JPH042019A - 真空インタラプタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ａ　産業上の利用分野 本発明は、真空インタラプタの製造方法に係り、特に電
極が低融点金属を含有している真空インクラブタの製造
方法に関したものである。

Ｂ８発明の概要 本発明は、電極が低融点金属を含有している真空インタ
ラプタの最後の組立段階における気密ロウ材は接合部に
ＣｕとＮｉとＰとＳｎとからなるアモルファス質のロウ
材を用い、且つロウ付け加熱温度を７００℃以下にして
組み立てた後に真空引きすることにより、ロウ付け強度
、気密接合の向上を図ったものである。

Ｃ１従来の技術 第４図は、この種真空インタラプタの従来の概略構成図
である。

図中において、１は固定側部材であり、固定電極１１を
内端に具備するリード棒１２と、固定側端板】３とを主
要な部材として構成している。２は可動側部材であり、
可動電極２１を内端に具備するリード棒２２と、可動側
端板２３と、ベローズ２４とを主要な部材として構成し
ている。３はセラミックス等の部材からなる絶縁筒であ
り、３１は絶縁筒の内側に設けた金属シールドである。

このように構成した真空インタラプタは、可動電極２１
を図中で上下方向に可動することにより電流の開閉を行
うものである。

このような構成からなる真空インタラプタの製造は、一
般には次のような手段により製造されている。

■　第４図のように構成各部材の接合部に、板ロウ、線
ロウからなるロウ材４１〜４７を配置して仮組立し、こ
れを真空炉に入れて加熱排気とロウ付けを同時に行って
真空インクラブタを一括して製造する。

■　第４図のように構成各部材の接合部に、板ロウ、線
ロウからなるロウ材４１〜４７を配置して仮組立し、こ
れを非酸化性雰囲気中（例えば水素雰囲気）でロウ付け
を行い、その後図示省略の排気管を介して大気中にて加
熱排気して真空インタラプタを製造する。

■　固定側部材１と可動側部材２とを予め前工程で製造
しておき、そして、絶縁筒３との闇にロウ材４２．４７
を介在させて、真空中でロウ付けする。または、ロウ付
け後に真空引きして真空インタラプタを製造する。

なお、前記■、■の場合には各所に同じロウ材（例えば
Ｃｕ系のロウ材）を配置し、■の場合には溶融点の異な
るロウ材（例えばＣｕ系とＡｇ系）を使用するのが一般
的である。

Ｄ　発明が解決しようとする課題 従来、真空インタラプタに要求される種々の特性を満た
すために電極−に低融点金属、例えばＢｉ（ビスマス）
を、０．１〜２０重量％含有することが一般的に行われ
ている。

しかし、電極がこのような低融点金属を含有している場
合には、ロウ付け時の温度（７００〜１ＯＯＯ℃）にて
電極より低融点金属の一部が蒸発することが知られてい
る。この蒸発した金属は、真空容器内部材に付着するば
かりか、その一部は溶融しているロウ村山に侵入してロ
ウ付け接合に悪影響を及ぼす問題がある。

このような弊害の程度は、低融点金属の含有量との関係
もあるが、特に問題となるのは気密シール接合部である
。

つまり、機械的な接合強度は十分であったとしても気密
シール接合としては不十分なものとなってしまうおそれ
があるからである。

このような気密シール接合部きしては、肪述の第４図に
おける４１，４２，４５，４６．４７のロウ材の部位が
各々該当する箇所であり、■　真空炉中で一括組立する
場合には、これらのロウ材の箇所全部が該当する。しか
も、真空中で一括ロウ付けの場合には、高温加熱状態で
真空インクラブタ内が完全密閉となることから、蒸発し
たＢ１が内部にこもりやすく、気密接合特性を一層悪化
させやすい問題がある。

■　前工程で固定側、可動側部材を予め製作しておき次
工程で一体化する場合には、４２．４７のロウ材の箇所
が該当する。

８０課題を解決するための手段 発明者らは、種々の実験を行った結果、■　まず低融点
金属（例えばＢｉ）を含有する金属におけるＢ１の蒸発
飛散が活発となる温度に着目した。

第３図は、５０Ｃｕ−４０Ｃｒ−１０Ｂｉ　（重量％）
の組成からなる金属部材において、加熱温度（横軸）と
重量減少率（縦軸）との関係を不活性雰囲気（真空中）
で調べたものである。

この図から、温度７００℃辺りから急激に重量が減少す
る、つまりＢｉの蒸発飛散が７００℃辺りから活発とな
ることが判った。換言すれば７００℃以下の温度でロウ
付けすれば、Ｂｉの蒸発飛散はほとんどなく、悪影響は
ないことが判った。

■　上記■のことから７００℃以下の温度でロウ付けで
きるロウ材として、ＣｕとＮｉとＰとＳｎとからなり且
つアモルファス質で形成すれば、安定にロウ付け□接合
できることを見い出した。

ＣｕとＮｉとＰとＳｎとからなり且つアモルファス質で
ロウ材を形成すれば、Ｂｉの蒸発飛散のない７００℃以
下の温度でロウ付けできるばかりでなく、ロウ付け部に
Ｃｕ−Ｎｊ−Ｐ−８ｎの拡散層が存在し、これによって
低融点金属の接合界面への侵入を抑制でき、安定にロウ
付けできることが判った。

■　更には、真空中で真空インタラプタを一括して製造
するのではなく、ロウ付け接合した後に真空排気（真空
引き）して製造すれば一層気密ソール接合特性が安定で
あることが判った。

従って、本発明は、例えば低融点金属を含有していても
これの悪影響を受けないロウ材とロウ付け方法を提供す
るものであり、 （１）’ＣｕとＮｉとＰとＳｎとからなるアモルファス
質のロウ材であって、Ｃｕを７７〜８０重量％、Ｎｉを
３８〜５３重量％、Ｐを７〜８重量％、Ｓ、ｎを４〜１
０重量％で形成したロウ材。

（２）そして、６３０℃以上の温度で且つ低融点金属を
含有する金属部材におけるこの低融点金属の蒸発飛散が
活発とならない７００℃以下の温度にてロウ付けする方
法である。

しかして、Ｃｕ　Ｎ　Ｎ　ｌ　％　Ｐ　、Ｓ　ｎの割合
、また温度が上記の関係より外れる場合には安定したロ
ウ付け接合を得ることが出来なかった。

なお、 （１）低融点金属としては、例えば、Ｂｉ（ビスマス）
、Ｓｂ（アンチモン）等の低融点金属として良く知られ
ている金属が該当する。

（２）低融点金属を含有する金属としては、銅。

銅合金、銀、銀合金９等の導電性に富む金属が該当する
。

（３）真空インタラプタの一体化としては、■　固定側
部材、可動側部材を各々形成しておき、これらと絶縁筒
とを一体化する場合。

■　固定側部材、可動側部材の一方と絶縁筒とを予め一
体化し、その後全体を一体化する場合。

の何れかが該当する。

（４）電極は、前工程で予めリード棒にロウ付けしても
良い。また低融点金属の含有量が少ない電極とり−ド棒
との接合の場合は本発明で用いたＩｎを含有したロウ材
でなく、従来−船釣に使用されているＣｕ−Ｍｎ−Ｎｉ
等のロウ材であっても差し支えない。ただし、本発明で
使用したＩｎを含有したロウ材を用いるのが望ましい。

（５）本発明においては、接合部がＣｕであれば良く、
部材全体がＣｕ、またはＣｕを主成分とする材料である
必要はない。

Ｆ１作用 ロウ付け温度は約７００℃以下で良いことから低融点金
属の飛散は少なく、またロウ付け時には真空インタラプ
タ内は完全密閉ではないので、蒸発した低融点金属が真
空インタラプタの内部にこもることは減少する。しかも
ロウ付け接合部にＣｕ−Ｎ１−Ｐ−５ｎの拡散層が存在
することで低融点金属の接合界面への侵入を抑制でき、
低融点金属を含有する電極を備えた真空インタラプタの
気密シール接合を確実に且つ信頼性の高いものにてきる
。

Ｇ、実施例 本発明を以下の実施例に基づいて詳細に説明する。

まずロウ材の特性について調べた実験結果を説明する。

（実験例） Ｃｕが５０重量％、Ｏｒが４０重量％、Ｂｉが１０重量
％の成分からなる、低融点金属含有の金属部材と無酸素
銅との接合例である。

（ａ）低融点金属を含有した部材について１００メツシ
ユの粒径のＣｒ（−クロム）粉末を、アルミナ容器（内
径６８ｍｍ）に約１６０ｇ入れ、このＣｒ粉末上にＣｕ
−Ｂ１合金（約４００ｇ）を載置し、容器に蓋をかぶせ
、これを真空炉内にで脱ガスと共にＣｕ−Ｂ１合金の融
点以下の温度で加熱処理して、まずＣｒ粒子を拡散結合
させて多孔質の溶浸母材を形成する。

その後温度を上げて、Ｃｕ、Ｂｉを溶浸母材に溶浸させ
る。

この際にアルミナ容器内は、Ｂｉ蒸気を含んだ雰囲気と
なり、Ｂｉを多量に含有した複合金属が得られる。

こうして得られた金属材料を、容器から取り出し、外面
を機械加工して所定の寸法形状にする。

（ｂ）ロウ材について ７７．６Ｃｕ−５，７Ｎｉ−７Ｐ−９，７Ｓｎ（重量％
）のアモルファス質のロウ材を用意する。

（ｃ）ロウ付けについて 上記ロウ材（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｐ−５ｎ）を、耐記Ｃｕ−Ｃ
ｒ−Ｂ１合金部材と、無酸素銅からなる部材との間に入
れ、これらをアルミナ容器内に設置し、真空炉にて加熱
処理（７００℃、１５分間）して接合した。

（ｄ）ロウ付けの結果について 上記のようにして得られた接合物は、強固に接合されて
おり、しかもロウ材も十分に流動していることが確認さ
れた。

また、Ｘ線マイクロアナライザにて接合部の断面を観察
すると、Ａｇ、Ｃｕ、Ｉｎの拡散層によって、Ｂｉの界
面への析出は防止され、安定したロウ付け接合層が形成
されていることが確認された。

（比較実験例） 比較のために一般的に知られている、６３Ａｇ２７Ｃｕ
−１０Ｉｎｏつ材、Ｃｕ　−Ｍｎ−Ｎｉ系ロウ材を用い
、温度条件を前者は８０ｏ℃、後者は９５０℃とし、且
つ他の条件は上記実験例と同様にしてロウ付けを試みた
がいずれも剥離し、ロウ付けができなかった。

（一実施例） 上述の結果からＣｕ−Ｎ１−Ｐ−Ｓｎのアモルファス質
のロウ材であれば低融点金属を含有するＣｕ（銅）部材
を直接接合しても十分な接合強度が得られることが判っ
たので、このロウ材を用いて第１図に示す真空インタラ
プタを構成した。

すなわち、第１図に示す真空インタラプタを構成するに
際して、まず第２図（ａ）に示す固定側部材１１及び第
２図（ｂ）に示す可動側部材２を各々前工程で形成する
。

固定側部材ｌは、Ｃｕ（銅）からなる固定側端板１３、
Ｃｕからなるリード棒１２、Ｃｕからなる排気管１４か
らなるもので、これらの各部材の間に、ロウ材（板状ロ
ウ材、線状ａつ材）を配置して仮組立し、非酸化性雰囲
気中（真空中）にて約１０００℃の温度に加熱して接合
形成する。

また、可動側部材２は、Ｃｕからなる固定側端板２３、
Ｃｕからなるリード棒２２．５ＵＳ（ステンレス鯛）か
らなるベローズ２４からなるもので、これら各部材間に
、ロウ材を配置して仮組立し、非酸化性雰囲気中（真空
中）にて約１０００℃の温度に加熱して接合形成する。

なお、上記ロウ材は、−船釣なＣｕ　−Ｍ　ｎＮｉロウ
材を使用した。

上述のように予め形成した固定側部材１と可動側部材２
とは、第１図に示すように、各リード棒１２．２２の内
端部にロウ材４３．４４　（板状ロウ材）を介して、電
極（Ｃｕが５０重量％、Ｃｒが４０重量％、Ｂｉが１０
重量％の成分）を設けて仮組立する。また、両端部にＣ
ｕ（銅）からなる補助部材１３１，２３１を備えた絶縁
筒３に各々ロウ材４２．４７（板状ロウ材）を介して仮
組立する。これらロウ材４２．４３．４４．４７は、７
７．６Ｃｕ−５，７Ｎｉ−７Ｐ−９，７Ｓｎ（重量％）
のアモルファス質であり、非酸化性雰囲気中（真空）に
て前工程のロウ材は温度より低い温度の約７００℃でロ
ウ材は接合して所定の真空インタラプタを一体化構成し
、その後、加熱すると共に排気管１４を介して真空引き
して排気し、排気管１４をピンチオフすることにより所
望の真空インタラプタを得る。

このようにして形成した真空インタラプタにおける端板
１３，２３と補助金具１３１，２３１とは強固に接合さ
れ、ヘリウム・リークデテクターにより調査した結果リ
ークの全く無いことが確認できた。

Ｈ０発明の効果 本発明によるロウ材は、ＣｕとＮｉとＰとＳｎからなり
且つアモルファス質であるから、ロウ材は加熱温度を７
００℃以下で行うことができるので、低融点金属の蒸発
飛散を効果的に防止でき、これによってロウ材は部に低
融点金属の侵入がなくなる。しかも、ロウ材は部にＣｕ
−Ｎ１−ＰＳｎの拡散層が形成されるので、この拡散層
が低融点金属の接合界面への侵入を抑制できることから
、低融点金属を含有（０，１〜２０重量％）する電極を
備えた真空インタラプタにおいても気密シール接合を確
実且つ安定なものにできる。

また、ロウ材は温度が約７００℃以下の比較的低い温度
のロウ材であるから、接合部材及び他の構成部材に与え
る熱的影響を軽減することができる。

更には、真空インタラプタをロウ材は一体化した後に排
気管を介して真空引きして所望の真空インタラブタを得
るので、ロウ付け時には真空インタラプタ構成部材内は
、完全密閉体ではないので、蒸発したＢｉ等の金属が内
部にこもることは減少し、気密シール接合を一層確実で
安定なものにできる。

従って、真空インタラプタにおける信頼性、耐久性の向
上が図れ、品質向上に寄与できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例における真空インクラブタ
の概略構成図、第２図（ａ）、（ｂ）は、第１図におけ
る真空インタラプタの部分組立図、第３図は、加熱温度
と重量減少率との関係図、第４図は、従来の真空インタ
ラプタの概略構成図である。 １・・・固定側部材、２・・・可動側部材、１１・・・
固定電極、１２・・・リード棒、１３・・・固定側端板
、１４・排気管、２１・・可動電極、２２・・・リード
棒、２３・・・可動側端板、１３１−・・補助部材、２
３１・・・補助部材。 第１図 ヂ施網の１１■４１６゛田 第２図（ａ） 節分＃ｆｌユ圀 郡今岨ｆＬ図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくともリード棒と端板とを備えた固定側部材
   と、少なくともリード棒とベローズとを備えた可動側部
   材と、これらの部材の端板が気密接合される絶縁筒と、
   各リード棒の内端に設けた電極とを主要な構成部材とし
   た真空インタラプタの製造方法において、 前記固定側部材、及び可動側部材を形成する第１工程と
   、 形成した固定側部材及び可動側部材と絶縁筒とのロウ付
   け気密接合、及び各リード棒の内端に電極をロウ付け接
   合して真空インタラプタを組み立てる第２工程と、 組み立てた真空インタラプタ内を真空排気して真空イン
   タラプタを得る第３工程とからなり、前記電極は低融点
   金属を含有する材料で形成し、前記第２工程におけるロ
   ウ付け部分となる部材の少なくとも端部を銅材で形成し
   、 前記第２工程における少なくとも気密接合部にＣｕとＮ
   ｉとＰとＳｎとからなるアモルファス質のロウ材を用い
   、且つロウ付け加熱温度を７００℃以下としたことを特
   徴とする真空インタラプタの製造方法。
2. （２）第１工程で電極の少なくとも一方をリード棒内端
   にロウ付けすることを特徴とする請求項１項に記載の真
   空インタラプタの製造方法。
3. （３）少なくともリード棒と端板とを備えた固定側部材
   と、少なくともリード棒とベローズとを備えた可動側部
   材と、これらの部材の端板が気密接合される絶縁筒と、
   各リード棒の内端に設けた電極とを主要な構成部材とし
   た真空インタラプタの製造方法において、 前記固定側部材または可動側部材の何れか一方の部材を
   形成する第１工程と、 固定側部材または可動側部材の何れか他方の部材を絶縁
   筒の一方の端部にロウ付け気密接合する第２工程と、 前記第１工程で得た部材と絶縁筒の他方の端部とのロウ
   付け気密接合、及び各リード棒の内端に電極をロウ付け
   接合して真空インタラプタを構成する第３工程と、 組み立てた真空インタラプタの真空容器内を真空排気し
   て真空インタラプタを得る第４工程とからなり、 前記電極は低融点金属を含有する材料で形成し、前記第
   ３工程におけるロウ付け部分となる部材の少なくとも端
   部を銅材で形成し、 前記第３工程における少なくとも気密接合部にＣｕとＮ
   ｉとＰとＳｎとからなるアモルファス質のロウ材を用い
   、且つロウ付け加熱温度を７００℃以下としたことを特
   徴とする真空インタラプタの製造方法。
4. （４）第１工程及び第２工程で電極の少なくとも一方を
   リード棒内端にロウ付けすることを特徴とする請求項３
   項に記載の真空インタラプタの製造方法。