JPH04204656A - ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法 - Google Patents
ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
子において色分解のために使用されるフィルターを形成
するためのネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラー
フィルターの作成方法に関する。
色分解フィルター(以下、カラーフィルターと称する)
は、現在フォトグイオードとの貼り合せ法と直接フォト
ダイオード上に形成するオンチップ法として実用化が進
められている。
はとんどが10mmm息角で赤・緑・青(R,G、E)
あるいは補色の3色画素数が1゜万以上でフォトリソグ
ラフィーを使用して製造゛する。
質に重クロム酸アンモンにより感光性を付与した水溶性
感光液を塗布乾燥し、その塗膜に紫外線を照射してパタ
ーン露光し、未露光部を水で溶出してドツトを形成し、
形成されたドツトを水溶性染料で染色してカラーフィル
ターを製造している。
晶デイスプレー(LCD)用カラーフィルターである。
あるのが普通である。駆動方式としては、TFT、MI
M、STNがあるが、その製造プロセス及びパネルが大
サイズになったために、これに使用するカラーフィルタ
ーに耐熱性、耐光性、耐溶剤性等、従来以上の特性が要
求されるようになった。
料分散法、印刷法、電着性、干渉法、電着転写法等が開
発され一部で実用化されつつある。
る感光性樹脂としては、カゼイン、ゼラチン、フィッシ
ュグルー等の天然蛋白質に重クロム酸アンモン、重クロ
ム酸セリウム、重クロム酸ナトリウム等の重クロム酸塩
を添加したものが用いられている。これらの組成物は、
天然高分子を主成分とするもので、染色に係わりを持つ
アミン基等の官能基濃度や分子量分布はメーカーの努力
によりそれなりに安定しつつあるが、長期保存による腐
敗及び光硬化剤として人体に有害なりロム化合物を用い
る等の欠点を有している。また数十ppmものアルカリ
金属元素(Na、 Ca、 K等)を含有しており、こ
れらのアルカリ金属イオンが拡散するために保護膜によ
るパシベーションはしているものの固体搬像素子の暗時
電圧上昇の経時劣化の原因の一つになっていると考えら
れている。
し水現象によるパターン露光グは、溶剤による毒性、臭
、引火性の心配がないという利点も従来の半導体製造ラ
インにない利点を与えている。
が提案されている。
エチルメタアクリレートとN、N−ジメチルアミノプロ
ピルメタクリレートやそのメチルクロライド等の窒素含
有アクリル酸エステルを用いた共重合体に光架橋剤とし
てジアゾ化合物やアジド化合物を添加した感光性組成物
が記載されている。2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト50%、ジメチルアミノプロピルメタクリレート40
%、メタクリルアミド10%から成る共重合体は、全て
の官能基が大きな親水性を有することから、露光現象し
て形成したレリーフパターンは丸みを帯び、5μ以下の
ラインとスペースを埋めてしまい解像できない。又ジメ
チルアミノプロピルメタクリレートを少(して′いくと
多少丸みはなくなってくるが、本質的に丸みを解消する
ことはできず、更に平均分子量を上げたりして解像力向
上を試みたが、2−ヒドロキシエチルメタクリレートに
よるゲル分が多くなり濾過性が悪くなるばかりで解像力
の向上はそれ程望めなかった。
ロヘキサン中に投入して共重合体を分離乾燥することに
よって得るが、親水性が大きいために乾燥中に水素結合
がおき、一部脱水反応をおこして架橋が起きるためか水
不溶性になることが多い。又、酢酸添加による感光液の
調整及び酢酸水による現象は室内を酢酸臭にしてしまう
。
メタクリル酸アンモン、アクリル酸エチル、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート共重合体にグリシジルメタクリ
レートを付加した水溶性不飽和重合体6部、アントラキ
ノン−β−スルホン酸ソーダ0.4部、4,4′−ジア
ジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ソータ0.0
5部、トリメチルホスフィン0.06部を水94部に溶
解して水溶性感光液を調整している。この感光液を基板
に塗布し、ネガフィルムを密着させて紫外111g光後
、木のみで未露光部を溶出して現像することが記載され
ている。これによれば、六価クロムによる環境汚染はな
くなるが、カラーフィルターの染色液に使用している酸
性染料水溶液に染色し難い。又、感光剤による架橋不足
のため10μのラインアンドスペースが現像での流れだ
しで埋まってしまう。
ン15gと3−メタクリルオキシプロピルトリメチルア
ンモニウムクロライド77゜5gから成る共重合体、4
4′−ジアジドスチルベン2,2′−ジスルホン酸0,
9gを水100+nj2にとかしたものを染色性を有す
る感光性組成物とし基板上に0.5μの膜厚に塗布し、
130°C50分の熱処理を行った。その後所定のマ
スクを介して紫外線照射を行い、水で現像してpH7,
Qの酸性染料水で染色してカラーフィルターを作成する
ことが記載されている。膜薄で染色浴によく染まるが、
染まり過ぎてイエロー、シアン、マセンダの色のコント
ロールがしにくい。又ビニルとロリドンと3−メタクリ
ルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドが
ら成る共重合体とアジド化合物の組み合せでは水に溶は
易く解像性がない、又アジド化合物の添加量が多いので
、200℃の加熱の際発色して可視部での光透過率を低
下させてしまい実用的なカラーフィルタ゛−を作ること
はできない。
、重合度2(100の部分ケン化ポリビニルアルコール
にスチルベンゼンスルホン酸アンモニウム塩を2モル%
導入したレジストを水で溶解して5%のレジスト溶液を
調整した後固体撮像素子や透明支持層上にスピン塗布し
て厚さ1.0μのレジスト膜を形成し、マスクを介して
紫外線露光し、純水中に30秒浸漬して現像してパター
ンニングした後、塩基性染料浴で60℃で染色してカラ
ーフィルターを作成することが記載されている。
耐熱性が悪く、 180〜200℃まで加熱すると可視
部の光透過率が70%以下に低下してしまう。
−ピロリジノン30.0 g、2−ヒドロキシ−3−メ
タクリルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロラ
イドIO,[1g、メククリル酸メチル15.0gから
成る共重合体1gと4゜4′−ジアジドスチルベン−2
,2′−ジスルホン酸ナトリウム5mgを水にとかして
感光性樹脂溶液を調整し、透明な基板上に塗布してマス
クを介して紫外線露光(4,5mw/cmz X 5秒
)し、未露光部を水で現像してパターンを形成している
。次に、スミノールミーリングレッドG1.0%と酢酸
2.0%の水溶性染色浴に25℃4分間浸漬して赤色フ
ィルタ一部を形成し、上部に中間膜であるメチルメタア
クリレートポリマーをスピンナー塗布し、再び上記感光
性樹脂溶液を塗布しパターンユング後、スミノールミー
リング、ブリリアントグリーン6G2%、酢酸2.0%
の水溶性染色浴に25℃6分浸漬して緑色フィルタ一部
を形成し、更に上記操作をくりがえして青色フィルタ一
部を形成してオンチップの色分解フィルタを作成するこ
とが記載されているが、染色が室温でできるため色濃度
のコントロールがし難く又、染色部が膨潤し易いためク
ラックが発生し易い。又、水現像でのレリーフが丸みを
帯び3μmのラインアンドスペースを解像できない。
33148号公報にはスチルバゾリウム基を有するポリ
ビニルアルコールを着色感光性樹脂組成物のバインダー
に使用しているが耐熱性がなく180〜200℃の加熱
で可視部の光透過率が低下してしまう。
とジアセトンアクリルアミド(例えば、N−(1,1−
ジメチル−3−オキツブチル)アクリルアミドの共重合
体にジアゾ樹脂を2〜10%添加した感光液が開示され
ているが、製版、印刷、製図分野に用いるために開示さ
れたものであるため10μ以下の高解像性を要求するカ
ラーフィルターの作成には適さない。また染料の種類に
よっては高濃度に染色できないという問題があるため特
開平1−282504号公報では、平均分子量11万の
アクリルアミドとN−(1,1−ジメチル−3−オキソ
ブチル)アクリルアミド(モル比5:1)共重合体にジ
アゾ樹脂を水溶性高分子に対して10%以上混入して3
μ以下の解像度をだしているが、染色濃度がでないため
にパターン形成後無水クロム酸水溶液に浸漬したのち水
溶性染料で染色することが記載されている。ジアゾ樹脂
を水溶性高分子に対して10%以上混入することは18
0〜200°Cの加熱の際可視部の光透過率が低下し良
好なカラーフィルターを作成することはできない。
83339号、特開平2−138802号、特開平1−
200353号、特開平1−128064号、特開平2
−96704号、特開昭62−209503号公報等多
数公開されている。これらには、染色基をもった共重合
体とアジド化合物を有機溶剤に溶解してカラーフィルタ
ー用感光性組成物を調整し、基板上に塗布してマスクを
介して紫外線露光し、未露光部を有機溶剤又は水を主成
分とする現像液で現像してパターンニングした後、水溶
性染料で染色してカラーフィルターを作成することが記
載されている。有機溶剤の毒性、臭、引火性が問題にな
るのは勿論であるが、このような有機溶剤を含む現像液
を使用すれば感光層の膨潤も大きくなり、今だに3μ以
下の解像度が得にくいのが実状である。
モンで感光性を付与した水溶性感光液は解像力が良好で
ある。カゼインにいたってはi 1Bステツパーを用い
れば2μのラインアンドスペースは解像することができ
るようになってきた6染色性にいたっては訓れのせいも
あるがこの様な天然蛋白質に適合した染料も見つかり、
現在カラーフィルターの生産の主流になっている。
によって分解されやすく、また微生物の分泌する蛋白分
解酵素あるいは老廃物によって変質しやすい。さらにゼ
ラチン、カゼインなどの弱アルカリ性コロイド溶液は、
保存中にコロイドの凝集が起りやすく不安定であるが、
冷蔵庫中に保存して使用時濾過することによりこの凝集
物を取り除けば問題が解決することも判明しつつある。
リウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅
等の金属類が含まれており、これらを除去することは非
常に困難であったがメーカーの努力によりそれなりに少
くなりつつあるが完全に除去することは至難の術である
。パシベーションはしているものの半導体の生産現場に
おいて、固体擬像素子や液晶デイスプレーに用いた場合
には固体搬像素子や液晶中にこれらの金属類が拡散し、
誤動作や故障の原因になると疑われ易い。
ーの努力によりそれなりに使い易くなってきつつある。
されつつあるが、六価クロムの有害性が消滅したわけで
なく、又半導体の生産現場に金属等を含む感光液をもち
込むことそれ自体がイメージダウンにつながっている。
を重ねた結果、水溶性ジアゾ樹脂と重量平均分子量が5
000〜IO万の範囲の次の一般式: (式中、R1は水素原子又はCH,を示し、R2及びR
3は互いに独立してCH3、C2H5,C6H*等のア
ルキル基又はアリル基を示し、nは1〜10を示す。)
で示される染色基を担当するアクリル系単量体5〜20
%(仕込重量%)、2−ヒドロキシエチルメタアクリレ
ート45〜55%、メククリルアミド20〜30%、ベ
ンジルメタアクリレート5〜20%からなる共重合体及
びオキシ多塩基酸類を水に溶解したことを特徴とするネ
ガ型感光性組成物を完成した。
紫外線露光後水のみで未露光部を溶出させてパターンを
形成したのち水溶性染料で染色するカラーフィルターの
作成方法にも関する。
法で作ることができる。
アゾジフェニルアミンの塩化亜鉛や硫酸塩の複塩を濃硫
酸や濃リン酸の混液に冷却しながら溶解する8撹拌しな
がらバラホルムアルデヒドをジアゾ化合物に対し05〜
1.1モル%加え、5〜6℃で3時間線合反応する。反
応液をイソプロピルアルコール中に注加して沈澱析出さ
せる。
金属NaやKの少いジアゾ樹脂の硫酸塩や硫酸及びリン
酸塩の混酸塩を生成させる。
から500nmの可視域まで広がり 375nmに最大
吸収ピークがある。そのため光硬化させる露光装置とし
ては、感度及び解像力からいってG線ステッパーよりi
線ステッパーを使用する方が有利であることは明白であ
る。水溶性ジアゾ樹脂の添加量は、加熱時の可視域での
光透過率の低下を考えると共重合体に対して5〜15%
の範囲が好ましい。
示される染色基を担当するアクリル系単量体の好適な例
としては、N、N−ジメチルアミノエチルメタアクリレ
ート、N、N−ジメチルアミノプロピルメタアクリレー
ト、アクリル酸ジエチルアミノエチル、N、N−ジプロ
ピルアミノエチルメタアクリレート、N、N−ジメチル
アミノヘキシルメタクリレート、N−メチル−N−ペン
ジルエチルメククリレート等が挙げられ、その使用量が
少なすぎると樹脂層の染色性が不十分で多過ぎると共重
合体の光硬化性が不十分になるので、共重合体に対し仕
込み重量が5〜20%の範囲が好ましい。アルキル基や
アリル基が多(なる程染色液中での膨潤が少なくひび割
れがおこりにくい傾向がある。
ートは、基板との密着性を上げると同時に光架橋反応を
促進させる。その使用量が少いと光硬化性が不十分とな
り多すぎると共重合体の製造時ゲルが多発するので、仕
込重量は45〜55%の範囲が好ましい。
明の感光性組成物を水のみで溶解し又未露光部を水のみ
で溶出(現像)するのに必須である。その使用量が少い
と水現像ができなくなり多すぎると膨潤がひどく解像力
を低下させるので、仕込み重量は20〜30%の範囲が
好ましい。
は、水現像での膨潤を抑え、又染色すぎないようにコン
トロールするために共重合される。その使用量が多すぎ
ると共重合体のゲル分が多くなり濾過が困難になる6仕
込重量は5〜25%の範囲が好ましい。ベンジルメタク
リレートは、メチルメタクリレート、アクリル酸ブチル
、スチレンと同じように共重合体に疎水性を与えるのに
寄与しているが、ベンジルメタクリレート以外の疎水性
を与える単量体を共重合しても水現像不能になったり又
染色でのコントロールをすることはできなかった。
リコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)に3
0〜40%に溶解し、重合開始剤としてアゾビスイソブ
チロニトリルを単量体に対し0.1〜1%の範囲で添加
し、窒素パージして80℃で4〜6時間重合反応をする
0重合液を多量の酢酸エチルに滴下していき沈澱精製し
真空乾燥する6本発明の共重合体の重量平均分子量は5
000〜10万の範囲が好ましい。
くく白濁して濾過不能になる場合がある。必要ならば、
本発明の共重合体の耐光性を向上する目的で2−ヒドロ
キシ−4−(2−メタクリロキシエトキシ)ベンゾフェ
ノン及び1.2,2,6.6−パンクメチル−4−ピペ
リジルメタクリレート等の反応性紫外線吸収剤を数パー
セント共重合させてもよい。
合体を水に溶解するための助剤になる。酢酸のように室
温で臭の発生がないリンゴ酸、酒石酸、クエン酸等が使
用される。使用量は本発明の共重合体に対して5〜15
%の範囲が好ましい。
オキシ多塩基酸類を精製水に溶解し、必要ならばその地
塗布ムラを防止するための界面活性剤及び消泡剤及び防
腐剤等を添加し、最終濾過を0.2μの孔を有するフィ
ルターを用いて行う、他方、水溶性ジアゾ樹脂は共重合
体に対し5〜15%の範囲になるように別に精製水に溶
解し、最終濾過を0.2uの孔を有するフィルターを用
いて濾過し、使用時共重合体水溶液と混合して使用する
とよい。
像素子や液晶デイスプレー素子等の基板上にロールコー
ト、スピンコード、スプレー塗布等で塗布され、乾燥後
原版マスクを介して光硬化される。水によって未露光部
分を除去し、レリーフパターンを作ることができる。
ては、ラナゾールブルー8G(チバガイギー社製)、ス
ミライトスプラ、ブリリアントブルーG、スミフィクス
ターキスブル−〇X、スミノールファストレッドG、ス
ミノールミーリングブリリアントレッド4BS、スミノ
ールミーリングイエローMR、スミノールファストイエ
ローG(以上住人化学社製)、カヤノールサイアニンG
、カヤノールイエローMSG、カヤノールミーリングレ
ッドRS(以上日本化薬社製)等が挙げられ、その染色
条件は必要な分光濃度に応じて染料及び染色温度、時間
が決定されるものである。
の性質上シャドウマスクやリードフレームの加工に使用
するフォトレジストとしても応用可能である。
が、本発明はこれに限定されない。
剤、重合開始剤を仕込み、窒素ガスを吹き込みながら混
合溶解し、80℃まで昇温しそのまま5時間かきまぜて
重合した。重合液を多量の酢酸エチルに滴下していき沈
澱精製し、真空乾燥した。共重合体46gを得た。
ジメチルアミノエチルメタ アクリレート 15g (DMAEM
AIメチルメタアクリルアミド 25g fMAA)
ベンジルメタアクリレート10gFBZ)アゾビスイソ
ブチロニトリル 0.2g fAIBN)メチルセロソ
ルブ 200gこの共重合体は重量平均分子
量fMw) = 26950で数平均分子量(Mn)
= 6650であった。この共重合体12gとクエン酸
1.2gを精製水88gに撹拌して溶解し、濾紙濾過し
、1μの孔を有するフィルター濾過後、0.45μの孔
を有するフィルター濾過、最後に0.2μの孔を有する
テフロン製フィルターを用いて濾過した。
14.1%、硫黄7.6%、燐0.34%を有するジア
ゾ樹脂1.2gを精製水20gに溶解し、濾紙濾過後、
0.2μの孔を有するテフロンフィルターを用いて濾
過した。
ない水溶性感光液を調整した。この感光液をシリコンウ
ェハ上にスピンナー150゜rpmで回転塗布し、ホッ
トプレート上で80°C5分加熱乾燥して膜厚1.0μ
mの被膜を得た。マスクを介して縮小投影露光装置D
S W −6500A(G線ステッパーGCA社製、N
A = 0.301.5秒露光(約600mj/cm
2) L/、精製水で60秒間浸漬現像後エタノールで
30秒間リンスし、乾燥してパターンを形成した。レリ
ーフパターンは多少の丸みをおびているものの最小線巾
3μmのラインアンドスペースを解像していた。
DFCOI−10(冨士薬品工業■販売のカラーフィル
ター用染色液シアン色)を70°Cに加温した洛中に1
0分間浸漬した後水洗し、 100℃10分間乾燥する
ことによりシアン色に染色されたカラーフィルターを形
成した。次に防染層としてFVR−10(富士薬品工業
■カラーフィルター用アクリル系透明感光性樹脂)を3
00Orpmで回転塗布し、 150℃で30分加熱処
理して0.6μ厚の乾燥に中間保護被膜を得た。次に上
記に調整したカラーフィルター用染色感光液を同様に塗
布加熱乾燥して膜厚1.0μの被膜を得た。マスクを介
して同様に露光後、精製水で60秒間浸漬現像した後エ
タノールで30秒間リンスし、乾燥してパターンを形成
した。レリーフパターンは中間保護膜上でも密着性がよ
<3μmのラインアンドスペースを解像していた。 1
30°C10分間ホットプレート上で加熱乾燥した後、
DFYOI−10(イエロー色)を70℃に加温した洛
中に10分間浸漬した後水洗し、 100°Cで10分
間乾燥することによりイエロー色に染色されたカラーフ
ィルターを形成した。再びFVR−10で上記と同様に
して0.6u厚の中間保護膜を得た。更に上記で調整し
たカラーフィルター用染色感光液を同様に塗布乾燥して
膜厚1.0μの被膜を得た。マスクを介して同様に露光
した後、精製水で60秒浸漬現像後エタノールで3D秒
間リンス乾燥してパターンを形成した。レリーフパター
ンは、多少の段差のある上でも密着のよい最小線巾3u
mのラインアンドスペースを解像していた。130°C
IO分間加熱乾燥した後DFMOI−10(マゼンタ色
)を70°Cに加温した洛中に10分間浸漬した後水洗
し、 100°C10分間乾燥することによりマゼンタ
色に染色されたカラーフィルターを形成した。
クロム酸アンモンからなる感光液を使用して形成した補
色フィルターの分光透過率曲線と同じ分光透過率曲線を
示した。
脂の重合、評価を行った。
いたカラーフィルターの作成方法を使用することにより
カラーフィルターの製造工程における無公害化を実現し
たばかりか、天然物に含まれるアルカリ金属元素による
経時劣化の原因からの解放等が達成され、本発明はカラ
ー固体撮像素子及び液晶デイスプレー素子に使用される
色分解フィルターの製造に多大の貢献をなすものである
。
過率曲線示すグラフである。 特許出願人 冨士薬品工業株式会社 (ばか2名)
Claims (2)
- (1)水溶性ジアゾ樹脂と重量平均分子量が5000〜
10万の範囲の次の一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は水素原子又はCH_3を示し、R_2
及びR_3は互いに独立してCH_3、C_2H_5、
C_6H_5等のアルキル基又はアリル基を示し、nは
1〜10を示す。)で示される単量体5〜20%、2−
ヒドロキシエチルメタアクリレート45〜55%、メタ
クリルアミド20〜30%、ベンジルメタアクリレート
5〜20%からなる共重合体及びオキシ多塩基酸類を水
に溶解したことを特徴とするネガ型感光性組成物。 - (2)請求項第1項記載のネガ型感光性組成物を基板上
に塗布し、紫外線露光後水のみで未露光部を溶出させて
パターンを形成したのち、水溶性染料で染色することを
特徴とするカラーフィルターの作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33447490A JP2926364B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33447490A JP2926364B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04204656A true JPH04204656A (ja) | 1992-07-27 |
| JP2926364B2 JP2926364B2 (ja) | 1999-07-28 |
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ID=18277795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33447490A Expired - Lifetime JP2926364B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | ネガ型感光性組成物及びそれを用いたカラーフィルターの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2926364B2 (ja) |
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1990
- 1990-11-30 JP JP33447490A patent/JP2926364B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2926364B2 (ja) | 1999-07-28 |
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