JPH0419247B2 - - Google Patents
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- JPH0419247B2 JPH0419247B2 JP60030623A JP3062385A JPH0419247B2 JP H0419247 B2 JPH0419247 B2 JP H0419247B2 JP 60030623 A JP60030623 A JP 60030623A JP 3062385 A JP3062385 A JP 3062385A JP H0419247 B2 JPH0419247 B2 JP H0419247B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F120/00—Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F120/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F120/10—Esters
- C08F120/22—Esters containing halogen
- C08F120/24—Esters containing halogen containing perhaloalkyl radicals
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Description
本発明は、含ふつ素メタクリル酸エステルを重
合するに際して、触媒としてR〓OM（R〓は炭化水
素系アルキル基、Ｍはアルカリ金属）で示される
金属アルコラートの使用することを骨子とする。 （産業上の利用分野） 含ふつ素メタクリル酸エステルあるいは含ふつ
素アクリル酸エステル類は工業的に重要なポリマ
ーを与える。 特にふつ素系の耐薬品性、表面特性、低屈折性
を生かした高機能性分野、たとえば、ふつ素系塗
料あるいは塗料添加剤、繊維処理剤、プラスチツ
ク光学繊維などの光学材料、コンタクトレンズや
歯科用などの医用材料、レジスト材料への応用が
検討され実用化されている。最近の先端技術分野
における新材料へのニーズは多く前記ポリマーは
益々重要な地位を占めつつある。 （従来の技術） 従来、使用されている前記エステル類は一般式
合するに際して、触媒としてR〓OM（R〓は炭化水
素系アルキル基、Ｍはアルカリ金属）で示される
金属アルコラートの使用することを骨子とする。 （産業上の利用分野） 含ふつ素メタクリル酸エステルあるいは含ふつ
素アクリル酸エステル類は工業的に重要なポリマ
ーを与える。 特にふつ素系の耐薬品性、表面特性、低屈折性
を生かした高機能性分野、たとえば、ふつ素系塗
料あるいは塗料添加剤、繊維処理剤、プラスチツ
ク光学繊維などの光学材料、コンタクトレンズや
歯科用などの医用材料、レジスト材料への応用が
検討され実用化されている。最近の先端技術分野
における新材料へのニーズは多く前記ポリマーは
益々重要な地位を占めつつある。 （従来の技術） 従来、使用されている前記エステル類は一般式
【式】（R〓は水素原子またはメチ
ル基、R〓はふつ素系アルキル基）で示される化
合物が殆どであり、エステル基部分へのふつ素原
子導入により、その機能を発現させている。 最近、α位にふつ素原子を導入した含ふつ素メ
タクリル酸エステルあるいは含ふつ素アクリル酸
エステルの重合が行われるようになつてきた。た
とえば、メチル−α−フロオロアクリレートはラ
ジカル重合触媒により収率よく単独重合し、また
メタクリル酸メチルとの共重合性もよいことが知
られている。（C.U.PittmanJr.，M.Ueda，K.Iri，
Y.Imai，Macromolecules131031（1980）） 一方、メチル−α−トリフルオロメチルアクリ
レートはラジカル重合触媒により単独重合せず、
ｎ−ブチルリチウムやピリジンを触媒としたアニ
オン重合により単独重合が進むことが知られてい
る。（H.Ito，D.C.Miller，C.G.Willson，
Macromolecules15915（1982））また、該モノマ
ーのラジカル共重合反応性も調べられている。 （H.Ito，B.Giese，Rngelbrech，
Macromolecules172204（1984）） （発明が解決しようとする問題点） 以上のように含ふつ素メタクリル酸エステルの
内、α−トルフルオロメチルアクリレートはその
重合において、他の含ふつ素メタクリル酸エステ
ルとは異なる重合性を示す。特に単独重合におい
てはアニオン重合するのみであり、一般的なアニ
オン重合触媒としてのｎ−ブチルリウムやグリニ
ヤ−試薬を使用した場合、ポリマー収率が低い。
わずかにピリジン触媒の場合、ある程度のポリマ
ー収率が得られるが、生成ポリマーはメタノール
不溶およびメタノール可溶の２種類のものが得ら
れる。このようにα−トリフルオロメチルアクリ
レートのアニオン重合においては、まだ工業的な
重合用触媒が見出されていない現状である。 （問題を解決するための手段） 本発明者らは、前記の事実をふまえ、多くのア
ニオン重合触媒を検討した結果、Li、Na、Ｋ、
RbおよびCsからなるアルカリ金属アルコラート
が重合活性であり、α−トリフルオロメチルアク
リレートのポリマーを収率よく生成すること見出
し、本発明を完成するに到つた。 本発明におけるα−トリフルオロメチルアクリ
レートの重合は水および酸素の不在下、溶液重合
あるいは溶液析出重合によつて行ろれる。重合温
度は−78℃〜100℃、好ましくは、−50℃〜80℃が
適当である。使用するアニオン重合触媒のアルカ
リ金属アルコラートとしては、リチウムメトキシ
ド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシ
ド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムエトキシドリチウム−ｎ−プロポキ
シド、ナトリウム−ｎ−プロポキシド、カリウム
−ｎ−プロポキシド、リチウム−イソプロポキシ
ド、ナトリウム−イソプロポキシド、リチウム−
ｎ−ブトキシド、ナトリウム−ｎ−ブトキシド、
カリウム−ｎ−ブトキシド、リチウム−ｔ−ブト
キシド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、カリウム
−ｔ−ブトキシドなどがあげられる。これら触媒
の重合系への添加量は、α−トリフルオロメチル
アクリレートに対して、0.01〜５モル％が適当で
ある。 α−トリフルオロメチルアクリレートとして
は、メチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、エチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、ｎ−プロピル−α−トリフルオロメチルアク
リレート、ｉ−プロピル−α−トリフルオロメチ
ルアクリレート、ｎ−ブチル−α−トリフルオロ
メチルアクリレート、ｔ−ブチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート、２−エチルヘキシル−
α−トリフルオロメチルアクリレート、ベンゾル
−α−トリフルオロメチルアクリレートのような
α−トリフルオロメチルアクリル酸と炭化水素系
アルコールとのエステル、２，２，２−トリフル
エロエチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、1H，1H−ヘプタフルオロブチル−α−トリ
フルオロメチルアクリレート、1H，1H，7H−
ドデカフルオロヘプチル−α−トリフルオロメチ
ルアクリレート、1H，1H−ペンタデカフルオロ
オクチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、1H，1H−ペンタフルオロプロピル−α−ト
リフルオロメチルアクリレート、1H，1H−ヘプ
タフルオロブチル−α−トリフルオロメチルアク
リレート、ヘキサフルオロイソプロピル−α−ト
リフルオロメチルアクリレートのようなα−トリ
フルオロメチルアクリル酸とふつ素系アルコール
とのエステルなどがあげられる。これらのα−ト
リフルオロメチルアクリレートは、蒸留精製ある
いは水素化カルシウムなどの脱水剤の存在下、窒
素あるいはヘリウム気流下、蒸留して使用され
る。純度はアニオン重合に支障のない不純物を含
まなければ98％カスクロマトグラフイー純度以上
でよい。 重合溶媒は不活性の非プロトン系溶媒、たとえ
ばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘブタン、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの脂肪族炭化水素あるいは芳
香族炭化水素、エチルエーテル、ジ−ｎブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル類があげられるが、これらの溶媒は脱
水、脱酸素および蒸留精製して使用されその使用
量は、特に制約されない。 重合はガラスアンプル内、または撹拌機のつい
た重合器内で行われるが、原料を仕込む前に器内
の乾燥および脱酸素が必要である。 このようにして生成したポリマーは、濾過後、
希塩酸、水で洗浄後、乾燥して得られる。 （作用） 以上のようなα−トリフルオロメチルアクリレ
ートのポリマーは、光学材料、レジスト材料、塗
料添加剤などの分野へ応用される高機能性素材と
して、期待されるものである。 以下実施例によつて、本発明を説明するがこれ
らに限定されるものではない。 実施例 １ 水素化カルシウム存在下、還流蒸留精製したエ
チル−α−トリフルオロメチルアクリレート（沸
点103〜105℃）、8.4ｇ（50ｍmol）、リチウム−
ｔ−ブトキシド0.08ｇ（１ｍmol）、トルエン50
mlをガラス製アンプル内に入れ、脱気および窒素
置換後、アンプルを封止して、−20℃で７日間静
置重合した。生成ポリマーは希塩酸および水で洗
浄後、真空乾燥した。ポリマー収率は100％であ
つた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトルは1740cm-1
にＣ＝０、1290、1180、1100cm-1にCF3の吸収が
認められた。重水素化クロロホルム溶液の1H−
NMRスペクトル（：TMS）は−CH2CＨ
31.3ppm、−ＣＨ 2CH34.2ppm、−ＣＨ 2 2.6ppmに
吸収を示した。生成ポリマーはメタノール不溶、
テトラヒドロフラン、クロロホルム、ベンゼンに
可溶であつた。 実施例 ２ 実施例１と同様にして０℃で７日間静置重合し
た。ポリマー収率は61.5％であつた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトルは1740cm-1
にＣ＝０、1290、1180、1100cm-1にCF3の吸収が
認められた。重水素化クロロホルム溶液の1H−
NMRスペクトル（：TMS）は−ＣＨ
2CH31.3ppm、−ＣＨ 2CH34.2ppm、−ＣＨ 2
2.6ppmに吸収を示した。有機溶媒に対する溶解
性は実施例１と同様であつた。 実施例 ３ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、リチ
ウム−ｔ−ブトキシド0.08ｇ（１ｍmol）、テト
ラヒドロフラン50mlをガラス製アンプルに入れ、
80℃で７日間静置重合を行つた。ポリマー収率は
58％であつた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトル、1H−
NMRスペクトル、有機溶媒に対する溶解性は実
施例１と同様であつた。 実施例 ４ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、カリ
ウム−ｔ−ブトキシド0.112ｇ（１ｍmol）、テト
ラヒドロフラン50mlをガラス製アンプルに入れ、
−20℃で７日間静置重合を行つた。ポリマー収率
は60％であつた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトルおよび1H
−NMRスペクトル、および溶解性等は実施例１
と同様であつた。 実施例 ５ 実施例１と同様にして、２，２，２−トリフル
オロエチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト12.3ｇ（50ｍmol）、リチウム−ｔ−ブトキシ
ド0.08ｇ（１ｍmol）、トルエン50mlをガラス製
アンプルに入れ、−20℃で７日間静置重合を行つ
た。ポリマー収率は83％であつた。 実施例 ６ 実施例１と同様にして、ヘキサフルオロイソプ
ロピル−α−トリフルオロメチルアクリレート
14.5（50ｍmol）、リチウム−ｔ−ブトキシド0.08
ｇ（１ｍmol）、トルエン50mlをガラス製アンプ
ルに入れ、−20℃で７日間静置重合を行つた。ポ
リマー収率は68％であつた。生成ポリマーはメタ
ノール不溶であつた。 比較例 １ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、フエ
ニルマグネシウムブロミド0.18ｇ（１ｍmol）、
トルエン50mlをガラス製アンプルに入れ、０℃で
７日間静置重合を行つた。ポリマー収率は２％で
あつた。 比較例 ２ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、ｎ−
ブチルリチウム0.064ｇ（１ｍmol）、トルエン50
mlをガラス製アンプルに入れ、−20℃で７日間静
置重合を行つた。ポリマー収率は３％であつた。 比較例 ３ 実施例１と同様にして、ヘキサフルオロイソプ
ロピル−α−トリフルオロメチルアクリレート
14.5ｇ（50ｍmol）、ピリジン0.079ｇ（１ｍ
mol）、トルエン50mlをガラス製アンプルに入れ、
20℃で７日間静置重合を行つた。ポリマー収率は
56％であつたが、メタノール可溶性ポリマーが生
成し、メタノール可溶ポリマーとメタノール不溶
ポリマーの割合は54：46であつた。
合物が殆どであり、エステル基部分へのふつ素原
子導入により、その機能を発現させている。 最近、α位にふつ素原子を導入した含ふつ素メ
タクリル酸エステルあるいは含ふつ素アクリル酸
エステルの重合が行われるようになつてきた。た
とえば、メチル−α−フロオロアクリレートはラ
ジカル重合触媒により収率よく単独重合し、また
メタクリル酸メチルとの共重合性もよいことが知
られている。（C.U.PittmanJr.，M.Ueda，K.Iri，
Y.Imai，Macromolecules131031（1980）） 一方、メチル−α−トリフルオロメチルアクリ
レートはラジカル重合触媒により単独重合せず、
ｎ−ブチルリチウムやピリジンを触媒としたアニ
オン重合により単独重合が進むことが知られてい
る。（H.Ito，D.C.Miller，C.G.Willson，
Macromolecules15915（1982））また、該モノマ
ーのラジカル共重合反応性も調べられている。 （H.Ito，B.Giese，Rngelbrech，
Macromolecules172204（1984）） （発明が解決しようとする問題点） 以上のように含ふつ素メタクリル酸エステルの
内、α−トルフルオロメチルアクリレートはその
重合において、他の含ふつ素メタクリル酸エステ
ルとは異なる重合性を示す。特に単独重合におい
てはアニオン重合するのみであり、一般的なアニ
オン重合触媒としてのｎ−ブチルリウムやグリニ
ヤ−試薬を使用した場合、ポリマー収率が低い。
わずかにピリジン触媒の場合、ある程度のポリマ
ー収率が得られるが、生成ポリマーはメタノール
不溶およびメタノール可溶の２種類のものが得ら
れる。このようにα−トリフルオロメチルアクリ
レートのアニオン重合においては、まだ工業的な
重合用触媒が見出されていない現状である。 （問題を解決するための手段） 本発明者らは、前記の事実をふまえ、多くのア
ニオン重合触媒を検討した結果、Li、Na、Ｋ、
RbおよびCsからなるアルカリ金属アルコラート
が重合活性であり、α−トリフルオロメチルアク
リレートのポリマーを収率よく生成すること見出
し、本発明を完成するに到つた。 本発明におけるα−トリフルオロメチルアクリ
レートの重合は水および酸素の不在下、溶液重合
あるいは溶液析出重合によつて行ろれる。重合温
度は−78℃〜100℃、好ましくは、−50℃〜80℃が
適当である。使用するアニオン重合触媒のアルカ
リ金属アルコラートとしては、リチウムメトキシ
ド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシ
ド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムエトキシドリチウム−ｎ−プロポキ
シド、ナトリウム−ｎ−プロポキシド、カリウム
−ｎ−プロポキシド、リチウム−イソプロポキシ
ド、ナトリウム−イソプロポキシド、リチウム−
ｎ−ブトキシド、ナトリウム−ｎ−ブトキシド、
カリウム−ｎ−ブトキシド、リチウム−ｔ−ブト
キシド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、カリウム
−ｔ−ブトキシドなどがあげられる。これら触媒
の重合系への添加量は、α−トリフルオロメチル
アクリレートに対して、0.01〜５モル％が適当で
ある。 α−トリフルオロメチルアクリレートとして
は、メチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、エチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、ｎ−プロピル−α−トリフルオロメチルアク
リレート、ｉ−プロピル−α−トリフルオロメチ
ルアクリレート、ｎ−ブチル−α−トリフルオロ
メチルアクリレート、ｔ−ブチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート、２−エチルヘキシル−
α−トリフルオロメチルアクリレート、ベンゾル
−α−トリフルオロメチルアクリレートのような
α−トリフルオロメチルアクリル酸と炭化水素系
アルコールとのエステル、２，２，２−トリフル
エロエチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、1H，1H−ヘプタフルオロブチル−α−トリ
フルオロメチルアクリレート、1H，1H，7H−
ドデカフルオロヘプチル−α−トリフルオロメチ
ルアクリレート、1H，1H−ペンタデカフルオロ
オクチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト、1H，1H−ペンタフルオロプロピル−α−ト
リフルオロメチルアクリレート、1H，1H−ヘプ
タフルオロブチル−α−トリフルオロメチルアク
リレート、ヘキサフルオロイソプロピル−α−ト
リフルオロメチルアクリレートのようなα−トリ
フルオロメチルアクリル酸とふつ素系アルコール
とのエステルなどがあげられる。これらのα−ト
リフルオロメチルアクリレートは、蒸留精製ある
いは水素化カルシウムなどの脱水剤の存在下、窒
素あるいはヘリウム気流下、蒸留して使用され
る。純度はアニオン重合に支障のない不純物を含
まなければ98％カスクロマトグラフイー純度以上
でよい。 重合溶媒は不活性の非プロトン系溶媒、たとえ
ばｎ−ヘキサン、ｎ−ヘブタン、ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの脂肪族炭化水素あるいは芳
香族炭化水素、エチルエーテル、ジ−ｎブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの
エーテル類があげられるが、これらの溶媒は脱
水、脱酸素および蒸留精製して使用されその使用
量は、特に制約されない。 重合はガラスアンプル内、または撹拌機のつい
た重合器内で行われるが、原料を仕込む前に器内
の乾燥および脱酸素が必要である。 このようにして生成したポリマーは、濾過後、
希塩酸、水で洗浄後、乾燥して得られる。 （作用） 以上のようなα−トリフルオロメチルアクリレ
ートのポリマーは、光学材料、レジスト材料、塗
料添加剤などの分野へ応用される高機能性素材と
して、期待されるものである。 以下実施例によつて、本発明を説明するがこれ
らに限定されるものではない。 実施例 １ 水素化カルシウム存在下、還流蒸留精製したエ
チル−α−トリフルオロメチルアクリレート（沸
点103〜105℃）、8.4ｇ（50ｍmol）、リチウム−
ｔ−ブトキシド0.08ｇ（１ｍmol）、トルエン50
mlをガラス製アンプル内に入れ、脱気および窒素
置換後、アンプルを封止して、−20℃で７日間静
置重合した。生成ポリマーは希塩酸および水で洗
浄後、真空乾燥した。ポリマー収率は100％であ
つた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトルは1740cm-1
にＣ＝０、1290、1180、1100cm-1にCF3の吸収が
認められた。重水素化クロロホルム溶液の1H−
NMRスペクトル（：TMS）は−CH2CＨ
31.3ppm、−ＣＨ 2CH34.2ppm、−ＣＨ 2 2.6ppmに
吸収を示した。生成ポリマーはメタノール不溶、
テトラヒドロフラン、クロロホルム、ベンゼンに
可溶であつた。 実施例 ２ 実施例１と同様にして０℃で７日間静置重合し
た。ポリマー収率は61.5％であつた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトルは1740cm-1
にＣ＝０、1290、1180、1100cm-1にCF3の吸収が
認められた。重水素化クロロホルム溶液の1H−
NMRスペクトル（：TMS）は−ＣＨ
2CH31.3ppm、−ＣＨ 2CH34.2ppm、−ＣＨ 2
2.6ppmに吸収を示した。有機溶媒に対する溶解
性は実施例１と同様であつた。 実施例 ３ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、リチ
ウム−ｔ−ブトキシド0.08ｇ（１ｍmol）、テト
ラヒドロフラン50mlをガラス製アンプルに入れ、
80℃で７日間静置重合を行つた。ポリマー収率は
58％であつた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトル、1H−
NMRスペクトル、有機溶媒に対する溶解性は実
施例１と同様であつた。 実施例 ４ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、カリ
ウム−ｔ−ブトキシド0.112ｇ（１ｍmol）、テト
ラヒドロフラン50mlをガラス製アンプルに入れ、
−20℃で７日間静置重合を行つた。ポリマー収率
は60％であつた。 生成ポリマーの赤外吸収スペクトルおよび1H
−NMRスペクトル、および溶解性等は実施例１
と同様であつた。 実施例 ５ 実施例１と同様にして、２，２，２−トリフル
オロエチル−α−トリフルオロメチルアクリレー
ト12.3ｇ（50ｍmol）、リチウム−ｔ−ブトキシ
ド0.08ｇ（１ｍmol）、トルエン50mlをガラス製
アンプルに入れ、−20℃で７日間静置重合を行つ
た。ポリマー収率は83％であつた。 実施例 ６ 実施例１と同様にして、ヘキサフルオロイソプ
ロピル−α−トリフルオロメチルアクリレート
14.5（50ｍmol）、リチウム−ｔ−ブトキシド0.08
ｇ（１ｍmol）、トルエン50mlをガラス製アンプ
ルに入れ、−20℃で７日間静置重合を行つた。ポ
リマー収率は68％であつた。生成ポリマーはメタ
ノール不溶であつた。 比較例 １ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、フエ
ニルマグネシウムブロミド0.18ｇ（１ｍmol）、
トルエン50mlをガラス製アンプルに入れ、０℃で
７日間静置重合を行つた。ポリマー収率は２％で
あつた。 比較例 ２ 実施例１と同様にして、エチル−α−トリフル
オロメチルアクリレート8.4ｇ（50ｍmol）、ｎ−
ブチルリチウム0.064ｇ（１ｍmol）、トルエン50
mlをガラス製アンプルに入れ、−20℃で７日間静
置重合を行つた。ポリマー収率は３％であつた。 比較例 ３ 実施例１と同様にして、ヘキサフルオロイソプ
ロピル−α−トリフルオロメチルアクリレート
14.5ｇ（50ｍmol）、ピリジン0.079ｇ（１ｍ
mol）、トルエン50mlをガラス製アンプルに入れ、
20℃で７日間静置重合を行つた。ポリマー収率は
56％であつたが、メタノール可溶性ポリマーが生
成し、メタノール可溶ポリマーとメタノール不溶
ポリマーの割合は54：46であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式【式】（R〓は炭化水素系ア ルキル基またはふつ素系アルキル基）で示される
含ふつ素メタクリル酸エステルを式R〓OM（R〓は
炭化水素系アルキル基、Ｍはアルカリ金属）で示
される金属アルコラートを触媒として重合するこ
とを特徴とする含ふつ素重合体の製造法。 ２ 式 R〓OMにおいて、R〓＝CoH2o+1（ｎは１
〜４の整数）、Ｍ−Li、Na、Ｋで示される化合物
を用いることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ３ 式 R〓OMにおいて、リチウム−ｔ−ブト
キシドまたはカリウム−ｔ−ブトキシドを用いる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030623A JPS61190511A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 含ふつ素重合体の製造法 |
| US06/826,585 US4613657A (en) | 1985-02-20 | 1986-02-06 | Method for anionic homopolymerization of α-trifluoromethylacrylate |
| IT19378/86A IT1204345B (it) | 1985-02-20 | 1986-02-12 | Procedimento per omopolimerizzazione anionica di alfa-trifluorometilacrilato |
| GB08603637A GB2171708B (en) | 1985-02-20 | 1986-02-14 | Method for anionic homopolymerization of alpha-trifluoromethylacrylate |
| FR8602265A FR2577559B1 (fr) | 1985-02-20 | 1986-02-19 | Procede pour l'homopolymerisation anionique d'alpha-trifluoromethylacrylate |
| DE19863605515 DE3605515A1 (de) | 1985-02-20 | 1986-02-20 | Verfahren zur anionischen homopolymerisation von alpha-trifluormethylacrylat |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60030623A JPS61190511A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 含ふつ素重合体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61190511A JPS61190511A (ja) | 1986-08-25 |
| JPH0419247B2 true JPH0419247B2 (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=12308982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60030623A Granted JPS61190511A (ja) | 1985-02-20 | 1985-02-20 | 含ふつ素重合体の製造法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4613657A (ja) |
| JP (1) | JPS61190511A (ja) |
| DE (1) | DE3605515A1 (ja) |
| FR (1) | FR2577559B1 (ja) |
| GB (1) | GB2171708B (ja) |
| IT (1) | IT1204345B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE3607301A1 (de) * | 1986-03-06 | 1987-09-10 | Hoechst Ag | Lichtleitfaser mit kern-mantel-struktur |
| GB2199680A (en) * | 1986-11-28 | 1988-07-13 | Sharp Kk | Translating apparatus |
| US4833207A (en) * | 1986-12-18 | 1989-05-23 | Kansai Paint Company, Limited | Curable compositions |
| JPH05310837A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-11-22 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 酸素透過性高分子材料の製造方法 |
| US6884562B1 (en) * | 1998-10-27 | 2005-04-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoresists and processes for microlithography |
| KR100571453B1 (ko) * | 1999-12-15 | 2006-04-17 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 고분자 화합물, 화학 증폭 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법 |
| TWI294440B (ja) * | 2000-02-16 | 2008-03-11 | Shinetsu Chemical Co | |
| JP3714870B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2005-11-09 | セントラル硝子株式会社 | 透明性含フッ素共重合体 |
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| EP3537217B1 (en) * | 2005-12-09 | 2022-08-31 | FUJIFILM Corporation | Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition |
| TW202511300A (zh) * | 2023-07-20 | 2025-03-16 | 日商力森諾科股份有限公司 | (甲基)丙烯酸樹脂溶液的製造方法 |
Family Cites Families (8)
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| DE1227235B (de) * | 1962-10-08 | 1966-10-20 | Ceskoslovenska Akademie Ved | Verfahren zur Herstellung von Polymeren oder Copolymeren durch anionische Polymerisation |
| US3285894A (en) * | 1963-10-11 | 1966-11-15 | Ceskoslovenska Akademie Ved | Polymerization initiators comprising alkali metal alcoholates |
| US3457247A (en) * | 1965-02-12 | 1969-07-22 | Daikin Ind Ltd | Fluorocarbon compounds and polymers thereof |
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| US4357435A (en) * | 1971-04-23 | 1982-11-02 | Rohm And Haas Company | Novel polymers of alkyl methacrylates |
-
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- 1985-02-20 JP JP60030623A patent/JPS61190511A/ja active Granted
-
1986
- 1986-02-06 US US06/826,585 patent/US4613657A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-02-12 IT IT19378/86A patent/IT1204345B/it active
- 1986-02-14 GB GB08603637A patent/GB2171708B/en not_active Expired
- 1986-02-19 FR FR8602265A patent/FR2577559B1/fr not_active Expired
- 1986-02-20 DE DE19863605515 patent/DE3605515A1/de active Granted
Also Published As
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| US4613657A (en) | 1986-09-23 |
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| IT8619378A0 (it) | 1986-02-12 |
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| GB2171708B (en) | 1988-12-29 |
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