JPS6154020A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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- JPS6154020A JPS6154020A JP17616184A JP17616184A JPS6154020A JP S6154020 A JPS6154020 A JP S6154020A JP 17616184 A JP17616184 A JP 17616184A JP 17616184 A JP17616184 A JP 17616184A JP S6154020 A JPS6154020 A JP S6154020A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気記録媒体に関し、より詳細にはビデオテー
プ等として使用される非バインダー型の磁気記録媒体に
関するものである。
プ等として使用される非バインダー型の磁気記録媒体に
関するものである。
(従来技術)
従来より磁気記録媒体としては、有別バインダー中に分
散させた粉末磁性材料を非磁性基体上に塗布し乾燥さば
てなる塗布型のものが広く使用されてさている。しかし
ながら、従来の塗布型磁気記録媒体は、磁性材料として
強C1性金属よりも飽和磁化の小さい金属酸化物を主と
して用いているため高密度記録には適しておらず、また
製造工程が?!雑であり、溶剤回収あるいは公害防止の
ために大規模な附帯設備を有するという欠点を有してい
る。
散させた粉末磁性材料を非磁性基体上に塗布し乾燥さば
てなる塗布型のものが広く使用されてさている。しかし
ながら、従来の塗布型磁気記録媒体は、磁性材料として
強C1性金属よりも飽和磁化の小さい金属酸化物を主と
して用いているため高密度記録には適しておらず、また
製造工程が?!雑であり、溶剤回収あるいは公害防止の
ために大規模な附帯設備を有するという欠点を有してい
る。
これに対し、近年?3密度記録への要求の高まりと共に
真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等の
ベーパーデポジション法あるいは電気メッキ、無電解メ
ッキ等のメッキ法により形成される強磁性薄膜を磁気記
録層とする、バインダーを使用しない、いわゆる非バイ
ンダー型磁気記録媒体が実用化されるに到った。非バイ
ンダー型磁気記録媒体においては塗布型磁気記8媒体に
使用される金属酸化物よりも飽和磁化の大きな強磁性金
属をバインダーのごとき非磁性物質を含有しない状態で
薄膜として形成させることが可能であるため、塗4i型
と比較して高保磁力化および薄層化が)構成でき、しか
も製造工程が簡略化され、有機溶媒による公害も防止さ
れるという利点を右している。特に非バインダー型磁気
記録媒体記録層はその厚さを塗イ5型よりも一桁小さな
値とすることが可能であるため、高密度記録用磁気記録
媒体として注目されている。
真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等の
ベーパーデポジション法あるいは電気メッキ、無電解メ
ッキ等のメッキ法により形成される強磁性薄膜を磁気記
録層とする、バインダーを使用しない、いわゆる非バイ
ンダー型磁気記録媒体が実用化されるに到った。非バイ
ンダー型磁気記録媒体においては塗布型磁気記8媒体に
使用される金属酸化物よりも飽和磁化の大きな強磁性金
属をバインダーのごとき非磁性物質を含有しない状態で
薄膜として形成させることが可能であるため、塗4i型
と比較して高保磁力化および薄層化が)構成でき、しか
も製造工程が簡略化され、有機溶媒による公害も防止さ
れるという利点を右している。特に非バインダー型磁気
記録媒体記録層はその厚さを塗イ5型よりも一桁小さな
値とすることが可能であるため、高密度記録用磁気記録
媒体として注目されている。
しかしながら、非バインダー型磁気記録媒体の磁性薄膜
は腐蝕されやすいため、該記録媒体は塗布型磁気記録媒
体と比較して耐候性および耐錆性が劣っている。特にビ
デオテープ等として使用される磁気記録媒体は記録・再
生時に該媒体表面が磁気ヘッドで擦られるため、極めて
軽度であっても錆が該媒体表面上に存在しているとヘッ
ドに目詰りが生じ、この結果、媒体およびヘッドが傷つ
くことになる。さらに錆の程度が甚しくなると磁性薄膜
が剥nIシて、記録されていた情報の消失を10 <こ
ともある。
は腐蝕されやすいため、該記録媒体は塗布型磁気記録媒
体と比較して耐候性および耐錆性が劣っている。特にビ
デオテープ等として使用される磁気記録媒体は記録・再
生時に該媒体表面が磁気ヘッドで擦られるため、極めて
軽度であっても錆が該媒体表面上に存在しているとヘッ
ドに目詰りが生じ、この結果、媒体およびヘッドが傷つ
くことになる。さらに錆の程度が甚しくなると磁性薄膜
が剥nIシて、記録されていた情報の消失を10 <こ
ともある。
こうした非バインダー型磁気記録媒体の耐11メ性。
耐久性を改良する方法として、イオンプレーテングによ
り表面窒化処理を施す方法(特開昭5O−3380G号
)、スパッタにより窒化硅素股を設ける方法(特開昭5
3−30304号)、磁性膜を窒素ガス等の雰囲気中で
の放電にさらして非磁性保護膜を形成する方法(特開昭
53−85403号)、磁性金属iiv膜上に窒化され
た金属薄膜を設ける方法(特開昭54−143111号
)等が知られているが耐候性、耐久性の改良が不十分で
効果を(qるには膜厚を大きくせねばならぬ等の欠点が
あった。非磁性保護膜は膜厚が大きいと電磁変換特性上
劣化が茗しく非バインダー型磁気記録媒体の特徴が失わ
れてしまう。さらに耐候性にすぐれた非バインダー型磁
気記録媒体の一つとして、ヨーロッパ特許8328号あ
るいは特開昭59−8780!]弓に開示されているよ
うな窒化鉄あるいは鉄および窒化鉄よりなる磁性薄膜が
あるが磁気特性が不十分であり、耐久性についても改良
が望まれている。
り表面窒化処理を施す方法(特開昭5O−3380G号
)、スパッタにより窒化硅素股を設ける方法(特開昭5
3−30304号)、磁性膜を窒素ガス等の雰囲気中で
の放電にさらして非磁性保護膜を形成する方法(特開昭
53−85403号)、磁性金属iiv膜上に窒化され
た金属薄膜を設ける方法(特開昭54−143111号
)等が知られているが耐候性、耐久性の改良が不十分で
効果を(qるには膜厚を大きくせねばならぬ等の欠点が
あった。非磁性保護膜は膜厚が大きいと電磁変換特性上
劣化が茗しく非バインダー型磁気記録媒体の特徴が失わ
れてしまう。さらに耐候性にすぐれた非バインダー型磁
気記録媒体の一つとして、ヨーロッパ特許8328号あ
るいは特開昭59−8780!]弓に開示されているよ
うな窒化鉄あるいは鉄および窒化鉄よりなる磁性薄膜が
あるが磁気特性が不十分であり、耐久性についても改良
が望まれている。
〈発明の目的)
本発明の目的は上記従来技術の問題点に鑑み、耐候性J
3よび耐錆性に優れ、かつ良好な磁気特性を有する磁気
記録媒体を提供することにある。
3よび耐錆性に優れ、かつ良好な磁気特性を有する磁気
記録媒体を提供することにある。
(発明の構成)
本発明による磁気記録媒体は非磁性保護膜に窒化鉄を主
成分とする強磁性薄膜を設けてなるものであって、この
強磁性薄膜が前記基体から達ざかるにつれて次第により
高度に窒化されていることを特徴とするものである。
成分とする強磁性薄膜を設けてなるものであって、この
強磁性薄膜が前記基体から達ざかるにつれて次第により
高度に窒化されていることを特徴とするものである。
本発明の磁気記録媒体の強磁性1lI9膜中における窒
素原子/鉄原子の比率(atomic%〉は基体の近傍
で0.5〜40%、表面近(ηで5〜60%の範囲とり
−ることが好ましく、より好ましくは基体の近傍で2〜
20%、表面近傍で10〜30%である。
素原子/鉄原子の比率(atomic%〉は基体の近傍
で0.5〜40%、表面近(ηで5〜60%の範囲とり
−ることが好ましく、より好ましくは基体の近傍で2〜
20%、表面近傍で10〜30%である。
この磁性薄膜は30〜75atomic%の鉄原子を含
有Jることが好ましく、また5〜40atomic%の
窒素原子を含有することが好ましい。さらに、主成分で
ある窒素鉄の他に例えばコバルト、ニッケル。
有Jることが好ましく、また5〜40atomic%の
窒素原子を含有することが好ましい。さらに、主成分で
ある窒素鉄の他に例えばコバルト、ニッケル。
酸素等を含むものとすることができる。また、この強磁
性薄膜は単層構造とすることもm層G4造とすることも
可能であり、例えば重W!J構造として、その下層では
基体から下層上部に近づくにつれ窒素原子が涌増し、下
層上部よりも上層下部はより窒素原子を多く含み、かつ
上層は下部にり上部に近づくにつれ、窒素原子が漸増す
るように構成してしよい。また、この強磁性薄膜の膜厚
は磁気記録媒体として充分な出力を与える厚さ、および
高密度記録の充分行える薄さを必要とづ゛ることがら一
般には0.02μ汎から5.0μm好ましくは0.05
μmから20μ乳である。
性薄膜は単層構造とすることもm層G4造とすることも
可能であり、例えば重W!J構造として、その下層では
基体から下層上部に近づくにつれ窒素原子が涌増し、下
層上部よりも上層下部はより窒素原子を多く含み、かつ
上層は下部にり上部に近づくにつれ、窒素原子が漸増す
るように構成してしよい。また、この強磁性薄膜の膜厚
は磁気記録媒体として充分な出力を与える厚さ、および
高密度記録の充分行える薄さを必要とづ゛ることがら一
般には0.02μ汎から5.0μm好ましくは0.05
μmから20μ乳である。
本発明に用いられる非磁性基体としてはポリエヂレンテ
レフタレート、ポリイミド、ポリアミド。
レフタレート、ポリイミド、ポリアミド。
ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート
、ポリエヂレンナフタレートのようなプラスチックベー
ス基体あるいはA9J、 Ti 、ステンレス鋼等の金
属ないし合金基体があげられる。
、ポリエヂレンナフタレートのようなプラスチックベー
ス基体あるいはA9J、 Ti 、ステンレス鋼等の金
属ないし合金基体があげられる。
またこの強磁性薄膜上に公知のr11滑剤、保護層を設
けて、耐久性走行耐久性を向上せしめることも可11シ
である。
けて、耐久性走行耐久性を向上せしめることも可11シ
である。
(実 h色 例)
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
が、本発明は本実施例に制限されるものではない。
が、本発明は本実施例に制限されるものではない。
第1図は本実施例に使用した装置を示V概略図である。
第1図に示す装置は真空容器1からなり、真空容器1の
内部は仕切り壁2によって上室3と下室4に仕切1うれ
てJ′3りそれぞれ排気口5.6により独立に真空排気
されるようになっている。上室3にはテープ状基体7の
送出しロール8と巻取りロール9が配設されている。テ
ープ状基体7は送出しロール8から送り出され、冷却キ
ャン10に゛ 沿って下室4へ移動り′る。下室4には
蒸発源11が設置されその中に磁性材料12(本実施例
ではFe)を収納している。本装置では磁性材料12を
加熱蒸発せしめ、マスク13を介して基体7上に付着せ
しめるに際し、この蒸気流の一部をイオン化tA15に
よりイA−ン化し、11m1ガス導入口14あるいは第
2ガス導入016より真空槽内に導入されたN2ガスと
反応さぼることにコニり、窒化鉄蒸着膜を形成する。以
上の如く下室4でtti+1膜を形成された磁気テープ
(よ、冷7J]キヤン10に沿って上室3に戻り、巻取
りロール9に巻き取られる。ガス導入口14゜16より
導入するN2ガスには必要に応じて酸素02、二酸化炭
素CO2、希ガス)−1e 、 N(3、へretc等
のガスを混合往しめることも可能である。
内部は仕切り壁2によって上室3と下室4に仕切1うれ
てJ′3りそれぞれ排気口5.6により独立に真空排気
されるようになっている。上室3にはテープ状基体7の
送出しロール8と巻取りロール9が配設されている。テ
ープ状基体7は送出しロール8から送り出され、冷却キ
ャン10に゛ 沿って下室4へ移動り′る。下室4には
蒸発源11が設置されその中に磁性材料12(本実施例
ではFe)を収納している。本装置では磁性材料12を
加熱蒸発せしめ、マスク13を介して基体7上に付着せ
しめるに際し、この蒸気流の一部をイオン化tA15に
よりイA−ン化し、11m1ガス導入口14あるいは第
2ガス導入016より真空槽内に導入されたN2ガスと
反応さぼることにコニり、窒化鉄蒸着膜を形成する。以
上の如く下室4でtti+1膜を形成された磁気テープ
(よ、冷7J]キヤン10に沿って上室3に戻り、巻取
りロール9に巻き取られる。ガス導入口14゜16より
導入するN2ガスには必要に応じて酸素02、二酸化炭
素CO2、希ガス)−1e 、 N(3、へretc等
のガスを混合往しめることも可能である。
以上の装置を用いて12.5μTrL厚のポリエチレン
テレフタレートフィルム基体上に窒化鉄磁性層n9を蒸
着形成せしめ磁気テープを作製した。フィルム固体の幅
は10(lIrIr++、フィルム搬送速度は10Tr
L/分とし、高入射角θmaxは90°、低入射角θm
inは62°とした。蒸発源11中には純Fa (純
度90.99%)を収納しピアス式電子銃で加熱蒸発せ
しめ膜v、1200A となるようiig膜を形成し
た。導入ガスとしては第1ガス導入口14、あるいは第
2ガス導入口1GよりN2ガスを下室圧力Q x 1(
13T orrとなるよう6人し、またイオン化銃15
により蒸発シ先の一部をイオン化させた。こうして作成
した磁気テープ各々についてオージェ電子分光法(AE
S>によってテープ深さ方向の元素含有率を測定し窒化
の割合の変化を調べた。また、各テープのμl磁気特性
らびに防錆特性について測定を行なった。
テレフタレートフィルム基体上に窒化鉄磁性層n9を蒸
着形成せしめ磁気テープを作製した。フィルム固体の幅
は10(lIrIr++、フィルム搬送速度は10Tr
L/分とし、高入射角θmaxは90°、低入射角θm
inは62°とした。蒸発源11中には純Fa (純
度90.99%)を収納しピアス式電子銃で加熱蒸発せ
しめ膜v、1200A となるようiig膜を形成し
た。導入ガスとしては第1ガス導入口14、あるいは第
2ガス導入口1GよりN2ガスを下室圧力Q x 1(
13T orrとなるよう6人し、またイオン化銃15
により蒸発シ先の一部をイオン化させた。こうして作成
した磁気テープ各々についてオージェ電子分光法(AE
S>によってテープ深さ方向の元素含有率を測定し窒化
の割合の変化を調べた。また、各テープのμl磁気特性
らびに防錆特性について測定を行なった。
磁気特性としては抗磁力・角型比を1辰肋型141力計
(VSr’l)により測定した。防錆特性は50’C,
相対1fi1度90%の雰囲気中に磁気テープを50日
間放置した後に目視ならびに×50顕微鏡により錆の観
察を行ない1点〜5点に点数化して判定した。ここで各
点数は次の如き意味を有するものである。5点:顕微鏡
でも錆が認められない。4点二目視で錆が認められず顕
微鏡のみで認められる。3点:目752ではJ: <
’FA察しないと錆が認められない。2点二目視で錆が
認められる。、1点:目視で著しい’A”rが認められ
る。
(VSr’l)により測定した。防錆特性は50’C,
相対1fi1度90%の雰囲気中に磁気テープを50日
間放置した後に目視ならびに×50顕微鏡により錆の観
察を行ない1点〜5点に点数化して判定した。ここで各
点数は次の如き意味を有するものである。5点:顕微鏡
でも錆が認められない。4点二目視で錆が認められず顕
微鏡のみで認められる。3点:目752ではJ: <
’FA察しないと錆が認められない。2点二目視で錆が
認められる。、1点:目視で著しい’A”rが認められ
る。
作成したテープのAESプロフィールを図2にまた磁気
特性、防錆特性を表1に示す。ここでサンプルAはガス
尋人口14よりN2ガスを導入しつつ作成した本発明に
よるテープ、す°ンブルBはガス導入口16よりN2ガ
スを導入しつつ作成したフランI−な窒素原子分布を有
する窒化鉄膜の形成されたテープ、サンプルCは材料と
してl”eではなくCoを利用し、ガス導入なしで作成
したテープである。このサンプルCは従来最もよく知ら
れているタイプの非バインダー型磁気デープである。
特性、防錆特性を表1に示す。ここでサンプルAはガス
尋人口14よりN2ガスを導入しつつ作成した本発明に
よるテープ、す°ンブルBはガス導入口16よりN2ガ
スを導入しつつ作成したフランI−な窒素原子分布を有
する窒化鉄膜の形成されたテープ、サンプルCは材料と
してl”eではなくCoを利用し、ガス導入なしで作成
したテープである。このサンプルCは従来最もよく知ら
れているタイプの非バインダー型磁気デープである。
この結末によれば、まず防錆性においては窒化鉄磁性層
を右1゛るサンプルA、Bが共にCo14i性層を有す
るサンプルCより圧倒的に優れているが、更にナンプル
BよりもサンプルAは1ランク1nれたレベルにある。
を右1゛るサンプルA、Bが共にCo14i性層を有す
るサンプルCより圧倒的に優れているが、更にナンプル
BよりもサンプルAは1ランク1nれたレベルにある。
また磁気特性を見るとフラットイ賃窒M原子分布をもつ
サンプルBは角型比SQが0.34と悪いのに対して本
発明による条件を;−1だ寸リンプルiよ0.66と、
磁気記録媒体としての使用に耐えうる値を示しており、
防錆性、磁気特I11共にナンブルBの特性を上回って
いるものである。
サンプルBは角型比SQが0.34と悪いのに対して本
発明による条件を;−1だ寸リンプルiよ0.66と、
磁気記録媒体としての使用に耐えうる値を示しており、
防錆性、磁気特I11共にナンブルBの特性を上回って
いるものである。
表 1
(発明の効果)
本発明による磁気記録媒体はその記録層となる強磁性窒
化鉄薄膜がその表面に近い程、より高度に窒化されてお
り、したがって表面に近いほどFezN〜FetN等の
腐蝕されにくい化合物が多く含有されているため、耐候
性および耐錆性に優れており、一方、基体近傍において
は窒化の程度が低いために高配向のFeが多く存在して
J3す、したがって良好な磁気特性が得られる。
化鉄薄膜がその表面に近い程、より高度に窒化されてお
り、したがって表面に近いほどFezN〜FetN等の
腐蝕されにくい化合物が多く含有されているため、耐候
性および耐錆性に優れており、一方、基体近傍において
は窒化の程度が低いために高配向のFeが多く存在して
J3す、したがって良好な磁気特性が得られる。
第1図は本発明の磁気記録媒体を製造する際に1史用さ
れる装置の1例を示す概略図、@2図は本発明の一実施
例による磁気記録媒体ど比較ナンブルのへESプロフィ
ールを示すグラフ。 1・・・・・・・・・真空容器 2・・・・・・・
・・仕 切 壁3・・・・・・・・・上 室 4
・・・・・・・・・下 室5.6・・・排 気 孔
7・・・・・・・・・テープ状暴体8・・・・・・
・・・送り出しロール 9・・・・・・・・・巻取りロール 10・・・・・・
・・・冷lJ]キレン11・・・・・・・・・蒸 J?
源 12・・・・・・・・・磁性材料13・・・
・・・・・・マ ス り 14・・・・・・・・・第
1ガス導入口15・・・・・・・・・イオン化銃 1
6・・・・・・・・・第2ガス導入口第1図 第2図
れる装置の1例を示す概略図、@2図は本発明の一実施
例による磁気記録媒体ど比較ナンブルのへESプロフィ
ールを示すグラフ。 1・・・・・・・・・真空容器 2・・・・・・・
・・仕 切 壁3・・・・・・・・・上 室 4
・・・・・・・・・下 室5.6・・・排 気 孔
7・・・・・・・・・テープ状暴体8・・・・・・
・・・送り出しロール 9・・・・・・・・・巻取りロール 10・・・・・・
・・・冷lJ]キレン11・・・・・・・・・蒸 J?
源 12・・・・・・・・・磁性材料13・・・
・・・・・・マ ス り 14・・・・・・・・・第
1ガス導入口15・・・・・・・・・イオン化銃 1
6・・・・・・・・・第2ガス導入口第1図 第2図
Claims (1)
- 1)非磁性基体上に強磁性薄膜を設けてなる磁気記録媒
体において、該強磁性薄膜が窒化鉄を主成分とし、かつ
該強磁性薄膜中に含まれる窒素原子の鉄原子に対する比
率が該強磁性薄膜の深さ方向において前記基体から離れ
るにつれて漸増していることを特徴とする磁気記録媒体
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17616184A JPS6154020A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17616184A JPS6154020A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6154020A true JPS6154020A (ja) | 1986-03-18 |
Family
ID=16008728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17616184A Pending JPS6154020A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6154020A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63152020A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63241718A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63253524A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-08-24 JP JP17616184A patent/JPS6154020A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63152020A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63241718A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63253524A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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