JPH04219733A - 透明電極のパターンを有する基板を具えたデバイスの製造方法 - Google Patents
透明電極のパターンを有する基板を具えたデバイスの製造方法Info
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- JPH04219733A JPH04219733A JP3063762A JP6376291A JPH04219733A JP H04219733 A JPH04219733 A JP H04219733A JP 3063762 A JP3063762 A JP 3063762A JP 6376291 A JP6376291 A JP 6376291A JP H04219733 A JPH04219733 A JP H04219733A
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- H10F71/138—Manufacture of transparent electrodes, e.g. transparent conductive oxides [TCO] or indium tin oxide [ITO] electrodes
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、透明電極のパターンを
有する基板を具え、前記透明電極は少なくとも局部的に
金属層で被覆されているデバイスの製造方法に関するも
のである。
有する基板を具え、前記透明電極は少なくとも局部的に
金属層で被覆されているデバイスの製造方法に関するも
のである。
【0002】このようなデバイスはLCD のような電
気光学的表示装置の一部を形成することができるが、他
の適用も可能である。液晶表示装置では、画素を画成す
るガラスに堆積させたインジウム錫酸化物(ITO)電
極を使用するのが普通である。
気光学的表示装置の一部を形成することができるが、他
の適用も可能である。液晶表示装置では、画素を画成す
るガラスに堆積させたインジウム錫酸化物(ITO)電
極を使用するのが普通である。
【0003】
【従来の技術】液晶表示装置においてインジウム錫酸化
物(ITO) トラックが他の金属層で被覆されている
上述の種類のデバイスは米国特許第4,543,573
号明細書に記載されている。特に、この方法では、ク
ロムおよびニッケル(または金)の二重層をITO ト
ラックの上に設けてITOトラックを補強し、かつ抵抗
を低下させる。この米国特許明細書にはインジウム錫酸
化物層の上にいくつかの金属層を設けることができるこ
とが記載されているが、この可能性は特に貴金属の場合
には否定される。その理由は貴金属がインジウム錫酸化
物トラックに満足に付着せず、従って剥離し易いからで
ある。
物(ITO) トラックが他の金属層で被覆されている
上述の種類のデバイスは米国特許第4,543,573
号明細書に記載されている。特に、この方法では、ク
ロムおよびニッケル(または金)の二重層をITO ト
ラックの上に設けてITOトラックを補強し、かつ抵抗
を低下させる。この米国特許明細書にはインジウム錫酸
化物層の上にいくつかの金属層を設けることができるこ
とが記載されているが、この可能性は特に貴金属の場合
には否定される。その理由は貴金属がインジウム錫酸化
物トラックに満足に付着せず、従って剥離し易いからで
ある。
【0004】本発明の第1の目的は、米国特許第4,5
43,573 号明細書に記載されている方法とは異な
り、貴金属層をインジウム錫酸化物層に満足に付着させ
ることができる方法を提供することにある。本発明の第
2の目的は、比較的簡単な(工程数の少ない)ホトリソ
グラフィを使用することで十分であるので、比較的簡単
で、従って費用の安い方法を提供することにある。
43,573 号明細書に記載されている方法とは異な
り、貴金属層をインジウム錫酸化物層に満足に付着させ
ることができる方法を提供することにある。本発明の第
2の目的は、比較的簡単な(工程数の少ない)ホトリソ
グラフィを使用することで十分であるので、比較的簡単
で、従って費用の安い方法を提供することにある。
【0005】本発明は適当な中間処理を行うことにより
上述の目的を達成することを見い出したことに基づく。
上述の目的を達成することを見い出したことに基づく。
【0006】このために、本発明方法は、前記透明電極
を、該透明電極の材料および貴金属または準貴金属から
なる二重層を形成すべき区域にパターンとして設け、前
記貴金属または準貴金属を前記透明電極および前記基板
の上に設け、次いで酸に浸漬した後に前記貴金属または
準貴金属を前記基板から除去することを特徴とする。
を、該透明電極の材料および貴金属または準貴金属から
なる二重層を形成すべき区域にパターンとして設け、前
記貴金属または準貴金属を前記透明電極および前記基板
の上に設け、次いで酸に浸漬した後に前記貴金属または
準貴金属を前記基板から除去することを特徴とする。
【0007】上述の本発明方法は基板に対する金属の付
着性と電極に対する金属の付着性との差を利用している
ので、この方法は自己整合である。
着性と電極に対する金属の付着性との差を利用している
ので、この方法は自己整合である。
【0008】しかも、上述の本発明方法は、米国特許第
4,543,573 号明細書に記載されている方法と
比較すると、1工程少ないホトリソグラフィを必要とす
るにすぎない。
4,543,573 号明細書に記載されている方法と
比較すると、1工程少ないホトリソグラフィを必要とす
るにすぎない。
【0009】酸に浸漬することは、透明電極に対する(
準)貴金属、特に金の付着を確実なものとし、かつ例え
ばガラスに対する金の付着を低下させるのに不可欠であ
る。(準)貴金属は基板から離れ始め、例えば、機械的
処理(水の吹付け、ブラシ掛け、振動)により除去する
ことができる。
準)貴金属、特に金の付着を確実なものとし、かつ例え
ばガラスに対する金の付着を低下させるのに不可欠であ
る。(準)貴金属は基板から離れ始め、例えば、機械的
処理(水の吹付け、ブラシ掛け、振動)により除去する
ことができる。
【0010】塩化水素酸溶液を酸として選択するのが好
ましいが、他の酸も使用することができる。
ましいが、他の酸も使用することができる。
【0011】完成した基板は、別の基板と共に、これら
の2個の基板の間に液晶材料を入れ、所要に応じて偏光
子およびミラーの一方または両方、ならびに駆動、照射
などのために必要な手段を設けることにより、液晶セル
を形成することができる。
の2個の基板の間に液晶材料を入れ、所要に応じて偏光
子およびミラーの一方または両方、ならびに駆動、照射
などのために必要な手段を設けることにより、液晶セル
を形成することができる。
【0012】
【実施例】本発明を図面を参照して実施例について説明
する。出発材料は基板1、例えば、ガラス(または石英
)(図1a) であり、基板1の上に透明電極2、この
例ではインヂウム錫酸化物電極をパターンの形態で設け
る。
する。出発材料は基板1、例えば、ガラス(または石英
)(図1a) であり、基板1の上に透明電極2、この
例ではインヂウム錫酸化物電極をパターンの形態で設け
る。
【0013】導電層を設ける必要のないインジウム錫酸
化物電極2を保護するために、電極2を粗いマスクで遮
蔽してもよい。次いで、満足できる導電性金属層3、例
えば金層をスパッタリングまたは蒸着により全デバイス
の上に堆積させる(図1b) 。
化物電極2を保護するために、電極2を粗いマスクで遮
蔽してもよい。次いで、満足できる導電性金属層3、例
えば金層をスパッタリングまたは蒸着により全デバイス
の上に堆積させる(図1b) 。
【0014】次いで、全デバイスを酸浴、例えば、10
%塩化水素酸浴中に2分間浸漬する。これによりガラス
に対する金の接着性が著しく低下するが、金‐ITO
の接着は影響を受けない。金は基板から離れ始めること
さえある。次の工程において、金残留物をブラシ掛け、
振動または水の吹付けのような機械的処理により簡単に
除去することができる。金の代わりに、銀および銅のよ
うな他の貴金属を使用することができ、他方基板1とし
て石英または他の適当な材料を選択的に選ぶことができ
る。
%塩化水素酸浴中に2分間浸漬する。これによりガラス
に対する金の接着性が著しく低下するが、金‐ITO
の接着は影響を受けない。金は基板から離れ始めること
さえある。次の工程において、金残留物をブラシ掛け、
振動または水の吹付けのような機械的処理により簡単に
除去することができる。金の代わりに、銀および銅のよ
うな他の貴金属を使用することができ、他方基板1とし
て石英または他の適当な材料を選択的に選ぶことができ
る。
【図1】
(a) は、本発明方法の第1工程を示した説明図であ
り、(b) は、本発明方法の第2工程を示した説明図
であり、(c) は、本発明方法の第3工程を示した説
明図である。
り、(b) は、本発明方法の第2工程を示した説明図
であり、(c) は、本発明方法の第3工程を示した説
明図である。
1 基板(ガラス、石英)
2 透明電極(インヂウム錫酸化物電極、ITO 電
極、金属トラック)
極、金属トラック)
Claims (5)
- 【請求項1】 透明電極のパターンを有する基板を具
え、前記透明電極は少なくとも局部的に金属層で被覆さ
れているデバイスを製造するに当り、前記透明電極を、
該透明電極の材料および貴金属または準貴金属からなる
二重層を形成すべき区域にパターンとして設け、前記貴
金属または準貴金属を前記透明電極および前記基板の上
に設け、次いで酸に浸漬した後に前記貴金属または準貴
金属を前記基板から除去することを特徴とする透明電極
のパターンを有する基板を具えたデバイスの製造方法。 - 【請求項2】 透明電極がインジウム錫酸化物からな
り、貴金属として金を使用することを特徴とする請求項
1記載の方法。 - 【請求項3】 ガラス基板または石英基板を使用する
ことを特徴とする請求項1または2記載の方法。 - 【請求項4】 機械的処理により貴金属を基板から除
去することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一の項
に記載の方法。 - 【請求項5】 2個の基板の間に液晶材料が設けられ
ている液晶表示装置において、少なくとも1個の基板が
請求項1〜4のいずれか一つの項に記載の方法により製
造されたものであることを特徴とする液晶表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9000545 | 1990-03-09 | ||
| NL9000545A NL9000545A (nl) | 1990-03-09 | 1990-03-09 | Werkwijze voor het vervaardigen van geleidersporen. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04219733A true JPH04219733A (ja) | 1992-08-10 |
Family
ID=19856720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3063762A Pending JPH04219733A (ja) | 1990-03-09 | 1991-03-06 | 透明電極のパターンを有する基板を具えたデバイスの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0445881A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04219733A (ja) |
| NL (1) | NL9000545A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6008877A (en) * | 1996-11-28 | 1999-12-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display having multilayered electrodes with a layer adhesive to a substrate formed of indium tin oxide |
| US7276453B2 (en) | 2004-08-10 | 2007-10-02 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Methods for forming an undercut region and electronic devices incorporating the same |
| US7166860B2 (en) | 2004-12-30 | 2007-01-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Electronic device and process for forming same |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57161882A (en) * | 1981-03-31 | 1982-10-05 | Hitachi Ltd | Display body panel |
| US4442137A (en) * | 1982-03-18 | 1984-04-10 | International Business Machines Corporation | Maskless coating of metallurgical features of a dielectric substrate |
| US4582722A (en) * | 1984-10-30 | 1986-04-15 | International Business Machines Corporation | Diffusion isolation layer for maskless cladding process |
| EP0265110A1 (en) * | 1986-10-06 | 1988-04-27 | CPFilms, Inc. | Transparent electrode |
-
1990
- 1990-03-09 NL NL9000545A patent/NL9000545A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-03-04 EP EP91200451A patent/EP0445881A1/en not_active Withdrawn
- 1991-03-06 JP JP3063762A patent/JPH04219733A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0445881A1 (en) | 1991-09-11 |
| NL9000545A (nl) | 1991-10-01 |
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