JPH04217938A - メチルイソブチルケトンの製造方法 - Google Patents
メチルイソブチルケトンの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアセトンと水素から一段
の反応でメチルイソブチルケトンを製造する方法に関す
るものである。メチルイソブチルケトン(以下MIBK
と称す)は、有機溶剤、塗料、安定剤等の原料として工
業的に有用である。
の反応でメチルイソブチルケトンを製造する方法に関す
るものである。メチルイソブチルケトン(以下MIBK
と称す)は、有機溶剤、塗料、安定剤等の原料として工
業的に有用である。
【0002】
【従来の技術】MIBKは一般にアセトンと水素を原料
として、次のような三段法によって工業的に製造されて
いる。 縮
合 アセトン────→ジアセ
トンアルコール *
脱 水
*────→メシルオキシド **
水素化
**────→メチルイソブ
チルケトンこの方法の特徴は上式に示される縮合、脱水
、及び水素化の工程を順次おこなうものであり、工程は
長い。第一段目においてはアセトンを水酸化バリウム等
の固体アルカリ触媒を用いて10〜20℃、常圧、液相
で接触させることにより、ジアセトンアルコールを合成
する。次いで縮合して得られたジアセトンアルコールを
末反応アセトンから分離し、ついでジアセトンアルコー
ルを硫酸、リン酸等の酸触媒の存在下に液相で100〜
120℃に加熱して脱水し、メシチルオキシドを得る。 続いてこのメシチルオキシドを分離精製したのち、パラ
ジウム触媒等の存在下に水素化を行うことによってMI
BKを製造する。
として、次のような三段法によって工業的に製造されて
いる。 縮
合 アセトン────→ジアセ
トンアルコール *
脱 水
*────→メシルオキシド **
水素化
**────→メチルイソブ
チルケトンこの方法の特徴は上式に示される縮合、脱水
、及び水素化の工程を順次おこなうものであり、工程は
長い。第一段目においてはアセトンを水酸化バリウム等
の固体アルカリ触媒を用いて10〜20℃、常圧、液相
で接触させることにより、ジアセトンアルコールを合成
する。次いで縮合して得られたジアセトンアルコールを
末反応アセトンから分離し、ついでジアセトンアルコー
ルを硫酸、リン酸等の酸触媒の存在下に液相で100〜
120℃に加熱して脱水し、メシチルオキシドを得る。 続いてこのメシチルオキシドを分離精製したのち、パラ
ジウム触媒等の存在下に水素化を行うことによってMI
BKを製造する。
【0003】この方法は広く工業的に行なわれているが
、縮合、脱水、水素化工程とその工程が長く、また、そ
の過程でジアセトンアルコール、メシチルオキシド等中
間体の分離操作を必要とし、操作が繁雑である。さらに
アセトンからジアセトンアルコールへの縮合反応は平衡
反応のためその転化率は15%程度であり、低いという
問題点がある。
、縮合、脱水、水素化工程とその工程が長く、また、そ
の過程でジアセトンアルコール、メシチルオキシド等中
間体の分離操作を必要とし、操作が繁雑である。さらに
アセトンからジアセトンアルコールへの縮合反応は平衡
反応のためその転化率は15%程度であり、低いという
問題点がある。
【0004】そのためにアセトンと水素から直接一工程
でMIBKを製造する方法について種々検討が行なわれ
ている。この方法は平衡的に非常に有利であり、1回通
過あたりの原料転化率を上げることができ、三段法に比
して経済的に有利となる。このような一段法によるMI
BKの製造法として■ 酸型イオン交換樹脂とパラジ
ウム−炭素を触媒としてMIBKを合成する方法(西独
特許第1233453号、)■ リン酸ジルコニウム
にパラジウムを担持させた触媒を用いる方法(特公昭4
9−6994号)、■ H型ゼオライトにパラジウム
を担持させた触媒を用いる方法(特公昭46−2643
号)、■ パラジウム−IVB族金属酸化物を触媒と
して用いる方法(特公昭52−15574号)、■
パラジウム−ニオブ酸触媒を用いる方法(特開昭61−
78745号)などが報告されている。
でMIBKを製造する方法について種々検討が行なわれ
ている。この方法は平衡的に非常に有利であり、1回通
過あたりの原料転化率を上げることができ、三段法に比
して経済的に有利となる。このような一段法によるMI
BKの製造法として■ 酸型イオン交換樹脂とパラジ
ウム−炭素を触媒としてMIBKを合成する方法(西独
特許第1233453号、)■ リン酸ジルコニウム
にパラジウムを担持させた触媒を用いる方法(特公昭4
9−6994号)、■ H型ゼオライトにパラジウム
を担持させた触媒を用いる方法(特公昭46−2643
号)、■ パラジウム−IVB族金属酸化物を触媒と
して用いる方法(特公昭52−15574号)、■
パラジウム−ニオブ酸触媒を用いる方法(特開昭61−
78745号)などが報告されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法においては、樹脂を用いているために反応温度を
高めることができない、触媒調製が煩雑である、さらに
目的とするMIBKへの選択率が低く、あるいは触媒活
性が高くないという欠点を有しており、工業的に満足で
きる結果が得られなかった。
の方法においては、樹脂を用いているために反応温度を
高めることができない、触媒調製が煩雑である、さらに
目的とするMIBKへの選択率が低く、あるいは触媒活
性が高くないという欠点を有しており、工業的に満足で
きる結果が得られなかった。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる従
来技術の問題点を解決し、アセトンと水素から一工程で
MIBKを収率よく製造する方法の開発に鋭意努めた結
果本発明に到達した。すなわち、本発明は、一般式(I
): R1 a (OR2 )
b Xc Si …(I)(式中、
R1 及びR2 は夫々、水素並びに炭素数の合計が3
0以下である、置換基を有していてもよいアルキル基、
ビニル基及びアリール基からなる群から選ばれるものを
表わし、R1 及びR2は相互に同一でも異なっていて
もよく、Xは水素、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から
なる群から選ばれる元素を表わし、a,b及びcは0≦
a<4、0≦b≦4、0≦c≦4であり、かつ、a+b
+c=4である)で表わされる有機ケイ素化合物で処理
された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジウム
の存在下、アセトンと水素とを接触させることを特徴と
するメチルイソブチルケトンの製造方法、を要旨とする
ものである。
来技術の問題点を解決し、アセトンと水素から一工程で
MIBKを収率よく製造する方法の開発に鋭意努めた結
果本発明に到達した。すなわち、本発明は、一般式(I
): R1 a (OR2 )
b Xc Si …(I)(式中、
R1 及びR2 は夫々、水素並びに炭素数の合計が3
0以下である、置換基を有していてもよいアルキル基、
ビニル基及びアリール基からなる群から選ばれるものを
表わし、R1 及びR2は相互に同一でも異なっていて
もよく、Xは水素、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から
なる群から選ばれる元素を表わし、a,b及びcは0≦
a<4、0≦b≦4、0≦c≦4であり、かつ、a+b
+c=4である)で表わされる有機ケイ素化合物で処理
された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジウム
の存在下、アセトンと水素とを接触させることを特徴と
するメチルイソブチルケトンの製造方法、を要旨とする
ものである。
【0007】以下に本発明につき更に詳細に説明する。
本発明方法は、一般式(I):
R1 a (OR2 )
b Xc Si …(I)(式中、
R1 及びR2 は夫々、水素並びに炭素数の合計が3
0以下である、置換基を有していてもよいアルキル基、
ビニル基及びアリール基からなる群から選ばれるものを
表わし、R1 及びR2は相互に同一でも異なっていて
もよく、Xは水素、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から
なる群から選ばれる元素を表わし、a,b及びcは0≦
a<4、0≦b≦4、0≦c≦4であり、かつ、a+b
+c=4である)で表わされる有機ケイ素化合物で処理
された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジウム
の存在下、アセトンと水素とを接触させることを特徴と
する。
b Xc Si …(I)(式中、
R1 及びR2 は夫々、水素並びに炭素数の合計が3
0以下である、置換基を有していてもよいアルキル基、
ビニル基及びアリール基からなる群から選ばれるものを
表わし、R1 及びR2は相互に同一でも異なっていて
もよく、Xは水素、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から
なる群から選ばれる元素を表わし、a,b及びcは0≦
a<4、0≦b≦4、0≦c≦4であり、かつ、a+b
+c=4である)で表わされる有機ケイ素化合物で処理
された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジウム
の存在下、アセトンと水素とを接触させることを特徴と
する。
【0008】上記一般式(I)で表わされる有機ケイ素
化合物について、R1 及びR2 は、■水素、■炭素
数の合計が30以下である、置換基を有していてもよい
アルキル基、■炭素数の合計が30以下である、置換基
を有していてもよいビニル基、及び、■炭素数の合計が
30以下である、置換基を有していてもよいアリール基
からなる群から選ばれるものであり、夫々置換基中に炭
素−炭素二重結合を含んでいてもよく、更に、夫々酸素
、窒素、イオウ、ケイ素等のヘテロ原子を含んでいても
よい。
化合物について、R1 及びR2 は、■水素、■炭素
数の合計が30以下である、置換基を有していてもよい
アルキル基、■炭素数の合計が30以下である、置換基
を有していてもよいビニル基、及び、■炭素数の合計が
30以下である、置換基を有していてもよいアリール基
からなる群から選ばれるものであり、夫々置換基中に炭
素−炭素二重結合を含んでいてもよく、更に、夫々酸素
、窒素、イオウ、ケイ素等のヘテロ原子を含んでいても
よい。
【0009】また、一般式(I)で表わされる有機ケイ
素化合物はケイ素原子が複数に連なったものでもよい。 この様な有機ケイ素化合物の具体的な例として、
素化合物はケイ素原子が複数に連なったものでもよい。 この様な有機ケイ素化合物の具体的な例として、
【00
10】
10】
【化1】
などが挙げられる。(なお、Meはメチル基、Viはビ
ニル基、Phはフェニル基、Etはエチル基を夫々表わ
す。以下同様。)前記した有機ケイ素化合物をあらわす
一般式(I)において、c=0、すなわちXを含まない
ものを使用することが好ましい。この様な有機ケイ素化
合物の例として、
ニル基、Phはフェニル基、Etはエチル基を夫々表わ
す。以下同様。)前記した有機ケイ素化合物をあらわす
一般式(I)において、c=0、すなわちXを含まない
ものを使用することが好ましい。この様な有機ケイ素化
合物の例として、
【0011】
【化2】
【0012】
【化3】
などが挙げられる。また一方本発明で用いる金属酸化物
及び/又は金属水酸化物としては、アセトンの二量化並
びに脱水反応を生ぜしめる作用を有するものであれば特
に限定されるものではなく、例えば、周期律表IIA、
IIB、III A、III B、IVA、IVB、V
B、VIB族等の元素の1種以上のものが挙げられる。
及び/又は金属水酸化物としては、アセトンの二量化並
びに脱水反応を生ぜしめる作用を有するものであれば特
に限定されるものではなく、例えば、周期律表IIA、
IIB、III A、III B、IVA、IVB、V
B、VIB族等の元素の1種以上のものが挙げられる。
【0013】具体的にはMg、Ca等のIIA族元素、
Zn、Cd等のIIB族元素、Al、Ga等のIII
A族元素、Sc、Y、Ce等のランタノイド元素等のI
II B族元素、Si、Ge等のIVA族元素、Ti、
Zr、Hf等のIVB族元素、Nb、Ta等のVB族元
素、Cr、Mo、W等のVIB族元素等が使用され、よ
り好ましくはTi、Zr等のIVB族元素、Nb等のV
B族元素あるいはSiやAl等の酸化物及び/又は水酸
化物を用いるのがよい。より具体的には、TiO2 、
SiO2 、Al2 O3 、Nb2 O5 、ZrO
2 等の酸化物あるいはこれらに対応する水酸化物、更
にはゼオライト等の複合酸化物を用いるのがよい。これ
ら金属酸化物及び金属水酸化物は対応する元素の塩、ハ
ロゲン化物、オキシハロゲン化物などを原料として沈澱
法、熱分解法、酸化法などにより調製することが可能で
ある。
Zn、Cd等のIIB族元素、Al、Ga等のIII
A族元素、Sc、Y、Ce等のランタノイド元素等のI
II B族元素、Si、Ge等のIVA族元素、Ti、
Zr、Hf等のIVB族元素、Nb、Ta等のVB族元
素、Cr、Mo、W等のVIB族元素等が使用され、よ
り好ましくはTi、Zr等のIVB族元素、Nb等のV
B族元素あるいはSiやAl等の酸化物及び/又は水酸
化物を用いるのがよい。より具体的には、TiO2 、
SiO2 、Al2 O3 、Nb2 O5 、ZrO
2 等の酸化物あるいはこれらに対応する水酸化物、更
にはゼオライト等の複合酸化物を用いるのがよい。これ
ら金属酸化物及び金属水酸化物は対応する元素の塩、ハ
ロゲン化物、オキシハロゲン化物などを原料として沈澱
法、熱分解法、酸化法などにより調製することが可能で
ある。
【0014】前記した様な有機ケイ素化合物による金属
酸化物及び/又は金属水酸化物の処理は液相または気相
で実施される。液相で処理を実施する場合には有機ケイ
素化合物を炭化水素、ハロゲン化炭化水素などの溶媒に
溶解し、金属酸化物及び/又は金属水酸化物を添加し、
室温あるいは加熱して静置あるいは撹拌する処理が通常
行なわれる。使用する溶媒自身が有機ケイ素化合物と反
応することを軽減するために、水分を除去してから使用
することが好ましい。該溶媒に対する有機ケイ素化合物
の濃度は通常、0.01〜70重量%、好ましくは、0
.1〜30重量%である。また有機ケイ素化合物の溶液
に対する金属酸化物及び/又は金属水酸化物の割合は約
50重量%以下、好ましくは0.1〜30重量%の範囲
である。より具体的にはトルエン、ベンゼンなどの溶媒
を用い、例えばトルエンを使用した場合、蒸留あるいは
脱水剤などを添加して水分を除去したのち、有機ケイ素
化合物を添加溶解させ、そこに金属酸化物及び/又は金
属水酸化物を添加する。処理を実施する温度に関しては
、室温で長時間静置しておいても処理をすすめることは
可能であるが、処理を十分に、また、金属酸化物及び/
又は金属水酸化物全体にわたり、均質に処理するために
は撹拌することが好ましい。さらに加熱することにより
、有機ケイ素化合物による処理を短時間で完了させるこ
とができ、有利である。この様に加熱、撹拌する方法と
して、使用した有機溶媒の沸点において加熱還流する処
理が簡便である。この加熱還流処理は、大気圧あるいは
溶媒によっては、減圧下で実施される。処理に要する時
間は温度により異なるが通常1〜15時間である。なお
、上記の様にして、有機ケイ素化合物により、金属酸化
物及び/又は金属水酸化物を処理する際に微量の酸性あ
るいは塩基性物質、具体的にはトリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ピペリジン、キノリンなどの
含窒素有機化合物を添加すると処理が促進され有利であ
る。
酸化物及び/又は金属水酸化物の処理は液相または気相
で実施される。液相で処理を実施する場合には有機ケイ
素化合物を炭化水素、ハロゲン化炭化水素などの溶媒に
溶解し、金属酸化物及び/又は金属水酸化物を添加し、
室温あるいは加熱して静置あるいは撹拌する処理が通常
行なわれる。使用する溶媒自身が有機ケイ素化合物と反
応することを軽減するために、水分を除去してから使用
することが好ましい。該溶媒に対する有機ケイ素化合物
の濃度は通常、0.01〜70重量%、好ましくは、0
.1〜30重量%である。また有機ケイ素化合物の溶液
に対する金属酸化物及び/又は金属水酸化物の割合は約
50重量%以下、好ましくは0.1〜30重量%の範囲
である。より具体的にはトルエン、ベンゼンなどの溶媒
を用い、例えばトルエンを使用した場合、蒸留あるいは
脱水剤などを添加して水分を除去したのち、有機ケイ素
化合物を添加溶解させ、そこに金属酸化物及び/又は金
属水酸化物を添加する。処理を実施する温度に関しては
、室温で長時間静置しておいても処理をすすめることは
可能であるが、処理を十分に、また、金属酸化物及び/
又は金属水酸化物全体にわたり、均質に処理するために
は撹拌することが好ましい。さらに加熱することにより
、有機ケイ素化合物による処理を短時間で完了させるこ
とができ、有利である。この様に加熱、撹拌する方法と
して、使用した有機溶媒の沸点において加熱還流する処
理が簡便である。この加熱還流処理は、大気圧あるいは
溶媒によっては、減圧下で実施される。処理に要する時
間は温度により異なるが通常1〜15時間である。なお
、上記の様にして、有機ケイ素化合物により、金属酸化
物及び/又は金属水酸化物を処理する際に微量の酸性あ
るいは塩基性物質、具体的にはトリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ピペリジン、キノリンなどの
含窒素有機化合物を添加すると処理が促進され有利であ
る。
【0015】この様にして有機ケイ素化合物により処理
したのち、濾過により処理された金属酸化物及び/又は
金属水酸化物は有機ケイ素化合物を含む溶液から分離さ
れ、次いで炭化水素、ハロゲン化炭化水素、あるいはア
ルコール、エーテルなどにより洗浄されたのち、大気圧
あるいは減圧下で乾燥される。一方、有機ケイ素化合物
による処理を気相で実施する場合は有機ケイ素化合物を
単独で、あるいは前記した様な有機溶媒に溶解させた溶
液の蒸気を真空中あるいは不活性ガス中で金属化合物及
び/又は金属水酸化物に導入し、処理をおこなうもので
あり、処理の温度や蒸気の圧力は、使用する有機ケイ素
化合物及び有機溶媒の蒸気圧によって決定される。
したのち、濾過により処理された金属酸化物及び/又は
金属水酸化物は有機ケイ素化合物を含む溶液から分離さ
れ、次いで炭化水素、ハロゲン化炭化水素、あるいはア
ルコール、エーテルなどにより洗浄されたのち、大気圧
あるいは減圧下で乾燥される。一方、有機ケイ素化合物
による処理を気相で実施する場合は有機ケイ素化合物を
単独で、あるいは前記した様な有機溶媒に溶解させた溶
液の蒸気を真空中あるいは不活性ガス中で金属化合物及
び/又は金属水酸化物に導入し、処理をおこなうもので
あり、処理の温度や蒸気の圧力は、使用する有機ケイ素
化合物及び有機溶媒の蒸気圧によって決定される。
【0016】次に、前記した様にして有機ケイ素化合物
により処理された金属酸化物及び/又は金属水酸化物は
、パラジウム−炭素、パラジウム−アルミナ、パラジウ
ムブラックなどのパラジウムと、後述するアセトンと水
素との反応系内又は反応系外で、物理的に混合し反応に
用いるか、あるいは、前記した様にして有機ケイ素化合
物により処理された金属化合物及び/又は金属水酸化物
にパラジウムを担持させてアセトンと水素との接触反応
に用いる。あるいは、予め常法によりパラジウムを担持
させた金属酸化物及び/又は金属水酸化物を、前記した
様にして有機ケイ素化合物により処理することによりア
セトンと水素との接触反応に用いる。パラジウムの使用
量は金属酸化物及び/又は金属水酸化物に対して通常0
.001〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量%
の範囲である。
により処理された金属酸化物及び/又は金属水酸化物は
、パラジウム−炭素、パラジウム−アルミナ、パラジウ
ムブラックなどのパラジウムと、後述するアセトンと水
素との反応系内又は反応系外で、物理的に混合し反応に
用いるか、あるいは、前記した様にして有機ケイ素化合
物により処理された金属化合物及び/又は金属水酸化物
にパラジウムを担持させてアセトンと水素との接触反応
に用いる。あるいは、予め常法によりパラジウムを担持
させた金属酸化物及び/又は金属水酸化物を、前記した
様にして有機ケイ素化合物により処理することによりア
セトンと水素との接触反応に用いる。パラジウムの使用
量は金属酸化物及び/又は金属水酸化物に対して通常0
.001〜10重量%、好ましくは0.01〜5重量%
の範囲である。
【0017】本発明方法のアセトンと水素との接触反応
は液相または気相で実施されるが、液相で行われること
が好ましい。反応形態としては有機ケイ素化合物により
処理された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジ
ウムとを断熱または等温型反応器に存在させ、そこにア
セトンと水素とを通じるいわゆる固定床流通反応でMI
BKの製造をおこなってもよい。あるいは、有機ケイ素
化合物により処理された金属酸化物及び/又は金属水酸
化物とパラジウムより成る物質をアセトン中に懸濁させ
、そこに水素を吹きこんで反応を行なわしめてもよい。 固定床流通反応で反応をおこなう場合、トリクル方式の
様な反応形式を採用してもよい。懸濁法で反応を行なう
場合、反応を回分式または連続式のいずれの方法で行な
ってもよい。反応温度は通常30〜250℃、好ましく
は、80〜160℃の範囲がよい。反応圧力は通常大気
圧〜50気圧で反応が行なわれ、反応温度にもよるが好
ましくは5〜30気圧である。
は液相または気相で実施されるが、液相で行われること
が好ましい。反応形態としては有機ケイ素化合物により
処理された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジ
ウムとを断熱または等温型反応器に存在させ、そこにア
セトンと水素とを通じるいわゆる固定床流通反応でMI
BKの製造をおこなってもよい。あるいは、有機ケイ素
化合物により処理された金属酸化物及び/又は金属水酸
化物とパラジウムより成る物質をアセトン中に懸濁させ
、そこに水素を吹きこんで反応を行なわしめてもよい。 固定床流通反応で反応をおこなう場合、トリクル方式の
様な反応形式を採用してもよい。懸濁法で反応を行なう
場合、反応を回分式または連続式のいずれの方法で行な
ってもよい。反応温度は通常30〜250℃、好ましく
は、80〜160℃の範囲がよい。反応圧力は通常大気
圧〜50気圧で反応が行なわれ、反応温度にもよるが好
ましくは5〜30気圧である。
【0018】
【実施例】以下に実施例により本発明の実施形態をさら
に具体的に説明するが本発明はその要旨を越えない限り
以下の実施例によって限定されるものではない。 実施例1 ■ 水酸化ジルコニルの処理 市販の水酸化ジルコニル5gを100℃、0.01To
rrで2時間真空排気処理をおこなった。撹拌器を備え
た内容積500mlのフラスコに脱水処理されたトルエ
ン100ml、n−オクタデシルトリエトキシシラン1
0ml、少量(駒込ピペットにより2〜3滴)のトリエ
チルアミンを添加し、均一溶液を形成させたところへ、
前記の様にして真空排気処理した水酸化ジルコニルを添
加した。フラスコ上部に冷却用コンデンサーを装着し、
フラスコ内をアルゴンガスで置換し、撹拌しつつ加熱し
、約110℃で沸騰状態とした。沸騰状態を6時間保っ
たのち、室温に冷却し、濾過により、n−オクタデシル
トリエトキシシランのトルエン溶液と分離した。さらに
トルエンにより、次いでメタノールにより洗浄した後、
120℃、4時間、大気圧下で乾燥した。■ 処理さ
れた水酸化ジルコニルとパラジウムとの混合■で記した
様にして処理された水酸化ジルコニル1gに市販の2%
パラジウム−活性炭0.05gを混合して下記■の反応
に供した。 ■ アセトンと水素との反応によるMIBKの製造内
容積約100mlのSUS316製オートクレーブに■
に記したn−オクタデシルトリエトキシシランで処理し
た水酸化ジルコニルとパラジウムとの混合物約1gとア
セトン40mlを仕込み、135℃に加熱し、水素圧で
全圧を9.5kg/cm2 Gとして4時間反応をお
こなった。反応中は水素を連続的に供給して常に全圧を
一定に保った。反応液は冷却後、触媒を分離し、ガスク
ロマトグラフィーにより分析した。結果を表1に示す。
に具体的に説明するが本発明はその要旨を越えない限り
以下の実施例によって限定されるものではない。 実施例1 ■ 水酸化ジルコニルの処理 市販の水酸化ジルコニル5gを100℃、0.01To
rrで2時間真空排気処理をおこなった。撹拌器を備え
た内容積500mlのフラスコに脱水処理されたトルエ
ン100ml、n−オクタデシルトリエトキシシラン1
0ml、少量(駒込ピペットにより2〜3滴)のトリエ
チルアミンを添加し、均一溶液を形成させたところへ、
前記の様にして真空排気処理した水酸化ジルコニルを添
加した。フラスコ上部に冷却用コンデンサーを装着し、
フラスコ内をアルゴンガスで置換し、撹拌しつつ加熱し
、約110℃で沸騰状態とした。沸騰状態を6時間保っ
たのち、室温に冷却し、濾過により、n−オクタデシル
トリエトキシシランのトルエン溶液と分離した。さらに
トルエンにより、次いでメタノールにより洗浄した後、
120℃、4時間、大気圧下で乾燥した。■ 処理さ
れた水酸化ジルコニルとパラジウムとの混合■で記した
様にして処理された水酸化ジルコニル1gに市販の2%
パラジウム−活性炭0.05gを混合して下記■の反応
に供した。 ■ アセトンと水素との反応によるMIBKの製造内
容積約100mlのSUS316製オートクレーブに■
に記したn−オクタデシルトリエトキシシランで処理し
た水酸化ジルコニルとパラジウムとの混合物約1gとア
セトン40mlを仕込み、135℃に加熱し、水素圧で
全圧を9.5kg/cm2 Gとして4時間反応をお
こなった。反応中は水素を連続的に供給して常に全圧を
一定に保った。反応液は冷却後、触媒を分離し、ガスク
ロマトグラフィーにより分析した。結果を表1に示す。
【0019】
【表1】
比較例1
市販の水酸化ジルコニル1gを、何ら処理せずに実施例
1の■に記した様に市販の2%パラジウム−活性炭0.
05gと混合した後、実施例1の■に記したのと同様に
してアセトンと水素との反応をおこなった。アセトン転
化率は実施例1におけるのとほぼ同様であった。MIB
K選択率91.6%、IPA選択率0.9%、DIBK
選択率3.9%及びMC7K選択率0.8%であった。 実施例2 実施例1において、水酸化ジルコニルの代わりに、チタ
ンテトラn−ブトキシドを加水分解して調製した水酸化
チタン5gを用いて、n−オクタデシルトリエトキシシ
ランによる処理、2%パラジウム−活性炭との混合、ア
セトンと水素との反応を行なった。アセトン転化率は2
9.7%であった。各生成物の選択率を表2に示す。 比較例2 比較例1において、水酸化ジルコニルの代わりに実施例
2に記した水酸化チタン1gを使用した以外は同様にし
て行なった。アセトン転化率は実施例2におけるのとほ
ぼ同様であった。各生成物の選択率を表2に示す。 実施例3 実施例1において、水酸化ジルコニルの代わりに、市販
の含水酸化ニオブ5gを用いてn−オクタデシルトリエ
トキシシランによる処理、2%パラジウム−活性炭との
混合、アセトンと水素との反応を行なった。アセトン転
化率は18.0%であった。各生成物の選択率を表2に
示す。 比較例3 比較例1において、水酸化ジルコニルの代わりに実施例
3に記した含水酸化ニオブ1gを使用した以外は同様に
して行なった。アセトン転化率は実施例3におけるのと
ほぼ同様であった。各生成物の選択率を表2に示す。 実施例4 実施例1において、水酸化ジルコニルの代わりに市販の
炭酸セリウムを空気中300℃で熱分解して調製した酸
化セリウム5gを用いて、n−オクタデシルトリエトキ
シシランによる処理、2%パラジウム−活性炭との混合
、アセトンと水素との反応を行なった。アセトン転化率
は32.4%であった。各生成物の選択率を表2に示す
。 比較例4 比較例1において、水酸化ジルコニルの代わりに実施例
4に記した酸化セリウム1gを使用した以外は同様にし
て行なった。アセトン転化率は実施例4におけるのとほ
ぼ同様であった。各生成物の選択率を表2に示す。
1の■に記した様に市販の2%パラジウム−活性炭0.
05gと混合した後、実施例1の■に記したのと同様に
してアセトンと水素との反応をおこなった。アセトン転
化率は実施例1におけるのとほぼ同様であった。MIB
K選択率91.6%、IPA選択率0.9%、DIBK
選択率3.9%及びMC7K選択率0.8%であった。 実施例2 実施例1において、水酸化ジルコニルの代わりに、チタ
ンテトラn−ブトキシドを加水分解して調製した水酸化
チタン5gを用いて、n−オクタデシルトリエトキシシ
ランによる処理、2%パラジウム−活性炭との混合、ア
セトンと水素との反応を行なった。アセトン転化率は2
9.7%であった。各生成物の選択率を表2に示す。 比較例2 比較例1において、水酸化ジルコニルの代わりに実施例
2に記した水酸化チタン1gを使用した以外は同様にし
て行なった。アセトン転化率は実施例2におけるのとほ
ぼ同様であった。各生成物の選択率を表2に示す。 実施例3 実施例1において、水酸化ジルコニルの代わりに、市販
の含水酸化ニオブ5gを用いてn−オクタデシルトリエ
トキシシランによる処理、2%パラジウム−活性炭との
混合、アセトンと水素との反応を行なった。アセトン転
化率は18.0%であった。各生成物の選択率を表2に
示す。 比較例3 比較例1において、水酸化ジルコニルの代わりに実施例
3に記した含水酸化ニオブ1gを使用した以外は同様に
して行なった。アセトン転化率は実施例3におけるのと
ほぼ同様であった。各生成物の選択率を表2に示す。 実施例4 実施例1において、水酸化ジルコニルの代わりに市販の
炭酸セリウムを空気中300℃で熱分解して調製した酸
化セリウム5gを用いて、n−オクタデシルトリエトキ
シシランによる処理、2%パラジウム−活性炭との混合
、アセトンと水素との反応を行なった。アセトン転化率
は32.4%であった。各生成物の選択率を表2に示す
。 比較例4 比較例1において、水酸化ジルコニルの代わりに実施例
4に記した酸化セリウム1gを使用した以外は同様にし
て行なった。アセトン転化率は実施例4におけるのとほ
ぼ同様であった。各生成物の選択率を表2に示す。
【0020】
【表2】
実施例5
実施例1において、n−オクタデシルトリエトキシシラ
ンの代わりに、n−ドデシルトリエトキシシランを用い
た以外は同様に行なった。結果を表3に示す。 実施例6 実施例1においてn−オクタデシルトリエトキシシラン
の代わりに、n−オクチルトリエトキシシランを用いた
以外は同様に行なった。結果を表3に示す。 実施例7 実施例1においてn−オクタデシルトリエトキシシラン
の代わりにジフェニルジメトキシシランを用いた以外は
同様に行なった。結果を表3に示す。
ンの代わりに、n−ドデシルトリエトキシシランを用い
た以外は同様に行なった。結果を表3に示す。 実施例6 実施例1においてn−オクタデシルトリエトキシシラン
の代わりに、n−オクチルトリエトキシシランを用いた
以外は同様に行なった。結果を表3に示す。 実施例7 実施例1においてn−オクタデシルトリエトキシシラン
の代わりにジフェニルジメトキシシランを用いた以外は
同様に行なった。結果を表3に示す。
【0021】
【表3】
実施例8
市販の水酸化ジルコニルにパラジウムとして0.1重量
%となるようにパラジウムを担持した。かかるパラジウ
ムが担持された水酸化ジルコニルに実施例1と同様な方
法でn−オクタデシルトリエトキシシランを用いて処理
を行なった。この触媒1ml(24〜60メッシュ)を
内径8mmのSUS製反応管に充填し、反応温度120
℃、全圧(水素圧)9kg/cm2 ・Gの条件下に、
アセトンを12ml/h(LHSV=12h−1)、水
素12.2Nml/minの供給速度で反応管に導入し
流通反応を行なった。10時間後の反応結果はアセトン
転化率31.3%、MIBK選択率93.2%、IPA
選択率0.6%、DIBK選択率3.0%、MC7K選
択率0.7%であった。
%となるようにパラジウムを担持した。かかるパラジウ
ムが担持された水酸化ジルコニルに実施例1と同様な方
法でn−オクタデシルトリエトキシシランを用いて処理
を行なった。この触媒1ml(24〜60メッシュ)を
内径8mmのSUS製反応管に充填し、反応温度120
℃、全圧(水素圧)9kg/cm2 ・Gの条件下に、
アセトンを12ml/h(LHSV=12h−1)、水
素12.2Nml/minの供給速度で反応管に導入し
流通反応を行なった。10時間後の反応結果はアセトン
転化率31.3%、MIBK選択率93.2%、IPA
選択率0.6%、DIBK選択率3.0%、MC7K選
択率0.7%であった。
【0022】
【発明の効果】本発明方法によればアセトンと水素から
、高選択的に経済的に有利にメチルイソブチルケトンを
製造することができる。
、高選択的に経済的に有利にメチルイソブチルケトンを
製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式(I): R1 a (OR2 )
b Xc Si …(I)(式中、
R1 及びR2 は夫々、水素並びに炭素数の合計が3
0以下である、置換基を有していてもよいアルキル基、
ビニル基及びアリール基からなる群から選ばれるものを
表わし、R1 及びR2は相互に同一でも異なっていて
もよく、Xは水素、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から
なる群から選ばれる元素を表わし、a,b及びcは0≦
a<4、0≦b≦4、0≦c≦4であり、かつ、a+b
+c=4である)で表わされる有機ケイ素化合物で処理
された金属酸化物及び/又は金属水酸化物とパラジウム
の存在下、アセトンと水素とを接触させることを特徴と
するメチルイソブチルケトンの製造方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載のメチルイソブチルケ
トンの製造方法において、有機ケイ素化合物が、一般式
(I)において、c=0であるものであることを特徴と
する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3092411A JPH04217938A (ja) | 1990-05-21 | 1991-04-23 | メチルイソブチルケトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13055390 | 1990-05-21 | ||
| JP2-130553 | 1990-05-21 | ||
| JP3092411A JPH04217938A (ja) | 1990-05-21 | 1991-04-23 | メチルイソブチルケトンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04217938A true JPH04217938A (ja) | 1992-08-07 |
Family
ID=26433848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3092411A Pending JPH04217938A (ja) | 1990-05-21 | 1991-04-23 | メチルイソブチルケトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04217938A (ja) |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP3092411A patent/JPH04217938A/ja active Pending
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