JPH04199696A - ランドレス高密度バイア充填方法 - Google Patents
ランドレス高密度バイア充填方法Info
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- JPH04199696A JPH04199696A JP32595690A JP32595690A JPH04199696A JP H04199696 A JPH04199696 A JP H04199696A JP 32595690 A JP32595690 A JP 32595690A JP 32595690 A JP32595690 A JP 32595690A JP H04199696 A JPH04199696 A JP H04199696A
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、複数の絶縁シートを積層して形成する多層基
板の層間導電路となるバイアホールに導電ペーストを充
填する方法に係り、特に、絶縁シー l−1例えばセラ
ミックグリーンシート、よりなる多層配線基板を製造す
る工程において、該絶縁シートに対するランドレス高密
度バイア充填方法に関する。
板の層間導電路となるバイアホールに導電ペーストを充
填する方法に係り、特に、絶縁シー l−1例えばセラ
ミックグリーンシート、よりなる多層配線基板を製造す
る工程において、該絶縁シートに対するランドレス高密
度バイア充填方法に関する。
[従来の技術]
従来、バイアホールの充填方法は、第6図に示すように
、絶縁シート101の所定個所にパンチングマシン(図
示せず。)にてバイアホール102を穿設し、該絶縁シ
ート101の裏面にインク止めフィルム103を貼着し
た後、このバイアホール102と同座標で同径又は多少
大きな径の穴104の開いたメタルマスク105を使用
し、スクリーン印刷法にて導電ベースl−106を充填
している。
、絶縁シート101の所定個所にパンチングマシン(図
示せず。)にてバイアホール102を穿設し、該絶縁シ
ート101の裏面にインク止めフィルム103を貼着し
た後、このバイアホール102と同座標で同径又は多少
大きな径の穴104の開いたメタルマスク105を使用
し、スクリーン印刷法にて導電ベースl−106を充填
している。
そして、インク止めフィルム103及びメタルマスク1
.05を取り除いて、第7図に示すように、層間導電路
となる導電ペースト106を充填した絶縁シート101
を製造している。
.05を取り除いて、第7図に示すように、層間導電路
となる導電ペースト106を充填した絶縁シート101
を製造している。
この従来のバイア充填法によれば、第7図に示し、後記
するように、バイアランド(凸部)107が形成するも
のである。
するように、バイアランド(凸部)107が形成するも
のである。
[発明が解決しようとする課題]
上記従来のスクリーン印刷法では、絶縁シート101の
バイアホール102とメタルマスク105の穴104と
の位置合せが非常に困難であり、また、第7図に示すよ
うに、充填後も絶縁シート101の表面側にメタルマス
ク105の厚み分及びその穴104に相当するバイアラ
ンド(凸部)107が形成する。このバイアランド(凸
部)107の形成は、絶縁シート101同士の密着性を
阻害する欠点を有する。
バイアホール102とメタルマスク105の穴104と
の位置合せが非常に困難であり、また、第7図に示すよ
うに、充填後も絶縁シート101の表面側にメタルマス
ク105の厚み分及びその穴104に相当するバイアラ
ンド(凸部)107が形成する。このバイアランド(凸
部)107の形成は、絶縁シート101同士の密着性を
阻害する欠点を有する。
更に、このバイアランド(凸部)107の形成は、第8
図に示すように、絶縁シートlot上にパターン108
を描く際、「導体とバイアとのショルダー現象(断差に
よる印刷カスレ)による接触不良」が生じ、また、配線
密度の低下を引き起こす原因となる欠点を有する。
図に示すように、絶縁シートlot上にパターン108
を描く際、「導体とバイアとのショルダー現象(断差に
よる印刷カスレ)による接触不良」が生じ、また、配線
密度の低下を引き起こす原因となる欠点を有する。
これ等の欠点を解消するため、絶縁シートにキャリアフ
ィルムを貼着した状態でバイアホールを穿設し、次いで
、常法に従ってバイア充填した後、キャリアフィルムを
絶縁シートから剥離する手段が考えられ、これによって
、バイアランド(凸部) 107の形成を防止すること
ができる。
ィルムを貼着した状態でバイアホールを穿設し、次いで
、常法に従ってバイア充填した後、キャリアフィルムを
絶縁シートから剥離する手段が考えられ、これによって
、バイアランド(凸部) 107の形成を防止すること
ができる。
しかしながら、この手段を採用しても尚キャリアフィル
ムを剥離した後に突起の発生がみられ(後記実施例参照
)、この突起もまた絶縁シート同士の重着性を阻害し、
かつ、絶縁シート上にパターンを描く際、前記したとお
り、接触が不良となり、さらには、配線密度の低下を引
き起こす欠点を有する。
ムを剥離した後に突起の発生がみられ(後記実施例参照
)、この突起もまた絶縁シート同士の重着性を阻害し、
かつ、絶縁シート上にパターンを描く際、前記したとお
り、接触が不良となり、さらには、配線密度の低下を引
き起こす欠点を有する。
そこで、本発明は、」−記諸欠点を解消するバイア充填
方法を提供することを目的とし、詳細には、上記バイア
ランド(凸部)の形成を防止すると共に」二連した突起
形成をも解消し、かつ、バイアの充填密度を上げること
ができるバイア充填方法cランドレス高密度バイア充填
方法)を提供することを目的とする。
方法を提供することを目的とし、詳細には、上記バイア
ランド(凸部)の形成を防止すると共に」二連した突起
形成をも解消し、かつ、バイアの充填密度を上げること
ができるバイア充填方法cランドレス高密度バイア充填
方法)を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
そして、本発明は、上記目的を達成するため、穴加工さ
れたキャリアフィルム付き絶縁シートにバイア充填する
工程と、キャリアフィルムを剥離した後ローラー掛けし
て突起を穴に埋込む工程とを含むことを特徴とするもの
であり、具体的には、穴(バイアホール)加工されたキ
ャリアフィルム付きグリーンシートに、位置合せ不用な
窓の開いたメタルマスクを用い、スクリーン印刷法にて
バイア充填した後、乾燥(70℃、5分間)し、キャリ
アフィルムを剥離した後にできる突起をローラー掛けし
て穴(バイアホール)に埋込み、バイアランド(凸部)
及び突起形成を解消すると同時にバイアの充填密度を上
げることを特徴とする。
れたキャリアフィルム付き絶縁シートにバイア充填する
工程と、キャリアフィルムを剥離した後ローラー掛けし
て突起を穴に埋込む工程とを含むことを特徴とするもの
であり、具体的には、穴(バイアホール)加工されたキ
ャリアフィルム付きグリーンシートに、位置合せ不用な
窓の開いたメタルマスクを用い、スクリーン印刷法にて
バイア充填した後、乾燥(70℃、5分間)し、キャリ
アフィルムを剥離した後にできる突起をローラー掛けし
て穴(バイアホール)に埋込み、バイアランド(凸部)
及び突起形成を解消すると同時にバイアの充填密度を上
げることを特徴とする。
[作用]
本発明は、上記したように、キャリアフィルム付き絶縁
シートを用いるものであるから、バイアランド(凸部)
の形成が皆無であり、しかも、スクリーン印刷をする際
、このキャリアフィルムがマスクとしての作用をも生ず
ることになるため、位置合せ不用な窓の開いたメタルマ
スクの使用が可能となり、その結果、絶縁シートのバイ
アホールとメタルマスクの穴との位置合せが不用となる
作用効果が生ずる。
シートを用いるものであるから、バイアランド(凸部)
の形成が皆無であり、しかも、スクリーン印刷をする際
、このキャリアフィルムがマスクとしての作用をも生ず
ることになるため、位置合せ不用な窓の開いたメタルマ
スクの使用が可能となり、その結果、絶縁シートのバイ
アホールとメタルマスクの穴との位置合せが不用となる
作用効果が生ずる。
また、キャリアフィルムを剥離した後に発生する突起は
、ローラー掛けすることによりバイアホール内に埋込ま
れることになるため、該突起が解消すると同時にバイア
の充填密度を上げる作用が生じ、このバイアの充填密度
の向上によって、バイア抵抗が低く安定するという作用
が生ずる。
、ローラー掛けすることによりバイアホール内に埋込ま
れることになるため、該突起が解消すると同時にバイア
の充填密度を上げる作用が生じ、このバイアの充填密度
の向上によって、バイア抵抗が低く安定するという作用
が生ずる。
[実施例]
以下実施例を挙げて、本発明をより詳細に説明する。
第1図〜第5図は、本発明の詳細な説明するための図で
あって、第1図は、メタルマスクであり、第2因は、バ
イア充填工程の説明図、第3図は、キャリアフィルム剥
離工程の説明図、第4図は、ローラー掛は工程の説明図
、第5図は、ローラー掛は後の状態図である。
あって、第1図は、メタルマスクであり、第2因は、バ
イア充填工程の説明図、第3図は、キャリアフィルム剥
離工程の説明図、第4図は、ローラー掛は工程の説明図
、第5図は、ローラー掛は後の状態図である。
先ず、グリーンシート3の表面に0−05mm Lのキ
ャリアフィルム5を貼着した後、パンチングマシン(図
示せず。)にて所定個所にバイアホール4を穿設する(
第2図参照)。なお、キャリアフィルム5としては、P
ET (ポリエチレンテレフタラート)フィルムが好ま
しい。
ャリアフィルム5を貼着した後、パンチングマシン(図
示せず。)にて所定個所にバイアホール4を穿設する(
第2図参照)。なお、キャリアフィルム5としては、P
ET (ポリエチレンテレフタラート)フィルムが好ま
しい。
次いで、メタルマスク1を用い、スクリーン印刷法にて
銀を主成分とする導電ペースト6をバイアホール4内に
充填する。このメタルマスクlは、第1図に示すように
、大きな開口部2が設けられており、バイアホール4と
の位置合せを不用とするものである。
銀を主成分とする導電ペースト6をバイアホール4内に
充填する。このメタルマスクlは、第1図に示すように
、大きな開口部2が設けられており、バイアホール4と
の位置合せを不用とするものである。
バイア充填後、70℃で5分間加熱し、導電ペースト6
を十分乾燥させ、第3図に示すように、キャリアフィル
ム5を剥離する。この際、約003mm程度の突起7が
発生する。
を十分乾燥させ、第3図に示すように、キャリアフィル
ム5を剥離する。この際、約003mm程度の突起7が
発生する。
次に、この突起7を、第4図及び第5図に示すように、
汚れ防止用フィルム9を介してローラー8により押圧し
、バイアホール4内に埋込む。
汚れ防止用フィルム9を介してローラー8により押圧し
、バイアホール4内に埋込む。
このようにして、ランドレスで高密度バイア充填された
グリーンシート3を作成する。
グリーンシート3を作成する。
以上、実施例によって本開明を詳細に説明したが、本発
明は、この実施例に限定されるものではなく、本発明の
技術的思想に基づいて種々の変形及び変更ができるもの
である。
明は、この実施例に限定されるものではなく、本発明の
技術的思想に基づいて種々の変形及び変更ができるもの
である。
[発明の効果]
本発明は、以上詳記したとおり、キャリアフィルム付き
絶縁シートを用いるものであるから、バイアランド(凸
部)の形成が皆無であり、しかも、スクリーン印刷をす
る際、このキャリアフィルムがマスクとしての作用をも
生ずることになるため、位置合せ不用な窓の開いたメタ
ルマスクの使用が可能となり、その結果、絶縁シートの
バイアホールとメタルマスクの穴との位置合せが不用と
なる効果が生ずる。
絶縁シートを用いるものであるから、バイアランド(凸
部)の形成が皆無であり、しかも、スクリーン印刷をす
る際、このキャリアフィルムがマスクとしての作用をも
生ずることになるため、位置合せ不用な窓の開いたメタ
ルマスクの使用が可能となり、その結果、絶縁シートの
バイアホールとメタルマスクの穴との位置合せが不用と
なる効果が生ずる。
また、キャリアフィルムを剥離した後に発生する突起は
、ローラー掛けすることによりバイアホール内に埋込ま
れることになるため、該突起の解消と同時にバイアの充
填密度を上げる作用が生じ、このバイアの充填密度の向
上によって、バイア抵抗が低く安定するという顕著な効
果を奏する。
、ローラー掛けすることによりバイアホール内に埋込ま
れることになるため、該突起の解消と同時にバイアの充
填密度を上げる作用が生じ、このバイアの充填密度の向
上によって、バイア抵抗が低く安定するという顕著な効
果を奏する。
本開明は、上記のとおり、ランドレスで高密度のバイア
充填が可能となり、絶縁シート同士の密着性が良好とな
るばかりでなく、絶縁シート上にパターンを描く際、上
記バイアランド(凸部)並びに突起の形成に伴う[導体
とバイアとのショルダー現象(断差による印刷カスレ)
による接触不良」が解消され、また、配線密度の低下を
引き起こすことがない。
充填が可能となり、絶縁シート同士の密着性が良好とな
るばかりでなく、絶縁シート上にパターンを描く際、上
記バイアランド(凸部)並びに突起の形成に伴う[導体
とバイアとのショルダー現象(断差による印刷カスレ)
による接触不良」が解消され、また、配線密度の低下を
引き起こすことがない。
更に、絶縁シート積層体の表面の凹凸が無くなるため、
絶縁シート多層基板の寸法精度を向上させることができ
、この多層基板の外層に形成される抵抗体の抵抗値精度
が向上する等の顕著な効果が生ずる。
絶縁シート多層基板の寸法精度を向上させることができ
、この多層基板の外層に形成される抵抗体の抵抗値精度
が向上する等の顕著な効果が生ずる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は、本開明の実施例を説明するための図
であって、第1図は、メタルマスクの概略図であり、第
2図は、バイア充填工程の説明図、第3図は、キャリア
フィルム剥離工程の説明図、第4図は、ローラー掛は工
程の説明図、第5図は、ローラー掛は後の状態図である
。 第6図は、従来のバイア充填法を説明するための図であ
る。第7図は、従来のバイア充填法で得られた層間導電
路を有する絶縁シートの概略図であり、第8図は、第7
図の絶縁シート上にパターンを設けた概略図である。 1:メタルマスク 2:開口部3ニゲリーンシ
ート 4:バイアホール5:キャリアフィルム
6:導電ペースト7゛突起 8:
ローラ9:汚れ防止用フィルム 101:絶縁シー1− 102:バイアホー
ル103°インク止めフィルム 104:穴105:メ
タルマスク 10Ci:導電ペースト107
:バイアランド 108:パターン第1図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図
であって、第1図は、メタルマスクの概略図であり、第
2図は、バイア充填工程の説明図、第3図は、キャリア
フィルム剥離工程の説明図、第4図は、ローラー掛は工
程の説明図、第5図は、ローラー掛は後の状態図である
。 第6図は、従来のバイア充填法を説明するための図であ
る。第7図は、従来のバイア充填法で得られた層間導電
路を有する絶縁シートの概略図であり、第8図は、第7
図の絶縁シート上にパターンを設けた概略図である。 1:メタルマスク 2:開口部3ニゲリーンシ
ート 4:バイアホール5:キャリアフィルム
6:導電ペースト7゛突起 8:
ローラ9:汚れ防止用フィルム 101:絶縁シー1− 102:バイアホー
ル103°インク止めフィルム 104:穴105:メ
タルマスク 10Ci:導電ペースト107
:バイアランド 108:パターン第1図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図
Claims (1)
- 複数の絶縁シートを積層して形成する多層基板の層間導
電路となるバイアホールに導電ペーストを充填する方法
において、任意の座標に穴加工されたキャリアフィルム
付き絶縁シートにバイア充填する工程と、キャリアフィ
ルムを剥離した後ローラー掛けして突起をバイアホール
に埋込む工程とを含むことを特徴とするランドレス高密
度バイア充填方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32595690A JPH04199696A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | ランドレス高密度バイア充填方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32595690A JPH04199696A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | ランドレス高密度バイア充填方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04199696A true JPH04199696A (ja) | 1992-07-20 |
Family
ID=18182484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32595690A Pending JPH04199696A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | ランドレス高密度バイア充填方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04199696A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6533888B2 (en) * | 1998-02-26 | 2003-03-18 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for fabricating buried and flat metal features |
| KR100522385B1 (ko) * | 2001-07-10 | 2005-10-19 | 가부시키가이샤후지쿠라 | 다층 회로 기판 어셈블리, 다층 회로 기판 어셈블리 부품및 그들의 제조 방법 |
| KR100573999B1 (ko) * | 2001-03-23 | 2006-04-25 | 가부시끼가이샤 후지꾸라 | 다층 배선판, 다층 배선판용 기재 및 그 제조 방법 |
| JP2008537601A (ja) * | 2005-03-14 | 2008-09-18 | シピックス・イメージング・インコーポレーテッド | セグメントディスプレイ用バックプレーンの設計及び製造方法 |
| JP2009522762A (ja) * | 2005-12-30 | 2009-06-11 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 特にグラビア印刷法のための印刷ステンシルを製作するための方法及びステンシル装置 |
| JP2012038336A (ja) * | 2004-12-08 | 2012-02-23 | Nokia Corp | 装置上でデジタルビジュアルコンテンツを閲覧するためのシステム及び方法 |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP32595690A patent/JPH04199696A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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