JPH04196149A - 半導体ウエハの認識方法 - Google Patents

半導体ウエハの認識方法

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JPH04196149A
JPH04196149A JP2321802A JP32180290A JPH04196149A JP H04196149 A JPH04196149 A JP H04196149A JP 2321802 A JP2321802 A JP 2321802A JP 32180290 A JP32180290 A JP 32180290A JP H04196149 A JPH04196149 A JP H04196149A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
semiconductor
photoelectric sensor
recognized
processing jig
Prior art date
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Pending
Application number
JP2321802A
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English (en)
Inventor
Masakuni Shiozawa
雅邦 塩澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造装置などに用いる、半導体ウェハ
の認識方法に関する [従来の技術] 従来の技術としては、第3図、第4図に示す如き半導体
ウェハの認識方法であった。即ち、第3図において、1
は処理用治具、2は1の処理用治具に納められている半
導体ウェハ、18は処理用治具1を載せて移動するステ
ージ、15.16はステージ18が水平移動する為の軌
道レール、9はステージ18を水平移動させる駆動軸、
11.12は駆動軸9をサポートするホルダー、10は
駆動軸9に回転を与える駆動モータ、6は半導体ウェハ
2を認識する為の光電式センサー、17は光電式センサ
ー6を保持するブラケット、13゜14はステージ18
の移動方向であり、光電式センサー6を固定させ、処理
用治具1を移動させて半導体ウェハ2を認識するもので
ある。第4図においても第3図同様に処理用治具1を移
動させて半導体ウェハ2をブラケット20に取り付けら
れ固定されたカメラ19で認識するものである。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、前述の従来技術にあっては、半導体ウェ
ハ2が納められた距離の移動を行わなければならず、半
導体製造装置においてスペースを大きくとらなければな
らない問題を有する。
また第3図においては、光電式センサー6を取り外した
場合に、半導体製造装置の基準位置に対して、認識され
た半導体ウェハ2の位置が不安定になってしまう問題が
ある。さらに第4図においては、半導体ウェハ2が製造
工程の処理において色調が変わり、カメラ19で半導体
ウェハ2を認識できないという問題を有する。  そこ
で本発明はこのような問題点を解決するもので、その目
的は、半導体製造装置において、省スペースであり、光
電式センサーの取り外し後も基準位置対して認識された
半導体ウェハの位置が一定であり、又製造工程の前後に
おいても安定して行える半導体ウェハの認識方法を提供
するものである。
[課題を解決するための手段] 本発明の半導体ウェハの認識方法は半導体製造装置にお
ける、搬送ケース及び処理用治具に納められている半導
体ウェハの認識方法において、前記搬送ケース及び処理
用治具を固定さぜ、光電式センサーを移動させることに
よって、半導体ウェハな認識することを特徴とする。
[実施例] 以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第1
図は、半導体ウェハの認識方法を示す平面図であり、第
2図は、第1図の断面図である。
第1図において、半導体ウェハ2を納めた処理用治具1
が半導体製造装置に固定されている。光電式センサー6
はステージ7に取り付けられ、軌道レール8に案内され
ステージ7と共に移動方向13.14に移動する。ホル
ダー11.12に保持される駆動軸9は、駆動モーター
10によって回転させられ、ステージ7を移動させる。
又ホルダー11.12、及び軌道レール8は、ベース2
1に取り付けられている。基準プレート3は、スペーサ
4を介してブラケット5に取り付けられて半導体製造装
置に固定されている。この様に光電式センサー6を移動
させることで半導体ウェハ2を認識することが可能であ
り半導体製造装置の省スペース化が図られる。
又半導体製造装置に固定されている基準プレート3を光
電式センサー6で認識した後半導体ウェハ2を順次認識
し、基準プレート3からの半導体ウェハの位置を光電式
センサー6の移動距離から読み取ることで半導体製造装
置の基準位置からの半導体ウェハ2の各々の距離を読み
取ることができ、光電式センサー6を交換した場合でも
安定して正確な距離を読み取ることができる。
ざらに光電式センサー6を用いることで製造工程におけ
る半導体ウェハの色調に影響されることがない。
[発明の効果] 以上述べた様に本発明によれば、半導体ウェハを収納し
た搬送ケース及び処理用治具を半導体製造装置に固定し
、光電式センサーを移動させることで半導体ウェハを認
識することにより、半導体製造装置の省スペース化が図
れるとともに、光電式センサーを交換した場合でも半導
体ウェハの位置認識が確実に行える。さらに光電式セン
サーで認識することで半導体ウェハの色調にも影響され
ない。またかかる半導体ウェハの認識方法により半導体
製造装置での半導体ウェハの移載においても確実な作業
ができるメリットを有する。
【図面の簡単な説明】
第11図は、本発明の半導体ウェハの認識方法を示す平
面図。第2図は、第1図の断面図である。 第3図は、従来の半導体ウェハの認識方法を示す平面図
。第4図は、他の従来の半導体ウェハの認識方法を示す
平面図である。 1・・・処理用治具 2・・・半導体ウェハ 3・・・基準プレート 4・・・スペーサ 5・・・ブラケット 6・・・光電式センサー 7・・・ステージ 8・・・軌道レール 9・・・駆動軸 10・・・駆動モーター 11.12・・・ホルダー 13.14・・・移動方向 15.16・・・軌道レール 17・・・ブラケット 18・・・ステージ 19・・・カメラ 2o・・・ブラケット 21・・・ベース 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体製造装置における、搬送ケース及び処理用治具に
    納められている半導体ウェハの認識方法において、前記
    搬送ケース及び処理用治具を固定させ、光電式センサー
    を移動させることによつて、半導体ウェハを認識するこ
    とを特徴とする半導体ウェハの認識方法
JP2321802A 1990-11-26 1990-11-26 半導体ウエハの認識方法 Pending JPH04196149A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100286335B1 (ko) * 1998-04-09 2001-05-02 김영환 반도체이온주입장비의웨이퍼오리앤팅장치
JP2013531379A (ja) * 2010-06-29 2013-08-01 セントロターム・サーマル・ソルーションズ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンデイトゲゼルシヤフト ウェハ搬送ロボットを較正する装置および方法

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