JPH042020A - 真空インタラプタの製造方法 - Google Patents
真空インタラプタの製造方法Info
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- JPH042020A JPH042020A JP10267990A JP10267990A JPH042020A JP H042020 A JPH042020 A JP H042020A JP 10267990 A JP10267990 A JP 10267990A JP 10267990 A JP10267990 A JP 10267990A JP H042020 A JPH042020 A JP H042020A
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Landscapes
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
- Manufacture Of Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
A 産業上の利用分野
本発明は、真空インタラプタの製造方法に係り、特に電
極が低融点金属を含有している真空インタラプタの製造
方法に関したものである。
極が低融点金属を含有している真空インタラプタの製造
方法に関したものである。
B1発明の概要
本発明は、電極が低融点金属を含有している真空インタ
ラプタのロウ付け部、特に最後の組立段階における気密
ロウ材は部にCuとNiとPとSnとからなるアモルフ
ァス質のロウ材を用い、且つロウ付け加熱温度を700
℃以下にして真空引きとロウ付けとを同時に行うことに
より、ロウ付け強度、気密接合の向上を図ったものであ
る。
ラプタのロウ付け部、特に最後の組立段階における気密
ロウ材は部にCuとNiとPとSnとからなるアモルフ
ァス質のロウ材を用い、且つロウ付け加熱温度を700
℃以下にして真空引きとロウ付けとを同時に行うことに
より、ロウ付け強度、気密接合の向上を図ったものであ
る。
C1従来の技術
第4図は、この種真空インタラプタの従来の概略構成図
である。
である。
図中において、lは固定側部材であり、固定電極11を
内端に具備するリード棒12と、固定側端板13とを主
要な部材として構成している。2は可動側部材であり、
可動電極21を内端に具備するリード棒22と、可動側
端板23と、ベローズ24とを主要な部材として構成し
ている。3はセラミックス等の部材からなる絶縁筒であ
り、31は絶縁筒の内側に設けた金属シールドである。
内端に具備するリード棒12と、固定側端板13とを主
要な部材として構成している。2は可動側部材であり、
可動電極21を内端に具備するリード棒22と、可動側
端板23と、ベローズ24とを主要な部材として構成し
ている。3はセラミックス等の部材からなる絶縁筒であ
り、31は絶縁筒の内側に設けた金属シールドである。
このように構成した真空インタラプタは、可動電極21
を図中で上下方向に可動することにより電流の開閉を行
うものである。
を図中で上下方向に可動することにより電流の開閉を行
うものである。
このような構成からなる真空インタラプタの製造は、一
般には次のような手段によって製造される。
般には次のような手段によって製造される。
■ 第4図のように構成各部材の接合部に、板ロウ、線
ロウからなるロウ材41〜47を配置して仮組立し、こ
れを真空炉に入れて加熱排気とロウ付けを同時に行って
真空インタラプタを一括して製造する。
ロウからなるロウ材41〜47を配置して仮組立し、こ
れを真空炉に入れて加熱排気とロウ付けを同時に行って
真空インタラプタを一括して製造する。
■ 固定側部材lと可動側部材2の一部、または全部を
予め前工程で製造しておき、そして、絶縁筒3との間に
ロウ材42.47を介在させて、真空中でロウ付けと加
熱排気を同時に行って真空インクラブタを製造する。
予め前工程で製造しておき、そして、絶縁筒3との間に
ロウ材42.47を介在させて、真空中でロウ付けと加
熱排気を同時に行って真空インクラブタを製造する。
なお、前記■の場合には各所に同じロウ材(例えばCu
系のロウ材)を配置し、■の場合には溶融点の異なるロ
ウ材(例えばCu系とAg系)を使用するのが一般的で
ある。
系のロウ材)を配置し、■の場合には溶融点の異なるロ
ウ材(例えばCu系とAg系)を使用するのが一般的で
ある。
B9発明が解決しようとする課題
従来、真空インタラプタに要求される種々の特性を満た
すために、電極はCu(銅)を主成分としこれに低融点
金属、例えばBi(ビスマス)を、0.1〜20重量%
含有することが一般的に行われている。
すために、電極はCu(銅)を主成分としこれに低融点
金属、例えばBi(ビスマス)を、0.1〜20重量%
含有することが一般的に行われている。
しかし、電極がこのような低融点金属を含有している場
合には、ロウ付け時の温度(700〜1000℃)にて
電極より低融点金属の一部が蒸発することが知られてい
る。この蒸発した金属は、真空容器内部材に付着するば
かりか、その一部は溶融しているロウ村山に侵入してロ
ウ付け接合に悪影響を及ぼすことがある。
合には、ロウ付け時の温度(700〜1000℃)にて
電極より低融点金属の一部が蒸発することが知られてい
る。この蒸発した金属は、真空容器内部材に付着するば
かりか、その一部は溶融しているロウ村山に侵入してロ
ウ付け接合に悪影響を及ぼすことがある。
このような弊害の程度は、低融点金属の含有量との関係
もあるが、特に問題となるのは気密シール接合部である
。
もあるが、特に問題となるのは気密シール接合部である
。
つまり、機械的な接合強度は十分であったとしても気密
シール接合としては不十分なものとなってしまうおそれ
があるからである。
シール接合としては不十分なものとなってしまうおそれ
があるからである。
このような気密シール接合部としては、前述の第4図に
おける41.42,45,46.47のロウ材の部位が
各々該当する箇所であり、■ 真空炉中で一括組立する
場合には、これらのロウ材の箇所全部が該当する。
おける41.42,45,46.47のロウ材の部位が
各々該当する箇所であり、■ 真空炉中で一括組立する
場合には、これらのロウ材の箇所全部が該当する。
■ 前工程で固定側、可動側部材を予め製作しておき次
工程で一体化する場合には、42.47のロウ材の箇所
が該当する。
工程で一体化する場合には、42.47のロウ材の箇所
が該当する。
E0課題を解決するための手段
発明者らは、種々の実験を行った結果、■ まず低融点
金属(例えばBi)を含有する金属におけるBiの蒸発
飛散が活発となる温度に着目した。
金属(例えばBi)を含有する金属におけるBiの蒸発
飛散が活発となる温度に着目した。
第4図は、50Cu−40Cr−10Bi (重量%)
の組成からなる金属部材において、加熱温度(横軸)と
重量減少率(縦軸)との関係を不活性雰囲気(真空中)
で調べたものである。
の組成からなる金属部材において、加熱温度(横軸)と
重量減少率(縦軸)との関係を不活性雰囲気(真空中)
で調べたものである。
この図から、温度700℃辺りから急激に重量が減少す
る、つまりBiの蒸発飛散が700℃辺りから活発とな
ることが判った。換言すれば700℃以下の温度でロウ
付けすれば、Biの蒸発飛散はほとんどなく、悪影響は
ないことが判った。
る、つまりBiの蒸発飛散が700℃辺りから活発とな
ることが判った。換言すれば700℃以下の温度でロウ
付けすれば、Biの蒸発飛散はほとんどなく、悪影響は
ないことが判った。
■ 上記■のことから700℃以下の温度でロウ付けで
きるロウ材として、CuとNiとPとSnとからなり且
つアモルファス質で形成すれば、安定にロウ付け接合で
きることを見い出した。
きるロウ材として、CuとNiとPとSnとからなり且
つアモルファス質で形成すれば、安定にロウ付け接合で
きることを見い出した。
CuとNiとPとSnとからなり且つアモルファス質で
ロウ材を形成すれば、Biの蒸発飛散のない700℃以
下の温度でロウ付けできるばかり・でなく、ロウ付け部
にCu−N1−P−Snの拡散層が存在し、これによっ
て低融点金属の接合界面への侵入を抑制でき、安定にロ
ウ付けできることが判った。
ロウ材を形成すれば、Biの蒸発飛散のない700℃以
下の温度でロウ付けできるばかり・でなく、ロウ付け部
にCu−N1−P−Snの拡散層が存在し、これによっ
て低融点金属の接合界面への侵入を抑制でき、安定にロ
ウ付けできることが判った。
従って、本発明は、例えば低融点金属を含有していても
これの悪影響を受けないロウ材とロウ付け方法を提供す
るものであり、 (1)CuとNiとPとSnとからなるアモルファス質
のロウ材であって、Cuを77〜80重量%、Niを3
8〜53重量%、Pを7〜8重量%、Snを4〜lO重
量%、で形成したロウ材。
これの悪影響を受けないロウ材とロウ付け方法を提供す
るものであり、 (1)CuとNiとPとSnとからなるアモルファス質
のロウ材であって、Cuを77〜80重量%、Niを3
8〜53重量%、Pを7〜8重量%、Snを4〜lO重
量%、で形成したロウ材。
(2)そして、630℃以上の温度で且つ低融点金属を
含有する金属部材におけるこの低融点金属の蒸発飛散が
活発とならない700℃以下の温度にてロウ付けする方
法である。
含有する金属部材におけるこの低融点金属の蒸発飛散が
活発とならない700℃以下の温度にてロウ付けする方
法である。
しかして、Cu、Ni、P、Snの割合、また温度が上
記の関係より外れる場合には安定したロウ付け接合を得
ることが出来なかった。
記の関係より外れる場合には安定したロウ付け接合を得
ることが出来なかった。
なお、
(1)低融点金属としては、例えば、Bi(ビスマス)
、Sb(アンチモン)等の低融点金属として良く知られ
ている金属が該当する。
、Sb(アンチモン)等の低融点金属として良く知られ
ている金属が該当する。
(2)真空インタラプタの一体化としては、■ 固定側
部材、可動側部材を各々形成しておき、これらと絶縁筒
とを一体化する場合。
部材、可動側部材を各々形成しておき、これらと絶縁筒
とを一体化する場合。
■ 固定側部材、可動側部材の一方と絶縁筒とを予め一
体化し、その後全体を一体化する場合。
体化し、その後全体を一体化する場合。
の何れかが該当する。
(3)電極は、前工程で予めリード棒にロウ付けしても
良い。また低融点金属の含有量が少ない電極とリード棒
との接合の場合は本発明で用いたInを含有したロウ材
でなく、従来−船釣に使用されているC u −M n
−N i等のロウ材であっても差し支えない。ただし
、本発明で使用したInを含有したロウ材を用いるのが
望ましい。
良い。また低融点金属の含有量が少ない電極とリード棒
との接合の場合は本発明で用いたInを含有したロウ材
でなく、従来−船釣に使用されているC u −M n
−N i等のロウ材であっても差し支えない。ただし
、本発明で使用したInを含有したロウ材を用いるのが
望ましい。
(4)本発明においては、接合部がCuであれば良く、
部材全体がCu、またはCuを主成分とする材料である
必要はない。
部材全体がCu、またはCuを主成分とする材料である
必要はない。
F6作用
ロウ付け温度は約700℃以下で良いことから低融点金
属の飛散は少なく、またロウ付け時には真空インクラブ
タ内は完全密閉ではないので、蒸発した低融点金属が真
空インタラプタの内部にこもることは減少する。しかも
ロウ付け接合部にCu−Ni −P−5nの拡散層が存
在することで低融点金属の接合界面への侵入を抑制でき
、低融点金属を含有する電極を備えた真空インクラブタ
の気密シール接合を確実に且つ信頼性の高いものにでき
る。
属の飛散は少なく、またロウ付け時には真空インクラブ
タ内は完全密閉ではないので、蒸発した低融点金属が真
空インタラプタの内部にこもることは減少する。しかも
ロウ付け接合部にCu−Ni −P−5nの拡散層が存
在することで低融点金属の接合界面への侵入を抑制でき
、低融点金属を含有する電極を備えた真空インクラブタ
の気密シール接合を確実に且つ信頼性の高いものにでき
る。
G、実施例
本発明を以下の実施例に基づいて詳細に説明する。
まずロウ材の特性について調べた実験結果を説明する。
(実験例−1)
Cuが50重量%、Crが40重量%、Biが10重量
%の成分からなる、低融点金属含有の金属部材と無酸素
銅との接合例である。
%の成分からなる、低融点金属含有の金属部材と無酸素
銅との接合例である。
(a)低融点金属を含有した部材について100メツシ
ユの粒径のCr(クロム)粉末を、アルミナ容器(内径
68mm)に約160g入れ、このCr粉末上にCu−
B1合金(約400g)を載置し、容器に蓋をかぶせ、
これを真空炉内にて脱ガスと共にCu−B1合金の融点
以下の温度で加熱処理して、まずCr粒子を拡散結合さ
せて多孔質の溶浸母材を形成する。
ユの粒径のCr(クロム)粉末を、アルミナ容器(内径
68mm)に約160g入れ、このCr粉末上にCu−
B1合金(約400g)を載置し、容器に蓋をかぶせ、
これを真空炉内にて脱ガスと共にCu−B1合金の融点
以下の温度で加熱処理して、まずCr粒子を拡散結合さ
せて多孔質の溶浸母材を形成する。
その後温度を上げて、Cu、Biを溶浸母材に溶浸させ
る。
る。
この際にアルミナ容器内は、Bi蒸気を含んだ雰囲気と
なり、Biを多量に含有した複合金属が得られる。
なり、Biを多量に含有した複合金属が得られる。
こうして得られた金属材料を、容器から取り出し、外面
を機械加工して所定の寸法形状にする。
を機械加工して所定の寸法形状にする。
(b)ロウ材について
77.6Cu−5,7Ni−7P−9,7Sn(重量%
)のアモルファス質のロウ材を用意する。
)のアモルファス質のロウ材を用意する。
(c)ロウ付けについて
上記ロウ材(Cu−Ni−P−9n)を、前記Cu−C
r−B1合金部材と、無酸素銅からなる部材との間に入
れ、これらをアルミナ容器内に設置し、真空炉にて加熱
処理(700℃、15分間)して接合した。
r−B1合金部材と、無酸素銅からなる部材との間に入
れ、これらをアルミナ容器内に設置し、真空炉にて加熱
処理(700℃、15分間)して接合した。
(d)ロウ付けの結果について
上記のようにして得られた接合物は、強固に接合されて
おり、しかもロウ材も十分に流動していることが確認さ
れた。
おり、しかもロウ材も十分に流動していることが確認さ
れた。
また、X線マイクロアナライザにて接合部の断面を観察
すると、Au、Inの拡散層によって、Biの界面への
析出は防止され、安定したロウ付け接合層が形成されて
いることが確認された。
すると、Au、Inの拡散層によって、Biの界面への
析出は防止され、安定したロウ付け接合層が形成されて
いることが確認された。
(比較実験例)
比較のために一般的に知られている、63Ag27Cu
−1Ornoつ材、Cu −M n −N i系ロウ材
を用い、温度条件を前者は800℃、後者は950℃と
し、且つ他の条件は上記実験と同様にしてロウ付けを試
みたが剥離し、ロウ付けができなかった。
−1Ornoつ材、Cu −M n −N i系ロウ材
を用い、温度条件を前者は800℃、後者は950℃と
し、且つ他の条件は上記実験と同様にしてロウ付けを試
みたが剥離し、ロウ付けができなかった。
(一実施例)
上述の結果からAu−Inを含有するロウ材であれば低
融点金属を含有するCu(銅)部材を直接接合しても十
分な接合強度が得られることが判ったので、このロウ材
を用いて第1図に示す真空インタラプタを構成した。
融点金属を含有するCu(銅)部材を直接接合しても十
分な接合強度が得られることが判ったので、このロウ材
を用いて第1図に示す真空インタラプタを構成した。
すなわち、第1図に示す真空インクラブタを構成するに
際して、まず第2図(a)に示す固定側部材1、及び第
2図(b)に示す可動側部材2を各々前工程で形成する
。
際して、まず第2図(a)に示す固定側部材1、及び第
2図(b)に示す可動側部材2を各々前工程で形成する
。
固定側部材1は、Cu(銅)からなる同定側端板13、
Cuからなるリード棒12、Cuからなる排気管14、
からなるもので、これらの各部材の間に、Cu −M
n −N iロウ材を配置して仮組立し、非酸化性雰囲
気中(真空中)にて約980℃の温度に加熱して接合形
成する。
Cuからなるリード棒12、Cuからなる排気管14、
からなるもので、これらの各部材の間に、Cu −M
n −N iロウ材を配置して仮組立し、非酸化性雰囲
気中(真空中)にて約980℃の温度に加熱して接合形
成する。
また、可動側部材2は、Cuからなる固定側端板23、
Cuからなルリート棒22、SUS C7゜テンレス@
)製のベローズ24からなるもので、これらの各部材間
に、Cu−Mn−Niロウ材を配置して仮組立し、非酸
化性雰囲気中(真空中)にて約1000℃の温度に加熱
して接合形成する。
Cuからなルリート棒22、SUS C7゜テンレス@
)製のベローズ24からなるもので、これらの各部材間
に、Cu−Mn−Niロウ材を配置して仮組立し、非酸
化性雰囲気中(真空中)にて約1000℃の温度に加熱
して接合形成する。
上述のように予め形成した固定側部材lと可動側部材2
とは、第1図に示すように、各リード棒12.22の内
端部にロウ材43.44(板状ロウ材)を介して、電極
(Cuが50重量%、Crが40重量%、Biが10重
量%の成分)を設けて仮組立する。また、両端部にCu
(銅)からなる補助部材131,231を備えた絶縁筒
3に各々ロウ材42.47(板状ロウ材)を介して仮組
立する。これらロウ材42,43,44.47は、77
.6Cu−5,7Ni−7P−9,7Sn(重量%)の
アモルファス質のロウ材であり、非酸化性雰囲気中(真
空)にて前述の電極ロウ材は温度より低い温度の約70
0℃でロウ付け接合して所定の真空インタラプタを一体
化構成すると共に加熱排気して所望の真空インタラプタ
を得る。
とは、第1図に示すように、各リード棒12.22の内
端部にロウ材43.44(板状ロウ材)を介して、電極
(Cuが50重量%、Crが40重量%、Biが10重
量%の成分)を設けて仮組立する。また、両端部にCu
(銅)からなる補助部材131,231を備えた絶縁筒
3に各々ロウ材42.47(板状ロウ材)を介して仮組
立する。これらロウ材42,43,44.47は、77
.6Cu−5,7Ni−7P−9,7Sn(重量%)の
アモルファス質のロウ材であり、非酸化性雰囲気中(真
空)にて前述の電極ロウ材は温度より低い温度の約70
0℃でロウ付け接合して所定の真空インタラプタを一体
化構成すると共に加熱排気して所望の真空インタラプタ
を得る。
このようにして形成した真空インタラプタにおける電極
11.21とリード棒12.22との接合、及び端板1
3.23と補助金具131,231とは強固に接合され
ている。特に端板13.23と補助金具131,231
との接合部は、ヘリウム・リークデテクターにより調査
した結果リークの全く無いことか確認できた。
11.21とリード棒12.22との接合、及び端板1
3.23と補助金具131,231とは強固に接合され
ている。特に端板13.23と補助金具131,231
との接合部は、ヘリウム・リークデテクターにより調査
した結果リークの全く無いことか確認できた。
なお、ベローズ及び端板とリード棒との間に従来から一
般的に使用しているCu−Mn−Niのロウ材を使用し
たのは、本発明で適用したCu −N i −P−8n
のアモルファス質のロウ材ではロウ付け特性が安定して
いないことによるものであり、後工程でのロウ付け温度
が低(低融点金属の蒸発飛散がほとんどなく、このロウ
材の部分がBiの悪影響を受けることはほとんど無いか
らである。
般的に使用しているCu−Mn−Niのロウ材を使用し
たのは、本発明で適用したCu −N i −P−8n
のアモルファス質のロウ材ではロウ付け特性が安定して
いないことによるものであり、後工程でのロウ付け温度
が低(低融点金属の蒸発飛散がほとんどなく、このロウ
材の部分がBiの悪影響を受けることはほとんど無いか
らである。
H0発明の効果
本発明によるロウ材は、Cu−N1−P−5nのアモル
ファス質のロウ材であることから、ロウ材は加熱温度を
700℃以下で行うことができるので、低融点金属の蒸
発飛散を効果的に防止でき、これによってロウ材は部に
低融点金属の侵入がなくなる。しかも、ロウ材は部にC
u−N1−P−Snの拡散層が形成されるので、この拡
散層が低融点金属の接合界面への侵入を抑制できること
から、低融点金属を含有(0,1〜20重量%)する電
極を備えた真空インタラプタにおいても気密シール接合
を確実且つ安定なものにできる。
ファス質のロウ材であることから、ロウ材は加熱温度を
700℃以下で行うことができるので、低融点金属の蒸
発飛散を効果的に防止でき、これによってロウ材は部に
低融点金属の侵入がなくなる。しかも、ロウ材は部にC
u−N1−P−Snの拡散層が形成されるので、この拡
散層が低融点金属の接合界面への侵入を抑制できること
から、低融点金属を含有(0,1〜20重量%)する電
極を備えた真空インタラプタにおいても気密シール接合
を確実且つ安定なものにできる。
また、ロウ材は温度が約700℃以下の比較的低い温度
のロウ材であるから、接合部材及び他の構成部材に与え
る熱的影響を軽減することができる。
のロウ材であるから、接合部材及び他の構成部材に与え
る熱的影響を軽減することができる。
従って、真空インタラプタにおける信頼性、耐久性の向
上が図れ、品質向上に寄与できるものである。
上が図れ、品質向上に寄与できるものである。
第1図は、本発明の一実施例における真空インクラブタ
の概略構成図、第2図(a)、(b)は、第1図におけ
る真空インタラプタの部分組立図、第3図は、加熱温度
と重量減少率との関係図、第4図は、従来の真空インタ
ラプタの概略構成図である。 1・・・固定側部材、2・・・可動側部材、11・・・
固定電極、12・・・リード棒、13・・・固定側端板
、21・・・可動電極、22・・・リード棒、23・・
・可動側端板、131・・・補助部材、231・・・補
助部材。 第1wJ 叡施NjIめ鐵略璃八゛図 第2図(a) 郷#1IIliL圀 第2図(b) 部分組立口 第4図 毅永めX区インタウブタn歳略填成口
の概略構成図、第2図(a)、(b)は、第1図におけ
る真空インタラプタの部分組立図、第3図は、加熱温度
と重量減少率との関係図、第4図は、従来の真空インタ
ラプタの概略構成図である。 1・・・固定側部材、2・・・可動側部材、11・・・
固定電極、12・・・リード棒、13・・・固定側端板
、21・・・可動電極、22・・・リード棒、23・・
・可動側端板、131・・・補助部材、231・・・補
助部材。 第1wJ 叡施NjIめ鐵略璃八゛図 第2図(a) 郷#1IIliL圀 第2図(b) 部分組立口 第4図 毅永めX区インタウブタn歳略填成口
Claims (2)
- (1)少なくともリード棒と端板を備えた固定側部材と
、少なくともリード棒とベローズとを備えた可動側部材
と、これらの部材の端板が気密接合される絶縁筒と、各
リード棒の内端に設けた電極とを主要な構成部材とした
真空インタラプタの製造方法において、 前記固定側部材、及び可動側部材を予め形成する第1工
程と、 形成した固定側部材および可動側部材と絶縁筒とのロウ
付け気密接合、及び各リード棒の内端に電極をロウ付け
接合して真空インタラプタを組み立てると共に真空中に
て加熱排気して真空インタラプタを得る第2工程とから
なり、 前記電極は低融点金属を含有する材料で形成し、前記第
2工程におけるロウ付け部分となる部材の少なくとも端
部を銅を主成分とする材料で形成し、 前記第2工程における少なくとも気密接合部にCuとN
iとPとSnとからなるアモルファス質のロウ材を用い
、且つロウ付け加熱温度を700℃以下としたことを特
徴とする真空インタラプタの製造方法。 - (2)第1工程で電極の少なくとも一方をリード棒内端
にロウ付けすることを特徴とする請求項1項に記載の真
空インタラプタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10267990A JPH042020A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 真空インタラプタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10267990A JPH042020A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 真空インタラプタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH042020A true JPH042020A (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=14333923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10267990A Pending JPH042020A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 真空インタラプタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH042020A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7300722B2 (en) | 2005-04-11 | 2007-11-27 | The Gillette Company | Lithium battery containing bismuth metal oxide |
| US7407726B2 (en) | 2003-09-16 | 2008-08-05 | The Gillette Company | Primary alkaline battery containing bismuth metal oxide |
| US7537863B2 (en) | 2003-09-16 | 2009-05-26 | The Gillette Company | Primary alkaline battery containing bismuth metal oxide |
| US7972726B2 (en) | 2006-07-10 | 2011-07-05 | The Gillette Company | Primary alkaline battery containing bismuth metal oxide |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10267990A patent/JPH042020A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7407726B2 (en) | 2003-09-16 | 2008-08-05 | The Gillette Company | Primary alkaline battery containing bismuth metal oxide |
| US7537863B2 (en) | 2003-09-16 | 2009-05-26 | The Gillette Company | Primary alkaline battery containing bismuth metal oxide |
| US7300722B2 (en) | 2005-04-11 | 2007-11-27 | The Gillette Company | Lithium battery containing bismuth metal oxide |
| US7972726B2 (en) | 2006-07-10 | 2011-07-05 | The Gillette Company | Primary alkaline battery containing bismuth metal oxide |
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