JPH04184344A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JPH04184344A
JPH04184344A JP31479390A JP31479390A JPH04184344A JP H04184344 A JPH04184344 A JP H04184344A JP 31479390 A JP31479390 A JP 31479390A JP 31479390 A JP31479390 A JP 31479390A JP H04184344 A JPH04184344 A JP H04184344A
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Katsuhiro Yamashita
山下 克浩
Satoshi Imahashi
聰 今橋
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重合
性組成物に関する。
(従来の技術) 光重合性組成物は多数の用途に広く利用されており、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。
これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物または
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。と
ころが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。
また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり、アル
ゴンイオンレーザ−などの可視部領域に大きな発振強度
を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術と
して要求されている。そのために可視光線に対して高い
感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対して
高感度な光開始剤の開発が望まれている。
そこで高感度を有する光開始剤として、特開昭54−1
55292号公報にはへキサアリールビスイミダゾール
を含む系、特開昭58−15503号公報には活性ハロ
ゲン化合物と3−ヶ)ft換ツクマリン化合物系、特開
昭5E3−4604号公報には3−ケト置換クマリンと
N−フェニルグリシンの系、特開昭61−97850号
公報には3−置換クマリンとキナゾリノン誂導体との組
合せ、特開昭81−123803号公報にはへキサアリ
ールビスイミダゾールと3−ケトrILyAクマリンと
の組合せの光開始剤系が開示されている・(発明が解決
しようとする課題) しかしながら前記の光開始剤系では感度が不十分であり
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
(課題を解決するための手段) 本発明者は以上の課題を解決すべく、つまり、光重合性
組成物の可視光に対する感度を向上させる目的で、光開
始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発明
を完成するに到った。すなわち本発明は (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
飽和化合物 (b)下記一般式(I)で示させる鉄アレン錯体(c)
チタノセン化合物 (d)(イ)下記一般式(IIa)で示させる3−置換
クマリン (0)下記一般式(IIb)で示されるp−アミノフェ
ニル不飽和ケトン (ハ)下記一般式(IIc)で示されるキサンチンまた
はチオキサンテン化合物 の(イ)、(ロ)、(ハ)からなる群から選ばれた少な
くとも1つの化合物を含宵することを特徴とする光重合
性組成物である。
(q (式中R”、R2は同じか又は異なる基であり、R2は
ベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよい。X
lはBF4.PFe、AsF5,5bFs 。
FeCR4,SnCgs、5bCQe、BiCQsを示
す。) (式中、R3,R’、R’、R”は水素、アルキル基、
アルコキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基
、シアン基、または2つで縮合環系または縮合複素環系
を形成してもよい。Zはアリール基、複素環基、または
−C−R7を示す。R7はアルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基、複素環基を示す。) (llb) CIIb式中、pとqはそれぞれ0または1であり、R
81R91R”l R”I R121R”は水素原子ま
たは炭素数1〜24の有機基を示す。) R′4はメチリジン基またはR”と結合してカルボニル
基とともに環を形成することができる炭素数1〜5のア
ルキレン−イリジン基、R15は炭素原子または置換ま
たは非置換のフェニル基あるいはR”とカルボニル基と
共にインダノンまたはテトラロンまたはインダンジオン
を形成する基を示R”は水素原子または炭素数1〜24
の有機基である。) 〔式中、Aは酸素原子または硫黄原子、Bは水素原子ま
たはハロゲン原子、Dは炭素原子または窒素原子(ただ
し、Dが炭素原子の場合は隣接する炭素原子との間(点
線で示した箇所)は二重結合であり、Dが窒素原子の場
合には隣接する炭素との間は一重結合である。)、Eは
酸素原子(この場合には隣接する炭素との間は二重結合
である。)、アルコキシ基またはアルカノイルオキシ基
、R22はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルフ
キジアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、または
アリール基、R23は水素原子、アルコキシ基、アルキ
ル基、ジアルキルアミノ基である。〕 本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
フールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
−ト、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
が挙げられる。
第2の成分(b)で前記一般式ロ)で表わされる鉄アレ
ン錯体は、Chesiker−Zeltung、  1
08ロ1)345〜354 ロ984)に数多くの化合
物が記載されている。
前記一般式(I)においてR”、R2はC1〜C1□の
アルキル基、C2〜C1□のアルケニル基、C2〜CI
2のアルキニル基、C,#C,のアルコキシ基、シアン
基、アルキルチオ基、フェノキシ基%C2〜C8のモノ
カルボン酸およびエステルおよびアミド、フェニル基%
 C2〜C5のアルカノイル基、アンモニウム塩、ピリ
ジニウム基、ニトロ基、アルキルスルフィニル基、アル
キルスルフォニル基、スルファモイル基より選ばれる。
具体的には(η6−ベンゼン)(η6−シクロペンタジ
ェニル)鉄(II)−へキサフルオロホスフェート、(
η6−トルエン)(η5−シクロペンタジニエル)鉄(
n)へキサフルオロホスフェ−)、(η6−クメン)(
η5−シクロペンタジェニル) 鉄(II)へキサフル
オロホスフェート、(η6−ベンゼン)(η5−シクロ
ペンタノエニル) 鉄(n)へキサフルオロアルセネー
ト、(η8−ベンゼン)(η5−シクロペンタジェニル
)鉄(II)テトラフルオロボレート、(η6−ナフタ
レン)(η6−ナフタレン)(η5−シクロペンタジェ
ニル)鉄(■)へキサフルオロホスフェート、(η6−
アントラセン)(η5−シクロペンタジェニル) 鉄(
II)へキサフルオロホスフェート、(η6−ピレン)
(η5−シクロペンタジエ二k> 鉄(II)へキサフ
ルオロホスフェート、(η6−ベンゼン)(η5−シア
ノシクロペンタジェニル) 鉄(II)へキサフルオロ
ホスフェート、(η8−トルエン)(η5−アセチルシ
クロペンタジェニル)鉄(II)へキサフルオロホスフ
ェート、(η6−クメン)(η5−クロルシクロペンタ
ジェニル)鉄(If)テトラフルオロボレート、(η6
−ベンゼン)(η5−カルボエトキンシクロへキサジェ
ニル)鉄(n)へキサフルオロホスフェート、(η6−
ベンゼン)(η’−1,3−ジクロルシクロへキサジェ
ニル)鉄(n)へキサフルオロホスフェート、(η6−
ジアツベンゼン)(η5−シクロへキサジェニル)鉄(
II)へキサフルオロホスフェート、(η6−アセトフ
ェノン)(η5−シクロへキサジェニル) 鉄(II)
へキサフルオロホスフェート、(η8−メチルベンゾニ
ー))  (η5−シクロペンタジェニル) 鉄(II
)へキサフルオロホスフェート、(η8−ベンゼンスル
ホンアミド)(η5−シクロペンタジェニル)鉄(II
)テトラフルオロボレート、(η8−ベンズアミド)(
η5−シクロペンタジェニル)鉄(II)へキサフルオ
ロホスフェート、(η6−ジアツベンゼン)(η5−シ
アノシクロペンタジェニル)鉄(II)へキサフルオロ
ホスフェート、(ηe−クロルナフタレン)(η5−シ
クロペンタジェニル) 鉄(II)へキサフルオロホス
フェート、(η6−アントラセン)(η6−ジアツシク
ロペンタジエニル)鉄(II)へキサフルオロホスフェ
ートなどがあげられる。これらの化合物は、Dokl、
ムkd、Nauk 5SSR149G15ロ9G3)に
記載された方法により合成できる。
第3の成分(C)のチタノセンは、−M式(III )
の構造の化合物が好ましい。
R24、R”は、それぞれ置換または非置換のシクロペ
ンタジェニル基である。R26、R”は、それぞれ置換
または非置換のフェニル基であり、特に、ハロゲン原子
で置換されていることが特に好ましい。第3成分(C)
のチタノセンの具体例を以下に示す。
第4の成分(d)の一般式(IIa)で示される3−置
換クマリンとして、具体的には、7−ジニチルアミノー
3−(2−ベンゾチアジル)−クマリン、7−ジニチル
アミノー3−(2−ベンズイミダゾリル)−クマリン、
7−ジニチルアミノー3−(2−ベンズオキサシリル)
−クマリン、7−シエチルアミノー3−(2−ベンズチ
アゾリル)−クマリン、7−ジニチルアミノー3−ベン
ゾイル゛クマリン、7−ジエチルアミン−3−チエノイ
ルクマリン、7−ジエチルアミン−3,3′−カルポニ
ルビスタマリン、3.3’ −カルボニルビス(7−ジ
ニチルアミノクマリン)、9.9’ −カルボニルビス
ロ,2,4,5−テトラヒドロ−3H,6H,IOH[
Iコベンゾビラノ[9,9a+1−gh]キノラジンー
10−オン)などか挙げられる。これらの化合物の合成
方法は、ChemicalReviews aGl ロ
945)およびTetrahedron 38 (9)
1203〜1211 ロ982)に記載されている。
第4の成分(d)のp−アミノフェニル不飽和ケトンは
、一般式(IIb)で示される。一般式(IIb)にお
いて、p、qはそれぞれ独立にOまたは1であり、R”
lR9+R′。I  R”I  R”I R”は、それ
ぞれ独立に水素原子C3〜C12のアルキル基、C2〜
C1゜のアルケニル基、02〜CI2のアルキニル基%
C1〜C8のアルコキシ基、C1〜C8のアルキルチオ
基、C6〜Cooのアリールオキシ基NC8〜C20の
置換および非置換アリール基、カルボキシル基、シアン
基、ハロゲン原子、アミノ基、C1〜Ct2のモノアル
キルアミノ基、C2〜C24のジアルキルアミノ基%C
I〜C8□のシアノアルキル基%C1〜CI2のアルコ
キシカルボニル基、C2〜C24のアルコキシカルボニ
ルアルキル基、01〜CI2のヒドロキシカルボニルア
ルキル基、CI ”’−CI2のアン0キシ基、または
02〜C24のアシルオキシカルボニルアルキル基等を
示す。
R14はメチリジン基またはR”と結合してカルボニル
基とともに環を形成することができる炭素原子数1〜5
のアルキレン−イリジン基R”は炭素原子、置換または
非置換フェニル、もしくはR”とカルボニル基とともに
インダノンまたはテトラロンまたは、インダンジオンを
形成する基、(式中rは0または1であり、R”、R1
M、RIg、R”、R”は、それぞれ独立に水素原子C
8〜C1゜のアルケニル基、C2〜CI2のアルキニル
基、C,〜C8のアルコキシX、C,〜C8のアルキル
チオ基、C6〜C3゜のアリールオキシ基、06〜C2
0の置換および非置換アリール基、カルボキシル基、シ
アン基、ハロゲン原子、アミノ基、C8〜C1□置換お
よび非置換のモノアルキルアミノ基、C2〜C24置換
および非置換のジアルキルアミノ基、C,〜C12のシ
アノアルキル基、01〜C1□のアルコキシカルボニル
基、02〜C24のアルコキシカルボニルアルキルM、
c。
〜C1゜のヒドロキシカルボニルアルキル基、C1〜C
t2のアシロキシ基、またはC2〜C24のアシルオキ
シカルボニルアルキル基等を示す。)である。
一般式(IIb)で表わされる化合物は、具体的には、
2,5−ビス(4′−ジエチルアミノベンジリデン)シ
クロペンタノン、2.5−ビス(4’−ジメチルアミノ
ベンジリデン)シクロペンタノン、2.6−ビス(4’
 −ジエチルアミノベンジリデン)シクロヘキサノン、
2,6−ビス(4′−ジメチルアミノベンジリデン)シ
クロヘキサノン、2.5−ビス(4′−ジメチルアミノ
シンナミリデン)シクロペンタノン、2.8−ビス(4
′−ジメチルアミノシンナミリデン)シクロヘキサノン
、1.3−ビス(4′−ジメチルアミノベンジリデン)
アセトン、2− (4’ −ジエチルアミノベンジリデ
ン)−1−インダノン、2−(9′−ジュロリリデン)
−1−インダノン、2−(4′−ジエチルアミノベンジ
リデン)−1−テトラロン、4′−ジエチルアミノ−2
′−メチルベンジリデン−アセトフェノン、2.5−ビ
ス(4’−N−エチル−N−力ルボメトキシメチルアミ
ノベンジリデン)シクロペンタノン、2. 5−ビス(
4’ −N−エチル−N−力ルボキシメチルアミンベン
ジリデン)ペンタノンおよびそのナトリウム塩、2,5
−ビス(4’ −N−メチル−N−シアノエチルアミノ
ベンジリデン)シクロペンタノン、2,5−ビス(4’
 −N−エチル−N−10!レエチルアミノシンナリデ
ン)シクロペンタノン、2,6−ビス(4’ −N−シ
アノエチルアミノベンジリデン)シクロヘキサノン、2
−(4’ −N−エチル−N−力ルボキノメチルアミノ
ベンジリデン)−1−インダノン、2− (4’−N−
エチル−N−力ルボキシメチルアミンベンジリデン)−
1−テトラロンのナトリウム塩、2− (4’ −エチ
ル−N−シアノエチルアミノベンジリデン)−1−イン
ダノン、2− (4’ −ジエチルアミノベンジリデン
)−1,3−インダンジオン、2− (4’−N−シア
ノエチル)−N−エチルアミノベンジリデン)−1,3
−インダンジオンなどが挙げられる。
第4成分(d)のキサンチンまたはチオキサンテン化合
物は、一般式(nc)で示される。一般式(IIc)に
おいて、Bは水素、塩素、臭素など、Eはメトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオ
キシなと、R22はメチル、エチル、プロピル、ヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル、メトキシメチル、メト
キンエチル、ンメチルアミノメチル、ジエチルアミノプ
ロピル、フェニル、キシリル、トリル、アニシルなと、
R23としては水素、メトキシ、エトキシ、メチル、エ
チル、プロピル、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなど
が挙げられる。
本発明組成物中には、下記一般式(III)で示される
化合物および/または下記一般式(IV)で示される環
状ジケトン化合物を存在させてもよい。
(式中Sは0または1であり、R”、R28、R”は同
じか又は異なる基であり、R28はベンゼン環と縮合多
環化合物を形成していてもよく、R”、R30はベンゼ
ン環と結合して環を形成することもできる。X2はS 
%  S c v  N  R” テ、R”は水素また
はC1〜C6のアルキル基を示す。) (式中R”は水素または置換または非置換アルキルまた
はアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。) 前記一般式(III)で表わされる化合物としてはN−
7エニルグリシン、N−(p−メチルフェニル)クリシ
ン、N−(p−メトキシフェニル)グリシン、N−(p
−シアノフェニル)グリシン、N−(p−クロロフェニ
ル)グリシン、N−(m−シアノフェニル)グリシン、
N−メチル−N−フェニルグリシン、インドール酢酸、
N−メチルインドール酢酸、6−シアンインドール酢酸
などが挙げられる。
前記一般式(IV)で表わされる環状ジケトン化合物と
しては、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のあ
る環状β−ジカルボニル化合物である。式中R32は水
素、アルキル、置換アルキル、またはアラルキルであり
、Gは二価の有機基で基の鎖中にヘテロ原子を含有して
いてもよくまた場合により炭素又はヘテロ原子の一方ま
たはその両者が置換基を有していてもよいものである。
前記においてアルキル基はC,#C,2のアルキルであ
り、置換アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル
、シアノアルキル、ハロアルキル、アルフキンアルキレ
ン、アルキレン千オニーチル、アリールオキシアルキレ
ンなとが挙げられる。アラルキル基のアリール部分は6
〜IO個の炭素原子を含有し得る。前記二価の打機基G
は環を完成させるものである。この部分はへテロ原子、
例えば窒素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化
合物の具体例として、5,5−ジメチル−1,3−シク
ロヘキサンジオン、2−メチル−1,3−シクロヘキサ
ンジオン、2−メチル−1,3−シクロベンダンジオン
、2,4−ジエチル−1,3−シクロブタンジオン、2
−メチル−1,3−シクロブタンジオン、5−メチル−
2−チオバルビッール酸、バルビッール酸、3−エチル
テトロン酸、2゜4−ジメチル−3−オキソ−5−ヒド
ロキシ−5−メトキシペンテン酸δ−ラクトン、1.3
.5−トリメチルバルビッール酸、1.3−ジメチル5
−エチルバルビッール酸、2−メチルジメドン、1.3
−インダンジオン、2−メチルインダンノオン、ビス−
(5−ロ,3−ジメチルバルビツリル)〕メタン、1,
5−ジフェニル−3−〔2−(フェニルチオ)エチル)
−2,4−ピロリジンジオン、1−フェニル−3,5−
ジケト−4−n−ブチルテトラヒドロピラゾール、2,
2−ジメチル−m−ジオキサン−4,6−ジオン、21
2.5−)サメチル−m−ジオキサン−4,6−ジオン
、などがあげられる。
本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高分子量有機重
合体結合剤を存在させてもよい。重合体結合剤タイプと
してはfitテレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基くコ
ポリエステル、+ii1ポリアミド、Qi[lビニリデ
ンクロリド共重合体、(目)エチレン/ビニルアセテー
ト共重合体、(v)セルロースエーテル% (Vi)ポ
リエチレン、(vt r ) 合成:/ ム、(V口1
)セルロースエステル、(ix)ポリビニルアセテート
/アクリレートおよびポリビニルアセテート/メタクリ
レート共重合体を含むポリビニルエステル、(X)ポリ
アクリレートおよびポリα−アルキルアクリレートエス
テル例えばポリメチルメタクリレートおよびポリエチル
メタクリレート、(xi)4.000〜4,000,0
00の重量平均分子量を有する高分子量エチレンオキシ
ド重合体(ポリエチレングリコール) 、(xit)ポ
リ塩化ビニルおよびその共重合体、(Xiii)ポリビ
ニルアセクール、(xiv)ポリホルムアルデヒド、(
XV)ポリウレタン、(xvi)ポリカーボネートおよ
び(xvl+)ポリスチレンがあげられる。
本発明組成物において、特に好ましい光重合性結合剤と
しては、未露光光重合性コーティングが例えばアルカル
性溶液である主として水性の溶液には可溶性であるが、
活性線放射に露光後は比較的それに不溶性となるような
光重合性結合剤が好ましい。典型的にはこれらの要求を
満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例えば遊離
カルボン酸基含有ビニル付加重合体である。
メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン
酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレ
イン酸共重合体なとがある。また側鎖にカルボキシル基
を有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合体
に環状酸簾水物を付加させたものなどがある。
更に、その他に光重合性組成物を製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロ
キノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−フチルーp
−クレゾール、ピロガロール、ジ−t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、2−メルカプトベンズイマダゾール
、N−ニトロフフェニルヒドロキシアミン第一セリウム
などがあげられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物
に対して、0.01〜5%が好ましい。
また必要に応じて、不活性添加物、例えば非重合性可塑
剤、染料、顔料および充填剤などは光重合性を著しく阻
害しない程度に配合してもよい。
本発明の光重合性組成物の好ましい配合比率を成分(a
)であるエチレン性不飽和化合物100重置部に対する
重量部で表わすと、成2分(b)である鉄アレン錯体は
0.01〜50重量部、特に好ましくは0.1〜30重
量部、成分(c)であるチタノセン化合物は0.01〜
50重量部、特に好ましくは0.1〜30重量部、成分
(d)である3−tSクマリン、p−アミノフェニル不
飽和ケトン、キサンチンまたはチオキサンテン化合物か
らなる群から選ばれた少なくとも1つの化合物は0.0
1〜20重量部、特に好ましくは0.1〜20重量部、
一般式(III)で表わされる化合物または環状ジケト
ン化合物はそれぞれ0〜20重量部、特に好ましくは0
.1〜20重量部、結合剤は、0〜1000重量部、好
ましくは0〜50重量部である。
なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類の基材上にコ
ーティングすることができる。ここで「基材」とはすべ
ての天然または合成支持体、好ましくは可接性または剛
性のフィルムまたはシートの形で存在しうるものを意味
している。例えば素材は金属シートまたは箔、合成有機
樹脂のシートマたはフィルム、セルロース紙、ファイ/
<−ホードその他またはこれらの物質の2種またはそれ
以上のものの複合体でありうる。特定の素材としてはア
ルミナプラストアルミニウム、アノード処理アルミニウ
ム、アルミプラストポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、静電放電処
理ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルア
ルコールをコーティングした紙、交叉結合ポリエステル
コーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロースアセテ
ートフィルムその他が挙げられる。
特定の素材は一般に関連する適用目的により決定される
。例えば印刷回路が製造される場合(こは、素材はファ
イバーボード上に銅をコーティングしたプレートであり
うる。平版印刷プレートの製造においては、素材はアノ
ード処理アルミニウムでありうる。
本発明において、光重合性組成物の層の厚みは0.1μ
〜250μであり、好ましくは0.5〜50μである。
望ましい厚みは用途により決められる。
基板に設けられた光重合性組成物の層の上には、空気中
の酸素による重合抑制作用を防止するために、ポリビニ
ルアルコールなどのような酸素遮断性に優れたポリマー
よりなる保護層を設けるか、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムなどのカバーフィルムをラミネートしてもよ
い。
本発明光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領域
の活性光線に対して高い感度を有する。
したがって、光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の
各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノ
ン灯、メタルハライド灯、アルコンイオンレーザ−、ヘ
リウム−カドミウムレーザーなどのレーザー、蛍光灯、
タングステン灯、及び太陽光などが使用できる。
(実施例) 以下実施例により本発明を具体的に説明するがここに部
および%は重量基準である。
実施例1〜8、比較例1〜3 下引き層を有する100μ厚さの透明なポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に下記組成の感光層塗工液を塗
布し、熱風乾燥機にて90℃1分間乾燥し、厚さ3μの
塗膜を得た。次いでその上に7%ポリビニルアルコール
(完全ケン化、重合度500)の水溶液を塗布し熱風乾
燥機で100℃1分間乾燥して厚さ1μのオーバーコー
ト層を設けて、感度テスト片を得た。
(g光層塗工液組成) ポリ(メタクリル酸メチル/ メタクリル酸)  52部 70/30モル比 テトラエチレングリコール ジアクリレート  40 成分(b)5 成分(C)5 成分(d)3 成分(e) (一般式(III)で表わされる 化合物または環状ジケトン化合物)   3メタノール
            200酢酸エチル     
        80クロロホルム         
  120上記感度テスト片上にネガフィルムとして2
1v’2ステノブタブレノト(大日本スクリーン社lJ
グレーフィルムスケール)を重ねて、キセノンランプ(
ウシオ電機社製UXL−500D −0)に東芝社製干
渉フィルターKL−49と同色ガラスフィルターY−4
5を組み合わせた光源(490nm)で15cmの距離
から5分間露光した後、30℃で0.7%炭酸す) I
Jウム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化部分を
除去し乾燥した後、21、r2ステップタブレットの完
全硬化の段数(ステップ)を調べ、それを表1〜表2に
示す。
また比較例を表3に示す。表1〜表3より明らかに本発
明の実施例1〜8は比較例1〜3に比べ490nmの光
に対して高感度であることが判る。
実施例1〜4 成分(b) (η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジェニル) 鉄(II)へキサフルオロホスフェート成分(c) ビス(シクロペンタジェニル)−ビス−〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(ピル−ノーイル)−フェニルフチタン 成分(e) N−フェニルグリシン 表  1 実施例5〜8 成分(b) (η6−クロルベンゼン)(η5−シクロペンタジェニ
ル) 鉄(II)へキサフルオロホスフェート成分(c) ビス(7クロペンタゾエニル)−ビス−〔2,6−ジフ
ルオロ−3−(ピル−ノーイル)−フェニルフチタン 成分(e) N−フェニルグリシン 表  2 (発明の効果) 本発明の光重合性組成物は、可視光に対して高感度を示
すため、低いエネルギーの露光光源を使用することがで
き、与えられた時間内に多数の原版を露光および現像で
きる。
また、露光源を原版より遠ざけることができるため、そ
の光線が平行化され、例えば網点画像形成する場合、垂
直の側部を有するシャープな網点を形成することができ
るなど種々の利点を育する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (a)少なくとも一種の常温で非ガス状のエチレン性不
    飽和化合物 (b)下記一般式( I )で示される鉄アレン錯体 (c)チタノセン化合物 (d)(イ)下記一般式(IIa)で示される3−置換ク
    マリン (ロ)下記一般式(IIb)で示されるp−アミノフェイ
    ル不飽和ケトン (ハ)下記一般式(IIc)で示されるキサンチンまたは
    チオキサンテン化合物 の(イ)(ロ)(ハ)からなる群から選ばれた少なくと
    も1つの化合物を含有することを特徴とする光重合性組
    成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (m+n≧0) (式中R^1、R^2は同じか又は異なる基であり、R
    ^2はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよ
    い。X^1はBF_4、PF_6、AsF_6、SbF
    _6FeCl_4、SnCl_6、SbCl__6、B
    iCl_6を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) (式中、R^3、R^4、R^5、R^6は水素、アル
    キル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、ジアルキル
    アミノ基、シアノ基、または2つで縮合環系または縮合
    複素環系を形成してもよい。Zはアリール基、複素環基
    、または▲数式、化学式、表等があります▼を示す。R
    ^7はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリー
    ルオキシ基、複素環基を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIb) (IIb式中、pとqはそれぞれ0または1であり、R^
    8、R^9、R^1^0、R^1^1、R^1^2、R
    ^1^3は水素原子または炭素数1〜24の有機基を示
    す。) R^1^4はメチリジン基またはR^1^5と結合して
    カルボニル基とともに環を形成することができる炭素数
    1〜5のアルキレン−イリジン基、R^1^5は炭素原
    子または置換または非置換のフェニル基あるいはR^1
    ^4とカルボニル基と共にインダノンまたはテトラロン
    またはインダンジオンを形成する基を示し、R^1^6
    は▲数式、化学式、表等があります▼を示し、 rは0または1の数、R^1^7、R^1^8、R^1
    ^9、R^2^0、R^2^1は水素原子または炭素数
    1〜24の有機基である。) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIc) 〔式中、Aは酸素原子または硫黄原子、Bは水素原子ま
    たはハロゲン原子、Dは炭素原子または窒素原子(ただ
    し、Dが炭素原子の場合は隣接する炭素原子との間(点
    線で示した箇所)は二重結合であり、Dが窒素原子の場
    合には隣接する炭素との間は一重結合である。)、Eは
    酸素原子(この場合には隣接する炭素との間は二重結合
    である。)、アルコキシ基またはアルカノイルオキシ基
    、R^2^2はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
    ルコキシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、ま
    たはアリール基、R^2^3は水素原子、アルコキシ基
    、アルキル基、ジアルキルアミノ基である。〕
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0747771A3 (en) * 1995-06-07 1998-03-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
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WO2006032120A3 (en) * 2004-09-20 2009-05-14 Univ Rio De Janeiro Substituted cumarines, process for the production of said cumarines and composition containing said cumarines
DE112010000772T5 (de) 2009-02-13 2012-06-14 Mitsubishi Paper Mills Limited Lichtempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial
DE112011101165T5 (de) 2010-03-29 2013-03-28 Mitsubishi Paper Mills Limited Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial

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