JPH0419987B2 - - Google Patents

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JPH0419987B2
JPH0419987B2 JP16013482A JP16013482A JPH0419987B2 JP H0419987 B2 JPH0419987 B2 JP H0419987B2 JP 16013482 A JP16013482 A JP 16013482A JP 16013482 A JP16013482 A JP 16013482A JP H0419987 B2 JPH0419987 B2 JP H0419987B2
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JP
Japan
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acid
reaction
disulfonic acid
dinitronaphthalene
disulfonic
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JP16013482A
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Hiroki Fujii
Yukio Izumi
Nobuyori Shibamoto
Kazusaku Aramatsu
Hiromichi Kitano
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Sugai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Sugai Chemical Industry Co Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
<産業上の利用分野> 本発明は1・8−ジニトロナフタレン−3・6
−ジスルホン酸の製造法に関する。より詳細に
は、ナフタレン−2・7−ジスルホン酸から、ニ
トロ化、還元、加水分解の各工程を経て1−アミ
ノ−8−ヒドロキシナフタレン−3・6−ジスル
ホン酸(以下、H酸という)を製造する際の中間
体として有用な1・8−ジニトロナフタレン−
3・6−ジスルホン酸の製造法に関する。 <従来の技術及び発明が解決しようとする課題> H酸は著名な染料中間体で、特に直接、或いは
酸性染料等のアゾ系染料の最も重要な中間物の一
つであり、現在、世界各国で多量生産され、同時
にこれらH酸の製造に関する技術改良もさかんに
おこなわれ、更には研究報告或いは特許出願も多
数おこなわれている。 しかしながら、これらH酸の製造方法、或いは
改良方法についての文献はナフタレン−1・3・
6−トリスルホン酸のニトロ化、還元、アルカリ
加水分解の工程を経る方法についてだけであり、
ナフタレン−2・7−ジスルホン酸からのH酸製
造法についての最近の公知文献は皆無である、と
言つても過言ではない。 ナフタレン−2・7−ジスルホン酸からのH酸
製造方法についての公知文献は、ナフタレン−
2・7−ジスルホン酸ジカリウム塩から18モル倍
量の濃硫酸中、0℃乃至5℃の範囲で1.08モル比
の硝酸(混酸)でモノニトロ化し、次いで硝酸カ
リウム1.44モル比を加え、80℃乃至90℃で1乃至
2時間加熱撹拌し、得られた1・8−ジニトロナ
フタレン−3・6−ジスルホン酸を鉄粉及び硝酸
を用いて、還元し、対応する1・8−ジアミノナ
フタレン−3・6−ジスルホン酸が得られ
(DRP.A.O.1430)、更に1・8−ジアミノナフタ
レン−3・6−ジスルホン酸を約等モルの硫酸を
含む10%硫酸水溶液に加え、約6時間110℃乃至
120℃で加熱後、放冷することによつて針状微黄
色のH酸アンモニウム塩が得られる
(DRP67062)、との記載があるが、該方法におけ
る品質、収率等の記載はない。本発明者等の該方
法についての追試結果によれば、異性体を多量に
含んだH酸が得られ、このままでは使用に耐えな
い品質であり、又、収率的にも満足し得ないもの
であつた。 これらの状況から、本発明者等はすでに完成し
た2・7−ナフタレンジスルホン酸の製法(特開
昭56−77254)によつて得られる高純度2・7−
ナフタレンジスルホン酸を用いて、H酸を製造す
る工業的製造方法の研究に着手し、ニトロ化、還
元、加水分解の各工程について鋭意検討をかさね
た結果、高純度のH酸を高収率で得られる方法を
見出した。本発明はかかるH酸の製法において、
中間体として有用な1・8−ジニトロナフタレン
−3・6−ジスルホン酸の製造法を提供するもの
である。 <課題を解決するための手段> 本発明は2・7−ナフタレンジスルホン酸を出
発物質とし、特定の条件下でニトロ化をおこなう
1・8−ジニトロナフタレン−3・6−ジスルホ
ン酸の製造法である。より詳細には、2・7−ナ
フタレンジスルホン酸を用い、混酸でジニトロ化
反応をおこなう場合、モノニトロ化物からジニト
ロ化物へ反応が進行するに際し、中間化合物を経
由して進行することを見いだし、且つ該中間化合
物が系内に存在する場合、反応系内の粘性増加を
抑制することを見い出した。これらの性質を巧み
に利用することにより、反応溶媒として用いられ
ている硫酸溶媒の使用を半減させることに成功
し、本発明を完成した。 本発明を更に具体的に述べるならば、 1 2・7−ナフタレンジスルホン酸を硫酸溶媒
中、混酸でニトロ化し、1・8−ジニトロナフ
タレン−3・6−ジスルホン酸を製造する方法
において、反応が1−ニトロナフタレン−3・
6−ジスルホン酸から1・8−ジニトロナフタ
レン−3・6−ジスルホン酸へ進行する時点に
おける反応系内条件として、脱水値が5乃至
27、反応温度が−20℃乃至40℃、反応溶媒とし
ての硫酸を1−ニトロナフタレン−3・6−ジ
スルホン酸1モルに対し、6モル乃至15モルの
条件下、硝酸又は混酸でニトロ化され、且つニ
トロ化剤滴下終了後、1−ニトロナフタレン−
3・6−ジスルホン酸が検出されなくなつてか
ら、水中に排出し、硫酸濃度が80%以下に希釈
された状態で0.5時間以上昇温・熟成し、ジニ
トロ化反応を完成させることを特徴とする1・
8−ジニトロナフタレン−3・6−ジスルホン
酸の製造法。 2 脱水値を8乃至12にして、ジニトロ化反応を
おこなわせることを特徴とする上記1)記載の
製造法。 3 反応温度を−10℃乃至25℃の範囲で、ジニト
ロ化反応をおこなわせることを特徴とする上記
1)又は2)記載の製造法。 4 反応溶媒としての硫酸を1−ニトロナフタレ
ン−3・6−ジスルホン酸1モルに対し、8モ
ル乃至12モルを用いて、ジニトロ化反応をおこ
なわせることを特徴とする上記1)、2)又は
3)記載の製造法。 5 ジニトロ化反応を熟成・完成させる際、該反
応温度を50℃乃至沸点以下でおこなうことを特
徴とする上記1)、2)、3)又は4)記載の製
造法。 本発明は上記の構成からなり、2・7−ナフタ
レンジスルホン酸をニトロ化して1−ニトロナフ
タレン−3・6−ジスルホン酸を生成させ、2・
7−ナフタレンジスルホン酸が消失しモノニトロ
化が完了した後の1−ニトロナフタレン−3・6
−ジスルホン酸から1・8−ジニトロナフタレン
−3・6−ジスルホン酸へのジニトロ化反応時に
おける反応系内条件として特定の条件を採用する
ものである。 上記のジニトロ化工程において、脱水値[脱水
値=(反応最終系内硫酸重量)/(反応最終系内
水分重量)]が5以下では未反応物が多く残存し、
その結果最終H酸の品質悪化を招き、12以上では
選択性が若干上昇するが、廃酸量の増大等、経済
的に大きな効果は望めない。又、反応温度につい
ては−20℃以下では反応系内の粘性が増加し、溶
媒としての硫酸量を増加させなければ反応マスの
系外への取出しが困難となり、経済性を損う。
又、40℃以上では硝酸の分解、蒸発による損失が
大きく、そのために過剰の硝酸を必要とし、又、
異常反応による不明成分の増加を招き、好ましい
結果は得られない。 以上のような理由により、本発明の限定された
諸条件内でニトロ化反応を行なうことにより、溶
媒としての硫酸量を公知文献記載の方法と比較し
て、半減し得る効果を得、同時に高品質な1・8
−ジニトロナフタレン−3・6−ジスルホン酸を
高収率で得られるという効果を発現する。 しかしながら、これらの効果は該反応条件内で
の反応においても、通常のジニトロ化反応の如
く、ジニトロ化の終了時点迄、反応を進行させた
場合には発現されず、むしろ反応系内はジニトロ
化終点付近では高粘性マスとなり、反応系外への
排出も困難となり、又、異常反応も進行して、そ
のために経済的に多大の損失を招くことになる。 本発明の他の特徴は上述した如く、モノニトロ
体よりジニトロ体に反応が進行するに際し、中間
化合物を経由し、該中間化合物の存在する反応系
内の粘性は低いという事実、更には該中間化合物
は希釈された硫酸溶液においても、加熱すること
により、容易に目的物である1・8−ジニトロナ
フタレン−3・6−ジスルホン酸に反応が進むこ
とを見い出したことにより、次工程で好ましくな
い原因となる1−ニトロナフタレン−3・6−ジ
スルホン酸が反応系内に存在しなくなつた時点
で、反応マスを水中に排出し、50℃以上、好まし
くは80℃以上に温度を高め、同温度で0.5時間以
上、好ましくは1時間以上保つことにより、溶媒
としての硫酸使用量を公知文献と比較して、半減
した状態においても、高収率で高品質な1・8−
ジニトロナフタレン−3・6−ジスルホン酸を得
ることができる、という上述した効果が発現され
るのである。又、熟成時間は該中間化合物のジニ
トロ体への転移速度は速く、中間化合物が消失す
れば、それ以上の加熱は意味を有さない。 又、硫酸の希釈濃度は低くともジニトロ体への
中間化合物からの転移は進行するが、廃酸の再利
用等を考慮した場合、系内の異常反応は進行せ
ず、転移反応のみが進行する濃度、即ち、80%以
下の濃度で、実際的には可及的高濃度が好まし
い。 本発明の方法により得られた1・8−ジニトロ
ナフタレン−3・6−ジスルホン酸は、還元して
1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスルホ
ン酸とし、次いでモノ加水分解することによりH
酸を得ることができる。特に、1・8−ジニトロ
ナフタレン−3・6−ジスルホン酸を電解質とし
て塩化アンモニアを含む水溶液中、80℃以上の温
度で鉄粉を用いて還元して1・8−ジアミノナフ
タレン−3・6−ジスルホン酸とし、次いで1・
8−ジアミノナフタレン−3・6−ジスルホン酸
1モル当り、15重量%乃至50重量%の硫酸又は塩
酸溶液1モル以上を使用して100℃乃至沸点でモ
ノ加水分解することにより高収率且つ高純度でH
酸を得ることができる。 <発明の効果> 本発明によれば特定の条件下でニトロ化反応が
おこなわれており、硫酸の使用量を著しく低減で
きるとと共に高収率の高純度の1・8−ジニトロ
ナフタレン−3・6−ジスルホン酸を得ることが
できるという効果を奏する。 <実施例> 本発明を更に詳細に説明するため、以下に実施
例をあげて説明するが、本発明の範囲はこれら実
施例のみに限定されるものではない。 実施例 1 95.68%の硫酸1024.2g(10モル)中に1モル
の2・7−ナフタレンジスルホン酸が溶解した溶
液(脱水値12)に調整し、冷却後、99%硝酸70g
を0〜3℃の範囲で1時間を要して滴下し、同温
度で1時間撹拌し、次いで99%硝酸70gを同温度
で1時間を要して滴下、後更に3時間同温度に制
御しながら撹拌反応をおこない、1−ニトロナフ
タレン−3・6−ジスルホン酸の消失を液体クロ
マトグラフイーで確認した。 この時点での液体クロマトグラムから、中間化
合物7.4%、1・8−ジニトロナフタレン−3・
6−ジスルホン酸84.4%を含有していたことを確
認した。 該反応マスを水935.7g中に排出し、硝酸濃度
を50%に希釈し、90℃乃至95℃の範囲で約2時間
同温度で保温撹拌を続けた。 冷却後、液体クロマトグラフイーで分析した結
果、目的物である1・8−ジニトロナフタレン−
3・6−ジスルホン酸の収率は91.7%であつた。 常法に準じて、上記1・8−ジニトロナフタレ
ン−3・6−ジスルホン酸溶液に48%水酸化ナト
リウム液191.7gを加えて結晶を析出させ、1・
8−ジニトロナフタレン−3・6−ジスルホン酸
ジナトリウムを得た。尚、液体クロマトグラフイ
ー及び原子吸光分析によりジナトリウム塩である
ことを確認した。 実施例 2 96.21%の硫酸71.50g中に2・7−ナフタレン
ジスルホン酸0.105モルが溶解した溶液に調整し、
15℃に冷却後、98%硫酸/99%硝酸=1/1(重
量比で)の混酸29.46gの1/2を15℃±2℃に反応
系内を制御しながら1時間を要して滴下、次いで
同温度で1時間撹拌した後、残りの混酸を1時間
要して、同温度で滴下、滴下後、同温度で更に1
時間保温撹拌した(硫酸モル比8.07、脱水値12)。 液体クロマトグラフイーで分析した結果、中間
化合物5.7%、1・8−ジニトロナフタレン−
3・6−ジスルホン酸87.6%を含み、1−ニトロ
ナフタレン−3・6−ジスルホン酸を含まないこ
とを確認した。 該反応マスを水28.73g中に排出(硫酸濃度70
%)し、90℃に昇温、90℃乃至95℃の範囲で3時
間保温撹拌した。 液体クロマトグラフイーで分析した結果、目的
物である1・8−ジニトロナフタレン−3・6−
ジスルホン酸は89.2%含有し、中間化合物は含ま
れていなかつた。 実施例 3〜8 実施例1及び実施例2に準じ、硝酸又は混酸で
ニトロ化をおこない、各条件を変えて該方法を実
施した。結果は以下の表に示した。
【表】 参考例 1 水1中に塩化アンモニウム0.4モルを加え、
更に鉄粉376.65gを加え、撹拌しながら98℃に昇
温、98℃〜100℃で30分保温撹拌した。 次いで実施例1で得た1・8−ジニトロナフタ
レン−3・6−ジスルホン酸ジナトリウム塩
422.3gを沸点下、1時間を要して投入、更に同
温度で1時間撹拌し、後70℃に冷却、鉄粉を分
離、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−ジス
ルホン酸ジナトリウム塩0.965モルを含んだ溶液
1070gを得た。 該溶液107gを水で42.5%に調整した硫酸178g
と混合すると、1・8−ジアミノナフタレン−
3・6−ジスルホン酸モノナトリウム塩が析出し
たが、懸濁状態で30分を要して120℃迄昇温、120
±2℃で17.5時間加熱撹拌した。 後、3時間を要して30℃迄放冷、析出したH酸
モノナトリウム塩を分取、水洗後100℃で10時間
乾燥し、1・8−ジアミノナフタレン−3・6−
ジスルホン酸モノナトリウム塩3.0%を含んだH
酸モノナトリウム塩を、1・8−ジニトロナフタ
レン−3・6−ジスルホン酸に対して88.6%の収
率で得た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 2・7−ナフタレンジスルホン酸を硫酸溶媒
    中、混酸でニトロ化し、1・8−ジニトロナフタ
    レン−3・6−ジスルホン酸を製造する方法にお
    いて、反応が1−ニトロナフタレン−3・6−ジ
    スルホン酸から1・8−ジニトロナフタレン−
    3・6−ジスルホン酸へ進行する時点における反
    応系内条件として、脱水値が5乃至27、反応温度
    が−20℃乃至40℃、反応溶媒としての硫酸を1−
    ニトロナフタレン−3・6−ジスルホン酸1モル
    に対し、6モル乃至15モルの条件下、硝酸又は混
    酸でニトロ化され、且つニトロ化剤滴下終了後、
    1−ニトロナフタレン−3・6−ジスルホン酸が
    検出されなくなつてから、水中に排出し、硫酸濃
    度が80%以下に希釈された状態で0.5時間以上昇
    温・熟成し、ジニトロ化反応を完成させることを
    特徴とする1・8−ジニトロナフタレン−3・6
    −ジスルホン酸の製造法。 2 脱水値を8乃至12にして、ジニトロ化反応を
    おこなわせることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の製造法。 3 反応温度を−10℃乃至25℃の範囲で、ジニト
    ロ化反応をおこなわせることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項又は第2項記載の製造法。 4 反応溶媒としての硫酸を1−ニトロナフタレ
    ン−3・6−ジスルホン酸1モルに対し、8モル
    乃至12モルを用いて、ジニトロ化反応をおこなわ
    せることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至
    第3項のいずれかに記載の製造法。 5 ジニトロ化反応を熟成・完成させる際、該反
    応温度を50℃乃至沸点以下でおこなうことを特徴
    とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のいずれ
    かに記載の製造法。
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