JPH0418434U - - Google Patents

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JPH0418434U
JPH0418434U JP1990058570U JP5857090U JPH0418434U JP H0418434 U JPH0418434 U JP H0418434U JP 1990058570 U JP1990058570 U JP 1990058570U JP 5857090 U JP5857090 U JP 5857090U JP H0418434 U JPH0418434 U JP H0418434U
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【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す表面処理装置
の斜視図、第２図は処理液吐出ノズルの断面図、
第３図は２つ割り状に形成した一方のノズルを内
面より見た図で、第２図の−線矢視断面図、
第４図〜第５図はそれぞれ処理液吐出ノズルの配
置例を示す要部拡大図、第６図は第２の考案に係
る実施例装置の概要図、第７図はその実施例装置
の動作説明図、第８図は従来例を示す平面図であ
る。 Ｗ……基板、４……吐出口、１０……処理液吐
出ノズル、１１……処理液、２０……コンベア、
ｂ……基板の横幅。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 基板を水平搬送するコンベアと、基板の表面
    に処理液を吐出する処理液吐出ノズルを具備して
    成る基板の表面処理装置において、 コンベアの両側端部上方に少なくとも一組以上
    の処理液吐出ノズルを基板の横幅以上の間隔をあ
    けて配置し、 処理液吐出ノズルの吐出口をスリツト状に開口
    して基板の搬送方向と平行をなすように交互に配
    置し、 基板の搬送方向と交差する方向へ処理液をカー
    テン状に傾斜させて吐出するように構成したこと
    を特徴とする基板の表面処理装置。 ２ 基板を水平搬送するコンベアと、基板の表面
    に処理液を吐出する処理液吐出ノズルを具備して
    成る基板の表面処理装置において、 コンベアの上方に、基板の搬送方向に基板の長
    さ以上の間隔をあけて、処理液吐出ノズルを配置
    し、 処理液吐出ノズルの吐出口を基板の横幅以上の
    長さにスリツト状に開口し、各処理液吐出ノズル
    から吐出する処理液を互いに対向する方向に傾斜
    させ、 コンベアの搬送方向を正逆転させ、基板を各処
    理液吐出ノズル間を往復動させながら、基板の表
    面処理を行うように構成したことを特徴とする基
    板の表面処理装置。
JP1990058570U 1990-06-01 1990-06-01 基板の表面処理装置 Expired - Lifetime JPH0720914Y2 (ja)

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JPH0720914Y2 JPH0720914Y2 (ja) 1995-05-15

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06196859A (ja) * 1992-12-24 1994-07-15 Tokyo Kakoki Kk 化学処理装置および電着装置
JP2002239485A (ja) * 2000-12-15 2002-08-27 Shibaura Mechatronics Corp 基板の洗浄装置及び洗浄方法
WO2003100842A1 (en) * 2002-05-23 2003-12-04 Sumitomo Precision Products Co., Ltd Conveying type substrate treating device
JP2008219043A (ja) * 2001-07-05 2008-09-18 Tokyo Electron Ltd 液処理装置および液処理方法
JP2023138326A (ja) * 2022-03-18 2023-10-02 芝浦メカトロニクス株式会社 基板処理装置

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