3 式の化合物 (M) N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
オクタ−2,4−ジイニル−1−アミン(実
施例29の) 9gの1,3−ヘプタジイン、16gのメチ
ル−(1−ナフチルメチル)アミン、2.8gの
パラホルムアルデヒドおよび1.3gのZnCl2
(無水物)を、無水ジオキサンにて100℃で3
時間加熱する。冷却後溶媒を減圧除去し、残
渣をクロロホルムとNaHCO3水溶液の間に
分配し、次いで有機層を乾燥し、濃縮する。
キーゼルゲル上でクロマトグラフイー(トル
エン/酢酸エチル9:1)することにより、
純生成物が油として得られる。 (N) N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
−2,4−ノナジイニル−1−アミン(実施
例3の) 16gのN−メチル−N−(1−ナフチルメ
チル)−プロパルジルアミン、0.5gの
NH2OH・HCl、0.25gのCuClおよび20mlの
70%エチルアミンの混合物に、8.25gの1−
ブロモヘキシンを滴下する。反応混合物を室
温で一晩中撹拌し、1gのKCNの水溶液で
処理し、次いでエーテルで何回か抽出する。
有機層をNaCl飽和水溶液で洗い、乾燥しお
よび蒸発させる。キーゼルゲル上のクロマト
グラフイー(溶離剤;トルエン/酢酸エチル
95:5)後、表記物質が油として得られる。 (O) N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
−4−t−ブチル−ペント−2−イン−4−
エニル−1−アミン(実施例41の) 933mgのN−メチル−N−(1−ナフチルメ
チル)−4−ヒドロキシ−4,5,5−トリ
メチル−2−ヘキシニル−1−アミンを無水
ピリジンに溶解し、50℃に温ため、次いで
0.4mlのPOCl3を加える。90℃で1時間撹拌
を行い、混合物を氷上に注ぎ、次いでエーテ
ル抽出およびキーゼルゲル上のクロマトグラ
フイー(溶離剤;トルエン/酢酸エチル9:
1)によつて、反応生成物を油として単離す
る。 上記(M)、(N)および(O)と同様にし
て、以下に示す式の化合物を得てもよい。
【表】 式の残りの化合物は、上記(M)、(N)お
よび(O)と同様にして調製することができ
る。 4 式fの化合物 (T) N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
−4−ヒドロキシ−4−シクロヘキシル−2
−ペンテニル−1−アミン(実施例5の) (a) N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
−4−ヒドロキシ−4−シクロヘキシル−
ペント−2−イニル−1−アミン ヘキサン中のBuLi15%溶液の10.7mlを、
無水テトラヒドロフラン中の3gのN−メ
チル−N−(1−ナフチルメチル)プロパ
ルジルアミンに滴下し30分後1.79gのシク
ロヘキシル−メチルケントの溶液と反応さ
せる。室温で24時間撹拌を継続し、混合物
を氷上に注ぎ、次いでエーテル抽出する。
有機層を洗い、乾燥しおよび減圧濃縮す
る。キーゼルゲル上のクロマトグラフイー
(溶離剤;トルエン/酢酸エチル4:1)
によつて、表記生成物が油として生じる。 (b) N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)
−4−ヒドロキシ−4−シクロヘキシル−
2−ペンテニル−1−アミン 上記(a)で得られる物質の10gをテトラヒ
ドロフランに溶解し、これを無水テトラヒ
ドロフラン中の1.4gのLiAlH4の懸濁液に
滴下し、混合物を3時間還流する。過剰の
試薬を酢酸エチル/水で分解する。エーテ
ル抽出、乾燥および減圧蒸発後、引続いて
キーゼルゲル上でクロマトグラフイー(溶
離剤;CHCl3/C2H5OH95:5)により、
表記生成物を油として得る。 上記(T)と同様にして、以下に示す化合
物を得ることができる。
【表】 式の化合物は上記実施例6と同様に調製す
ることができ、好ましくは最終工程での追加の
精製あるいは単離をせずに、直接使用に供す
る。
【表】
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 [式中、 (a) R1は式 または の基およびR2は水素または低級アルキルを表
    わすか、またはR1およびR2は合して式 または の基を表わす(R7およびR8は独立して水素、
    ハロゲン、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、
    ニトロ、低級アルキルまたは低級アルコキシ、
    R9は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アル
    キルまたは低級アルコキシ、Xは酸素、イオ
    ウ、イミノ、低級アルキルイミノまたは式−
    (CH2)r−の基を表わし、pは1、2または
    3、rは1、2または3、sは3、4または
    5、tは2、3または4、およびvは3、4、
    5または6である。) R3およびR5は独立して水素または低級アル
    キルを表わす。 R4はC1-6アルキルまたはC3-8シクロアルキ
    ル−(C1-6)アルキルを表わす。および、 R6は式 −C≡C−R11、a、
    【式】 または の基を表わす(R11は水素、所望によりα−ヒ
    ドロキシ置換されたアルキル、アルケニル、ア
    ルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルア
    ルキル、フエニル、フエナルキルまたはチエニ
    ル、R12、R13およびR14は独立して水素または
    低級アルキル、および【式】は所望に より二重結合を含むC5-8シクロアルキリデン基
    を表わす。(但し、R1が式aであり、R2
    R3、R5、R7とR8がそれぞれ水素であり、R4
    メチルであり、R6が式aであるとき、R11
    t−ブチルではない。)または、 (b) R1は上記(a)に定義の式a〜gの式を表
    わす。 R2は水素または低級アルキルを表わす。 R3およびR4は合して式−(CH2)u−(uは
    1〜8の整数である)の基を形成する。およ
    び、 R5およびR6は上記(a)と同意義である。] の化合物またはその酸付加塩。 2 (a) R1は式a、bまたはeの基、R2
    は水素、R3は水素、R4は低級アルキル、R5
    水素または低級アルキルを表わし、またはR3
    およびR4は合して−(CH2)u−の基を形成
    し、または、 (b) R1およびR2は合して式hの基、R3は水素、
    R4は低級アルキル、R5は低級アルキルを表わ
    し、およびR6は上記第1項と同意義である
    (但し、R1が式aであり、R2、R3、R5、R7
    とR8がそれぞれ水素であり、R4がメチルであ
    り、R6が式aであるとき、R11はt−ブチル
    ではない。)、 上記第1項の化合物。 3 R6は上記第1項に定義の式aの基を表わ
    す上記第1項または第2項の化合物。 4 R1は上記第1項に定義の式aの基を表わ
    す上記第1〜3項のいずれか一の化合物。 5 R6基と窒素原子の間の二重結合がトランス
    配置である上記第1〜4項のいずれか一の化合
    物。 6 R11はアルキル、アルケニル、アルキニル、
    シクロアルキルアルキル、フエニルまたはフエナ
    ルキルを表わし、および他のすべての置換基を上
    記第1項と同意義である上記第1〜5項のいずれ
    か一の化合物。 7 N−メチル−N−(1−ナフチルメチル)−
    6,6−ジメチル−ヘプタ−2(トランス)−エン
    −4−イニル−1−アミンである上記第1項の化
    合物。 8 R1が式aであり、R2、R3、R5、R7とR8
    それぞれ水素であり、R4がメチルであり、R6
    式aであり、R11が−C(CH32C2H5であり、
    R6基と窒素原子の間の二重結合がトランス配置
    である上記第1項の化合物。 9 遊離塩基体の上記第1〜8項のいずれか一の
    化合物。 10 その酸付加塩の形態の上記第1〜8項のい
    ずれか一の化合物。 11 その塩酸塩の形態の上記第10項の化合
    物。 12 式 [式中、 (a) R1は式 または の基およびR2は水素または低級アルキルを表
    わすか、またはR1およびR2は合して式 または の基を表わす(R7およびR8は独立して水素、
    ハロゲン、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、
    ニトロ、低級アルキルまたは低級アルコキシ、
    R9は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アル
    キルまたは低級アルコキシ、Xは酸素、イオ
    ウ、イミノ、低級アルキルイミノまたは式−
    (CH2)r−の基を表わし、pは1、2または
    3、rは1、2または3、sは3、4または
    5、tは2、3または4、およびvは3、4、
    5または6である)。 R3およびR5は独立して水素または低級アル
    キルを表わす。 R4はC1-6アルキルまたはC3-8シクロアルキ
    ル−(C1-6)アルキルを表わす。および、 R6は式 −C≡C−R11、a、 【式】 または の基を表わす(R11は水素、所望によりα−ヒ
    ドロキシ置換されたアルキル、アルケニル、ア
    ルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルア
    ルキル、フエニル、フエナルキルまたはチエニ
    ル、R12、R13およびR14は独立して水素または
    低級アルキル、および【式】は所望に より二重結合を含むC5-8シクロアルキリデン基
    を表わす。(但し、R1が式aであり、R2
    R3、R5、R7とR8がそれぞれ水素であり、R4
    メチルであり、R6が式aであるとき、R11
    t−ブチルではない。)または、 (b) R1は上記(a)に定義の式a〜gの式を表
    わす。 R2は水素または低級アルキルを表わす。 R3およびR4は合して式−(CH2)u−(uは
    1〜8の整数である)の基を形成する。およ
    び、 R5およびR6は上記(a)と同意義である。] の化合物または化学療法的に許容されるその酸付
    加塩と化学療法的に許容される希釈剤または担体
    の混合物を含む、抗真菌剤。
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