JPH04162729A - 電界効果トランジスタ - Google Patents

電界効果トランジスタ

Info

Publication number
JPH04162729A
JPH04162729A JP28897490A JP28897490A JPH04162729A JP H04162729 A JPH04162729 A JP H04162729A JP 28897490 A JP28897490 A JP 28897490A JP 28897490 A JP28897490 A JP 28897490A JP H04162729 A JPH04162729 A JP H04162729A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
gate electrode
semiconductor chip
forming region
outer periphery
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28897490A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadayuki Tozawa
戸澤 忠幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP28897490A priority Critical patent/JPH04162729A/ja
Publication of JPH04162729A publication Critical patent/JPH04162729A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)
  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電界効果トランジスタに関する。
〔従来の技術〕
従来の電界効果トランジスタは、第2図(a)。
(b)に示すように、半導体チップ4の素子形成領域に
短冊状のゲートt[,2を配列し、且つ互に接続して設
け、ゲート電極2を挟んで対向するように櫛形のソース
電極1及びドレイン電極3を設け、素子形成領域の周囲
及び半導体チップ4の側面及び裏面にメタライズ層1a
を設けてソース電極1と電気的に接続し、パッケージに
実装したと・きにソース電極1が設置される構成を有し
ている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の電界効果トランジスタは、素子形成領域
に設けたゲート電極やドレイン電極と周囲のメタライズ
層が同一平面内に形成されているが、高周波素子におい
ては、ゲート電極やトレイン電極と外部端子を接続する
ボンディング線はインダクタンスとして働き、インダク
タンスを小さくするなめにはホンディング線の長さを短
かくしなければならない。
しかし、ボンディング線の長さを短がくすると、ボンデ
ィング線と周囲のメタライズ層が接触して、ゲート電極
又はドレイン電極とソース電極が短絡するという間超点
がある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の電界効果トランジスタは、半導体チップの素子
形成領域に設けたケート電極と、前記ゲート電極を挟ん
で対向するように設けたソース電極及びドレイン電極を
有する電界効果トランジスタにおいて、前記素子形成領
域の外周に前記ゲート電極よりも低く下げた面及び前記
半導体チップの側面及び裏面に設け且つ前記ソース電極
と電気的に接続した導体層を備えている。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す断面図である。
第1図に示すように、従来例と同様に半導体チップ4の
素子形成領域にゲート電極2.ソース電極1.ドレイン
電極3を夫々設け、素子形成領域の外周に半導体チップ
4の表面を一部エツチンクして設けた段差部及び半導体
チップ4内側面及び裏面を含んでメタライズ層1aを設
け、ソース電極1に電気的に接続している。
ここで、素子形成領域の外周に設けたメタライズ層1a
は、ゲート電極2やドレイン電極3を含む平面とは1段
低く形成されており、ゲート電極2又はトレイン電極3
と外部端子を接続するボンデング線がメタライズ層1a
と接触することを防止できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、素子形成領域の外周に設
けるメタライズ層をケート電極やドレイン電極の位置よ
りも低くすることにより、ゲート電極又はドレイン電極
と外部端子を接続するボンディング線の長さを短くして
インダクタンスを小さくすることができ電界効果トラン
ジスタの高周波特性を向上させることができるという効
果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す半導体チップの断面図
、第2図<a)、(b)は従来の電界効果トランジスタ
の一例を示す平面図及びA−A゛線断面図である。 1・・・ソース電極、1a・・・メタライズ層、2・・
・ゲート電極、3・・・ドレイン電極、4・・・半導体
チップ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体チップの素子形成領域に設けたゲート電極と、
    前記ゲート電極を挟んで対向するように設けたソース電
    極及びドレイン電極を有する電界効果トランジスタにお
    いて、前記素子形成領域の外周に前記ゲート電極よりも
    低く下げた面及び前記半導体チップの側面及び裏面に設
    け且つ前記ソース電極と電気的に接続した導体層を備え
    たことを特徴とする電界効果トランジスタ。
JP28897490A 1990-10-26 1990-10-26 電界効果トランジスタ Pending JPH04162729A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28897490A JPH04162729A (ja) 1990-10-26 1990-10-26 電界効果トランジスタ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28897490A JPH04162729A (ja) 1990-10-26 1990-10-26 電界効果トランジスタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04162729A true JPH04162729A (ja) 1992-06-08

Family

ID=17737210

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28897490A Pending JPH04162729A (ja) 1990-10-26 1990-10-26 電界効果トランジスタ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04162729A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20040050587A1 (en) Transmission line and device including the same
JP2000021926A (ja) 半導体装置
JPH05335487A (ja) 伝送回路素子
JPS62273755A (ja) 電界効果トランジスタおよびその製造方法
KR940012583A (ko) 반도체 집적회로 장치 및 그 제조방법
JP2638514B2 (ja) 半導体パッケージ
JPS63202974A (ja) 半導体装置
JPH0416437Y2 (ja)
JPS614265A (ja) 半導体集積回路装置
JPS6236290Y2 (ja)
JPS61172376A (ja) 半導体装置
JPS58116763A (ja) Mos型rom
JPH0677258A (ja) 電界効果トランジスタ及びその製造方法
JPH01216608A (ja) 半導体装置用パッケージ
JP2820129B2 (ja) 半導体パッケージ
JPH0719148Y2 (ja) マイクロ波回路用パッケージ
JPS63274202A (ja) 電界効果型トランジスタ
JP3192238B2 (ja) 半導体装置の組立方法
JPH054281Y2 (ja)
JPS63133701A (ja) マイクロ波半導体装置
JPH0327559A (ja) 半導体装置
JPH04271137A (ja) 高周波用半導体パッケージ
JPH04321240A (ja) 半導体装置
JP2570638B2 (ja) 半導体用パッケージ
JPS6399555A (ja) GaAs電界効果トランジスタ