JPH04206016A - 磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体とその製造方法Info
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- JPH04206016A JPH04206016A JP2338163A JP33816390A JPH04206016A JP H04206016 A JPH04206016 A JP H04206016A JP 2338163 A JP2338163 A JP 2338163A JP 33816390 A JP33816390 A JP 33816390A JP H04206016 A JPH04206016 A JP H04206016A
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- Japan
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- magnetic
- magnetic recording
- metal
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオ用テープ、オーディオ用テープ、ハー
ドディスク用磁気記録媒体、フロッピーディスク用磁気
記録媒体等の高記録密度媒体として利用できる電磁変換
特性に優れた金属薄膜型の磁気記録媒体とその製造方法
に関する。
ドディスク用磁気記録媒体、フロッピーディスク用磁気
記録媒体等の高記録密度媒体として利用できる電磁変換
特性に優れた金属薄膜型の磁気記録媒体とその製造方法
に関する。
従来の技術
近年、磁気記録媒体は磁気記録密度の向上に見られるよ
うにその技術的発展はめざましいものがある。従来の磁
気記録媒体の例として、オーディオ用テープ、ビデオ用
テープ材料に用いられるy−Fe20B粉末、CrO粉
末、純鉄粉末などを樹脂等のバインダーとともに高分子
フィルム上に塗着せしめた、いわゆる塗布型の磁気記録
媒体がある。
うにその技術的発展はめざましいものがある。従来の磁
気記録媒体の例として、オーディオ用テープ、ビデオ用
テープ材料に用いられるy−Fe20B粉末、CrO粉
末、純鉄粉末などを樹脂等のバインダーとともに高分子
フィルム上に塗着せしめた、いわゆる塗布型の磁気記録
媒体がある。
すなわち、ポリニスデルフィルム、ポリイミドフィルム
、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム上に
、Co、Ni、Cr、Fe等の磁性金属または金属酸化
物を研摩剤、フィラー、バインダーとともに塗布した塗
布型磁気記録媒体の検討がなされている。このとき磁気
特性を高めるためマグネットによる磁性金属の強制配向
、またはカレンダー処理による媒体表面の平滑化が行わ
れている。
、ポリエチレンテレフタレート等の高分子フィルム上に
、Co、Ni、Cr、Fe等の磁性金属または金属酸化
物を研摩剤、フィラー、バインダーとともに塗布した塗
布型磁気記録媒体の検討がなされている。このとき磁気
特性を高めるためマグネットによる磁性金属の強制配向
、またはカレンダー処理による媒体表面の平滑化が行わ
れている。
また、電磁変換特性の高周波記録帯域でのノイズの低減
をはかるため磁性層を積層した、いわゆるダブルコーテ
ィングの技術が行われている。
をはかるため磁性層を積層した、いわゆるダブルコーテ
ィングの技術が行われている。
一方、近年ますますビデオ、オーディオ装置の小型軽量
化がさけばれ、磁気記録媒体の高密度化を行うため、真
空蒸着法、めっき法、イオンブレーティング法またはス
パッタリング法などの方法でFe、Ni、Co、Cr等
の磁性金属を高分子フィルム上に蒸着する金属薄膜型磁
気記録媒体の検討がなされている。真空蒸着法による磁
気記録媒体の構成は基本的には塗布型と同じでその製造
方法は高分子フィルムの表面に磁性金属を例えば斜方蒸
着法では40度から90度の蒸着入射角で蒸着すること
で金属薄膜型磁気記録媒体としていた。また塗布型磁気
記録媒体と同様、tTI11変換特性の高周波記録帯域
でのノイズの低減をはかるため同じ金属の磁性層を積層
したいわゆるダブルコーティングの技術が行われている
。第3図に従来の磁気記録媒体の構成断面図の例を示す
、従来、ビデオ用または、オーディオ用等に用いられる
磁気記録媒体は高分子フィルム1上に磁性金属2を形成
したものが用いられた。磁性金属2を形成する方法とし
て前にも述べた湿式法による塗布型と乾式法による蒸着
金属薄膜型とに分けられる。また第4図に示すように、
従来の磁気記録媒体の高記録密度、高画質化を図るため
、高分子フィルムl上に磁性金属2を形成し、さらにそ
の表面に同じ磁性金属3を積層して形成することにより
ノイズの低減または出力の向上を図っている。
化がさけばれ、磁気記録媒体の高密度化を行うため、真
空蒸着法、めっき法、イオンブレーティング法またはス
パッタリング法などの方法でFe、Ni、Co、Cr等
の磁性金属を高分子フィルム上に蒸着する金属薄膜型磁
気記録媒体の検討がなされている。真空蒸着法による磁
気記録媒体の構成は基本的には塗布型と同じでその製造
方法は高分子フィルムの表面に磁性金属を例えば斜方蒸
着法では40度から90度の蒸着入射角で蒸着すること
で金属薄膜型磁気記録媒体としていた。また塗布型磁気
記録媒体と同様、tTI11変換特性の高周波記録帯域
でのノイズの低減をはかるため同じ金属の磁性層を積層
したいわゆるダブルコーティングの技術が行われている
。第3図に従来の磁気記録媒体の構成断面図の例を示す
、従来、ビデオ用または、オーディオ用等に用いられる
磁気記録媒体は高分子フィルム1上に磁性金属2を形成
したものが用いられた。磁性金属2を形成する方法とし
て前にも述べた湿式法による塗布型と乾式法による蒸着
金属薄膜型とに分けられる。また第4図に示すように、
従来の磁気記録媒体の高記録密度、高画質化を図るため
、高分子フィルムl上に磁性金属2を形成し、さらにそ
の表面に同じ磁性金属3を積層して形成することにより
ノイズの低減または出力の向上を図っている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の磁気記録媒体では、どうしても
第一層目の磁性金属2の結晶配向性に影響され磁性材料
および製造方法に限界があり、かつ磁気特性および電磁
変換特性の大幅な改善が行えないという課題がある。
第一層目の磁性金属2の結晶配向性に影響され磁性材料
および製造方法に限界があり、かつ磁気特性および電磁
変換特性の大幅な改善が行えないという課題がある。
本発明は上記従来の課題を解決するものであり、電磁変
換特性に優れた磁気記録媒体とその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
換特性に優れた磁気記録媒体とその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。
課題を解決するための手段
本発明は上記目的を達成するために、非磁性基板上に複
数の磁性層を形成し、さらにその複数の磁性層の間に無
機質材料よりなる非磁性層を設けたものである。
数の磁性層を形成し、さらにその複数の磁性層の間に無
機質材料よりなる非磁性層を設けたものである。
作用
したがって本発明によれば、高分子フィルム等よりなる
基板上に第1磁性層を形成し、その表面に非磁性層を設
け、さらにその上面に第2磁性層を形成することにより
、磁気特性、!磁変換特性に優れ、量産性を備えた磁気
記録媒体を得ることができる。
基板上に第1磁性層を形成し、その表面に非磁性層を設
け、さらにその上面に第2磁性層を形成することにより
、磁気特性、!磁変換特性に優れ、量産性を備えた磁気
記録媒体を得ることができる。
実施例
以下、本発明の一実施例について第1図、第2図ととも
に説明する。
に説明する。
(実施例1)
第1図は本発明の一実施例の構成を示す要部断面図であ
り、厚さlOμのポリエチレンテレフタレート(PET
)フィルム等の高分子フィルム4上に真空蒸着法により
Co−Niの金属酸化物よりなる第1磁性層5を100
0人の厚さで蒸着し、その第1磁性層5の表面にTi金
属よりなる非磁性層6を100人の厚さで蒸着し、さら
にその非磁性層6の上面にCoの金属酸化物よりなる第
2磁性層7を1000人の厚さで斜方蒸着法により蒸着
し、積層する。
り、厚さlOμのポリエチレンテレフタレート(PET
)フィルム等の高分子フィルム4上に真空蒸着法により
Co−Niの金属酸化物よりなる第1磁性層5を100
0人の厚さで蒸着し、その第1磁性層5の表面にTi金
属よりなる非磁性層6を100人の厚さで蒸着し、さら
にその非磁性層6の上面にCoの金属酸化物よりなる第
2磁性層7を1000人の厚さで斜方蒸着法により蒸着
し、積層する。
第2図は実施例における磁気記録媒体の製造方法を実施
するために使用する蒸着装置の概略構造を示すものであ
り、図に示すように高分子フィルム4を送り軸8にセン
トし、クーリングキャン9を経て巻取り軸10で巻取る
。クーリングキャン9の下方より電子ビーム11でるつ
ぼ12内の磁性金属13を溶解し、蒸発させる。蒸発し
た磁性金属13はマスク14で配向に必要な成分のみを
蒸着する。また蒸着には不要な成分は防着板15で遮蔽
する。酸素ガス16は磁性金属13の蒸発流に向かって
ふきつけることで金属の酸化物を生成させる。第1磁性
層5の1着火射角θは40度から90度とし、その範囲
で蒸発する成分を蒸着し、つぎに非磁性層6を形成させ
るためにチタン金属を入射角θを一10度から+10度
までとし、その範囲で蒸発する成分を蒸着し、さらに第
2m性層7は蒸着入射角θを20度から50度の範囲と
して蒸発する成分を蒸着した。
するために使用する蒸着装置の概略構造を示すものであ
り、図に示すように高分子フィルム4を送り軸8にセン
トし、クーリングキャン9を経て巻取り軸10で巻取る
。クーリングキャン9の下方より電子ビーム11でるつ
ぼ12内の磁性金属13を溶解し、蒸発させる。蒸発し
た磁性金属13はマスク14で配向に必要な成分のみを
蒸着する。また蒸着には不要な成分は防着板15で遮蔽
する。酸素ガス16は磁性金属13の蒸発流に向かって
ふきつけることで金属の酸化物を生成させる。第1磁性
層5の1着火射角θは40度から90度とし、その範囲
で蒸発する成分を蒸着し、つぎに非磁性層6を形成させ
るためにチタン金属を入射角θを一10度から+10度
までとし、その範囲で蒸発する成分を蒸着し、さらに第
2m性層7は蒸着入射角θを20度から50度の範囲と
して蒸発する成分を蒸着した。
(実施例2)
ポリエチレンナフタレート(PEN)よりなる基板4の
上に第1磁性層5として磁性金属13を20度〜55度
の入射角θの範囲で蒸発させ、Coの金属酸化物を蒸着
し、つぎに非磁性層6としてCuの金属を実施例1と同
じ方法で設け、さらに第2磁性層マを第1磁性層5と同
じ条件で形成した。
上に第1磁性層5として磁性金属13を20度〜55度
の入射角θの範囲で蒸発させ、Coの金属酸化物を蒸着
し、つぎに非磁性層6としてCuの金属を実施例1と同
じ方法で設け、さらに第2磁性層マを第1磁性層5と同
じ条件で形成した。
(実施例3)
ポリイミド(PI)よりなる基板4の上に第1磁性層5
として磁性金属13を20度〜55度の入射角θの範囲
で蒸発させ、Co−Cr合金を蒸着し、つぎに非磁性層
6として酸化珪素の薄膜を実施例1と同じ製造方法によ
り設け、さらに第2磁性層7を実施例1と同し製造方法
によりCOの金属酸化物を蒸着した。
として磁性金属13を20度〜55度の入射角θの範囲
で蒸発させ、Co−Cr合金を蒸着し、つぎに非磁性層
6として酸化珪素の薄膜を実施例1と同じ製造方法によ
り設け、さらに第2磁性層7を実施例1と同し製造方法
によりCOの金属酸化物を蒸着した。
つぎにこのようにして得られた実施例についてその性能
と効果について従来例のものと比較しながら説明する。
と効果について従来例のものと比較しながら説明する。
金属薄膜型の磁気記録媒体の評価はVSMにより磁気特
性を、!磁変換特性については市販のビデオデツキを評
価装置用に改造し、ヘッドはメタルヘッドを用いて行な
った。また耐蝕試験による耐久性を評価するため60°
C7−90%RHの高温−高湿下で1週間放置後、試験
前後の表面状態の変化を調べた。磁気特性、!磁変換特
性、耐久性の結果を次の第1表に示す。
性を、!磁変換特性については市販のビデオデツキを評
価装置用に改造し、ヘッドはメタルヘッドを用いて行な
った。また耐蝕試験による耐久性を評価するため60°
C7−90%RHの高温−高湿下で1週間放置後、試験
前後の表面状態の変化を調べた。磁気特性、!磁変換特
性、耐久性の結果を次の第1表に示す。
磁気特性は保磁力(Hc)を、!磁変換特性は記録波長
7Mz近傍のY−出力(dB)で評価し、従来例1の出
力に対する相対出力として示した。
7Mz近傍のY−出力(dB)で評価し、従来例1の出
力に対する相対出力として示した。
また耐久性は60℃−90%RHの環境試験前後の磁性
膜表面の観察で行なった。
膜表面の観察で行なった。
第 1 表
◎印:大変良好、O印:良好、×印:不良この結果、本
実施例では従来例と比較して同じ磁性金属を使用し、同
じ製造方法によって形成しても本実施例の構成による方
が磁気特性および電磁変換特性を高くすることができる
。特に同し条件下で蒸着を行なった場合(実施例1また
は2)磁気特性にその保磁力は従来例に比べて2000
e以上、電磁変換特性のY−出力においては従来例に比
較して5dB以上の高出力を示した。また、表には示し
ていないがY−出力におけるノイズも従来例と比較して
本発明の実施例では3dB以上優れている。
実施例では従来例と比較して同じ磁性金属を使用し、同
じ製造方法によって形成しても本実施例の構成による方
が磁気特性および電磁変換特性を高くすることができる
。特に同し条件下で蒸着を行なった場合(実施例1また
は2)磁気特性にその保磁力は従来例に比べて2000
e以上、電磁変換特性のY−出力においては従来例に比
較して5dB以上の高出力を示した。また、表には示し
ていないがY−出力におけるノイズも従来例と比較して
本発明の実施例では3dB以上優れている。
一方、特殊環境下での耐久性において、本実施例と従来
例を比較してみると、本実施例では耐蝕試験前後の金属
表面状態はほとんど変わらず、従来例に見られたような
錆パターンは発生しなかった。
例を比較してみると、本実施例では耐蝕試験前後の金属
表面状態はほとんど変わらず、従来例に見られたような
錆パターンは発生しなかった。
つぎに本発明の効果である保磁力の向上、!磁変換特性
の向上の要因を解析するため透過型電子顕微鏡(TEM
) 、走査型電子顕微鏡(SEM)で磁気記録媒体の断
面の観察を行なった。その結果、従来の積層型の磁気記
録媒体と比較して本実施例では第2磁性層7は第1磁性
層5の影響を受けることなく結晶配向していることがわ
かった。
の向上の要因を解析するため透過型電子顕微鏡(TEM
) 、走査型電子顕微鏡(SEM)で磁気記録媒体の断
面の観察を行なった。その結果、従来の積層型の磁気記
録媒体と比較して本実施例では第2磁性層7は第1磁性
層5の影響を受けることなく結晶配向していることがわ
かった。
このように上記実施例によれば磁性金属、または磁性金
属酸化物よりなる第1tff性層5および第2iff性
層7を積層して磁気記録媒体を製造する場合、第1磁性
層5と第2磁性層7との間に金属または金属酸化物より
なる非磁性層6を設けることにより第1磁性層5の影響
を受けることなく、第2磁性層7の結晶配向を行うこと
ができる。特にこの傾向は磁性層の膜厚が厚いほど、ま
た磁性層の積層数が増える程この傾向が顕著である。さ
らに第1磁性層5の厚みが500Å以上、磁性層の積層
数が3層以上でその効果は特に顕著である。
属酸化物よりなる第1tff性層5および第2iff性
層7を積層して磁気記録媒体を製造する場合、第1磁性
層5と第2磁性層7との間に金属または金属酸化物より
なる非磁性層6を設けることにより第1磁性層5の影響
を受けることなく、第2磁性層7の結晶配向を行うこと
ができる。特にこの傾向は磁性層の膜厚が厚いほど、ま
た磁性層の積層数が増える程この傾向が顕著である。さ
らに第1磁性層5の厚みが500Å以上、磁性層の積層
数が3層以上でその効果は特に顕著である。
なお、本発明を実施する場合、上記実施例の内容に限定
されることなく他の製造方法も可能である0例えば実施
例においては斜方蒸着法について説明したが、垂直方向
からの蒸着法によって磁性層を形成することも可能であ
る。積層する磁性層の構成材料についても本実施例に限
定されるものでなく、Co、Ni、Cr、Fe等の金属
または金属酸化物を単独または化合物として用いてもよ
い、基板4として本実施例では高分子フィルムを用いた
が、その他ガラス、金属、樹脂、プラスチック等をロー
ル状または板状にして用いてもよい。
されることなく他の製造方法も可能である0例えば実施
例においては斜方蒸着法について説明したが、垂直方向
からの蒸着法によって磁性層を形成することも可能であ
る。積層する磁性層の構成材料についても本実施例に限
定されるものでなく、Co、Ni、Cr、Fe等の金属
または金属酸化物を単独または化合物として用いてもよ
い、基板4として本実施例では高分子フィルムを用いた
が、その他ガラス、金属、樹脂、プラスチック等をロー
ル状または板状にして用いてもよい。
また蒸着時には基板4を加熱して蒸着を行うこともでき
る。
る。
さらに磁気特性を調整するため雰囲気ガスの導入を行な
ってもよい、雰囲気ガスの種類は本実施例で使用した酸
素以外に窒素、アルゴン、ヘリウムの不活性ガス、水素
、炭化水素、CO,還元性ガス、オゾン、窒素酸化物等
の酸化性ガスを用いることができる。
ってもよい、雰囲気ガスの種類は本実施例で使用した酸
素以外に窒素、アルゴン、ヘリウムの不活性ガス、水素
、炭化水素、CO,還元性ガス、オゾン、窒素酸化物等
の酸化性ガスを用いることができる。
発明の効果
本発明は上記実施例より明らかなように、非磁性基板の
表面に複数の磁性層を形成し、その磁性層の間に無機質
材料よりなる非磁性層を設けていることにより上面の磁
性層が良好に結晶配向でき、極めて優れた磁気特性や電
磁変換特性および耐久性を有する磁気記録媒体を得るこ
とができる。
表面に複数の磁性層を形成し、その磁性層の間に無機質
材料よりなる非磁性層を設けていることにより上面の磁
性層が良好に結晶配向でき、極めて優れた磁気特性や電
磁変換特性および耐久性を有する磁気記録媒体を得るこ
とができる。
第1図は本発明の一実施例における磁気記録媒、 体の
部分断面図、第2図は同磁気記録媒体の製造方法を実施
するために使用する装置の要部概略断面図、第3図およ
び第4図は従来の磁気記録媒体の部分断面図である。 4・・・・・・高分子フィルム(非磁性基板)、5・・
・・・・第1磁性層(vt磁性層、6・・・・・・非磁
性層、7・・・・・・第2磁性層(磁性層)。 代理人の氏名 弁理士小鍜治明 ほか2名第1図 第2図 /9 〒17 第4図 ミ平甲甲甲甲〒ヴ ニー2 、/ Δ レ−3 \2
部分断面図、第2図は同磁気記録媒体の製造方法を実施
するために使用する装置の要部概略断面図、第3図およ
び第4図は従来の磁気記録媒体の部分断面図である。 4・・・・・・高分子フィルム(非磁性基板)、5・・
・・・・第1磁性層(vt磁性層、6・・・・・・非磁
性層、7・・・・・・第2磁性層(磁性層)。 代理人の氏名 弁理士小鍜治明 ほか2名第1図 第2図 /9 〒17 第4図 ミ平甲甲甲甲〒ヴ ニー2 、/ Δ レ−3 \2
Claims (2)
- (1)非磁性基板の表面に複数の磁性層を積層してなる
磁気記録媒体であって、前記複数の磁性層の間に無機質
材料よりなる非磁性層を設けたことを特徴とする磁気記
録媒体。 - (2)非磁性基板の表面に磁性層と無機質材料よりなる
非磁性層を交互に積層することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2338163A JPH04206016A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2338163A JPH04206016A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04206016A true JPH04206016A (ja) | 1992-07-28 |
Family
ID=18315509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2338163A Pending JPH04206016A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04206016A (ja) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2338163A patent/JPH04206016A/ja active Pending
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