JPH04227681A - カイラルスメクチック液晶組成物 - Google Patents
カイラルスメクチック液晶組成物Info
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- JPH04227681A JPH04227681A JP3131693A JP13169391A JPH04227681A JP H04227681 A JPH04227681 A JP H04227681A JP 3131693 A JP3131693 A JP 3131693A JP 13169391 A JP13169391 A JP 13169391A JP H04227681 A JPH04227681 A JP H04227681A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は分子構造の変更が容易な
乳酸誘導体を含む液晶組成物に関するものである。
乳酸誘導体を含む液晶組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学活性を有することを特徴とする光学
素子としては、具体的には、 1)液晶状態においてコレステリック・ネマティック相
転移効果を利用するもの(J.J.Wysoki,A.
Adams and W.Haas;Phys.R
ev.Lett.,20,1024(1968))、2
)液晶状態においてホワイト・テイラー形ゲスト・ホス
ト効果を利用するもの(D.L.White and
G.N.Taylor;J.Appl.Phys.
,45,4718(1974))、 3)液晶状態においてカイラル・スメクチックC相,H
相,F相,I相,G相の強誘電性効果を利用するもの(
N.A.Clark and S.T.Lager
wall;Appl.Phys.Lett.,36,8
99(1980))、 4)液晶状態においてコレステリック相を持つものをマ
トリックス中へ固定することにより、その選択散乱特性
を利用し、ノッチフィルターやバンドパスフィルターと
して利用するもの(F.J.Kahn,Appl.Ph
ys.Lett.,18,231(1971))、円偏
光特性を利用した円偏光ビームスプリッターとして利用
するもの(S.D.Jacobs,SPIE,37,9
8(1981))等が知られている。個々の方式につい
ての詳細な説明は省略するが、表示素子・変調素子とし
て重要である。
素子としては、具体的には、 1)液晶状態においてコレステリック・ネマティック相
転移効果を利用するもの(J.J.Wysoki,A.
Adams and W.Haas;Phys.R
ev.Lett.,20,1024(1968))、2
)液晶状態においてホワイト・テイラー形ゲスト・ホス
ト効果を利用するもの(D.L.White and
G.N.Taylor;J.Appl.Phys.
,45,4718(1974))、 3)液晶状態においてカイラル・スメクチックC相,H
相,F相,I相,G相の強誘電性効果を利用するもの(
N.A.Clark and S.T.Lager
wall;Appl.Phys.Lett.,36,8
99(1980))、 4)液晶状態においてコレステリック相を持つものをマ
トリックス中へ固定することにより、その選択散乱特性
を利用し、ノッチフィルターやバンドパスフィルターと
して利用するもの(F.J.Kahn,Appl.Ph
ys.Lett.,18,231(1971))、円偏
光特性を利用した円偏光ビームスプリッターとして利用
するもの(S.D.Jacobs,SPIE,37,9
8(1981))等が知られている。個々の方式につい
ての詳細な説明は省略するが、表示素子・変調素子とし
て重要である。
【0003】従来、光学活性を有することを特徴とする
光学素子に必要な機能性材料を合成するための光学活性
中間体としては、2−メチルブタノール、2級オクチル
アルコール、2級ブチルアルコール、塩化p−(2−メ
チルブチル)安息香酸、2級フェネチルアルコール、ア
ミノ酸誘導体、ショウノウ誘導体、コレステロール誘導
体等が知られている。
光学素子に必要な機能性材料を合成するための光学活性
中間体としては、2−メチルブタノール、2級オクチル
アルコール、2級ブチルアルコール、塩化p−(2−メ
チルブチル)安息香酸、2級フェネチルアルコール、ア
ミノ酸誘導体、ショウノウ誘導体、コレステロール誘導
体等が知られている。
【0004】しかし、これらは次のような欠点を有して
いる。光学活性な鎖状炭化水素誘導体は構造の変更が困
難で、しかも一部のものを除き非常に高価なものである
。アミノ酸誘導体は比較的安価な上に構造の変更も容易
であるがアミンの水素基が化学的に活性が強く、水素結
合や化学反応を生じやすいために機能性材料の特性を制
限してしまいやすい。ショウノウ誘導体・コレステロー
ル誘導体は構造の変更が困難なうえに立体的な障害によ
って機能性材料の特性に悪影響を与えやすい。
いる。光学活性な鎖状炭化水素誘導体は構造の変更が困
難で、しかも一部のものを除き非常に高価なものである
。アミノ酸誘導体は比較的安価な上に構造の変更も容易
であるがアミンの水素基が化学的に活性が強く、水素結
合や化学反応を生じやすいために機能性材料の特性を制
限してしまいやすい。ショウノウ誘導体・コレステロー
ル誘導体は構造の変更が困難なうえに立体的な障害によ
って機能性材料の特性に悪影響を与えやすい。
【0005】上記のような欠点は、種々の材料を開発す
る上で大きな制約となっていた。
る上で大きな制約となっていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の点に
鑑みなされたものである。すなわち、本発明は、適度な
分子間力と形状をもった機能性材料中間体と光学活性を
損うことなく結合させることができ、分子設計を自由に
行うことができる化合物を提供することを目的とする。
鑑みなされたものである。すなわち、本発明は、適度な
分子間力と形状をもった機能性材料中間体と光学活性を
損うことなく結合させることができ、分子設計を自由に
行うことができる化合物を提供することを目的とする。
【0007】本発明はアルキル基の長さを変更すること
が容易で、このことによりH.Arnold,Z.Ph
ys.Chem.,226,146(1964)に示さ
れるように液晶状態において発現する液晶相の種類や温
度範囲を制御することが可能な液晶性化合物及びそれを
少なくとも1種類配合成分として含有する液晶組成物を
提供することを目的とする。またLB膜法により単分子
累積膜を作製する場合には容易に疎水基を制御すること
が出来、安定に成膜することが可能な化合物の提供を目
的とする。
が容易で、このことによりH.Arnold,Z.Ph
ys.Chem.,226,146(1964)に示さ
れるように液晶状態において発現する液晶相の種類や温
度範囲を制御することが可能な液晶性化合物及びそれを
少なくとも1種類配合成分として含有する液晶組成物を
提供することを目的とする。またLB膜法により単分子
累積膜を作製する場合には容易に疎水基を制御すること
が出来、安定に成膜することが可能な化合物の提供を目
的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、一般
式(I’):
式(I’):
【0009】
【化2】
[一般式(I’)中、Rは炭素数4〜20の直鎖状飽和
炭化水素基を示す。R”はアゾベンゼン誘導体、アゾキ
シベンゼン誘導体、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘
導体、フェニルシクロヘキサン誘導体、安息香酸誘導体
、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリジン誘導体
、スチルベン誘導トラン誘導体、カルコン誘導体、ビシ
クロヘキサン誘導体、あるいはケイ皮酸誘導体のいずれ
かの中から選ばれる残基。C*は光学活性な不斉炭素原
子を示す。] で表される乳酸誘導体を少なくとも1種類配合成分とし
て含有することを特徴とする液晶組成物である。
炭化水素基を示す。R”はアゾベンゼン誘導体、アゾキ
シベンゼン誘導体、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘
導体、フェニルシクロヘキサン誘導体、安息香酸誘導体
、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリジン誘導体
、スチルベン誘導トラン誘導体、カルコン誘導体、ビシ
クロヘキサン誘導体、あるいはケイ皮酸誘導体のいずれ
かの中から選ばれる残基。C*は光学活性な不斉炭素原
子を示す。] で表される乳酸誘導体を少なくとも1種類配合成分とし
て含有することを特徴とする液晶組成物である。
【0010】この一般式(I’)で表わされる乳酸誘導
体は、R”に係る誘導体と下記一般式(I)で表わされ
る光学活性な乳酸誘導体との合成により得られる。
体は、R”に係る誘導体と下記一般式(I)で表わされ
る光学活性な乳酸誘導体との合成により得られる。
【0011】
【化3】
[一般式(I)中、Rは炭素数4〜20の直鎖状飽和炭
化水素基を示す。
化水素基を示す。
【0012】R’はOH基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、フェノキシ基等の着脱可能な化学的に活性な置換基
を示す。] 上記一般式中、Rは炭素数4〜20の直鎖状飽和炭化水
素基である。炭素数3以下では末端基としての特性が損
われやすく、21以上では最終的な機能材料としたとき
の粘度やモル体積が増加するため好ましくない。また、
好ましいRの炭素数は6〜16である。Rの具体例とし
ては直鎖状アルキル基、直鎖状アルケニル基、直鎖状ア
ルカディエニル基、直鎖状アルカトリエニル基、直鎖状
アルキニル基、アラルキル基がある。又、*は不斉炭素
原子を示す。
基、フェノキシ基等の着脱可能な化学的に活性な置換基
を示す。] 上記一般式中、Rは炭素数4〜20の直鎖状飽和炭化水
素基である。炭素数3以下では末端基としての特性が損
われやすく、21以上では最終的な機能材料としたとき
の粘度やモル体積が増加するため好ましくない。また、
好ましいRの炭素数は6〜16である。Rの具体例とし
ては直鎖状アルキル基、直鎖状アルケニル基、直鎖状ア
ルカディエニル基、直鎖状アルカトリエニル基、直鎖状
アルキニル基、アラルキル基がある。又、*は不斉炭素
原子を示す。
【0013】R’はOH基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、フェノキシ基等の脱着可能な化学的に活性な置換基
を示す。すなわち、Rは、適当な反応条件下で、反応試
薬と反応して他の基によって容易に置き換えることがで
きる。この場合反応試薬を種々変化させることにより、
液晶性化合物その他の機能性化合物を得ることができる
。
基、フェノキシ基等の脱着可能な化学的に活性な置換基
を示す。すなわち、Rは、適当な反応条件下で、反応試
薬と反応して他の基によって容易に置き換えることがで
きる。この場合反応試薬を種々変化させることにより、
液晶性化合物その他の機能性化合物を得ることができる
。
【0014】次に、一般式(I)で示される光学活性な
乳酸誘導体のうち、R’が着脱可能な化学的に活性な置
換基である化合物の合成方法の例を示す。
乳酸誘導体のうち、R’が着脱可能な化学的に活性な置
換基である化合物の合成方法の例を示す。
【0015】
【化4】
【0016】すなわち、R’がアルコキシ基である化合
物[上記式(a)の化合物]を合成するには、乳酸エス
テルと炭化水素ヨウ化物とをAg2O存在下に反応させ
ることにより得られる。この場合、乳酸エステルと炭化
水素を容器に入れて混合しておき、この混合物中にAg
2Oを添加する方法が好ましい。
物[上記式(a)の化合物]を合成するには、乳酸エス
テルと炭化水素ヨウ化物とをAg2O存在下に反応させ
ることにより得られる。この場合、乳酸エステルと炭化
水素を容器に入れて混合しておき、この混合物中にAg
2Oを添加する方法が好ましい。
【0017】またR’がヒドロキシ基である化合物[上
記式(b)の化合物]を合成するには、上記式(a)の
化合物を塩基で加水分解した後、酸で中和する方法がと
られる。
記式(b)の化合物]を合成するには、上記式(a)の
化合物を塩基で加水分解した後、酸で中和する方法がと
られる。
【0018】更に、R’がハロゲン原子の場合には、上
記式(b)の化合物にSOCl2,PCl5の如きハロ
ゲン化剤を作用せしめる方法が採用される。
記式(b)の化合物にSOCl2,PCl5の如きハロ
ゲン化剤を作用せしめる方法が採用される。
【0019】上記反応式におけるRIは炭素数の広い範
囲にわたって選択することが可能であり、具体的にはヨ
ードブタン、ヨードペンタン、ヨードヘキサン、ヨード
ヘプタン、ヨードオクタン、ヨードノナン、ヨードデカ
ン、ヨードウンデカン、ヨードドデカン、ヨードトリデ
カン、ヨードテトラデカン、ヨードペンタデカン、ヨー
ドヘキサデカン、ヨードヘプタデカン、ヨードオクタデ
カン、ヨードノナデカン、ヨードエイコサン等の直鎖状
飽和炭化水素ヨウ化物;2−ヨードブタン、1−ヨード
−2−メチルプロパン、1−ヨード−3−メチルブタン
等の分岐状飽和炭化水素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨ
ードフェナシル、3−ヨード−1−シクロヘキセン等の
環状不飽和炭化水素ヨウ化物;ヨードシクロペンタン、
ヨードシクロヘキサン、1−ヨード−3−メチルシクロ
ヘキサン、ヨードシクロヘプタン、ヨードシクロオクタ
ン等の環状飽和炭化水素ヨウ化物がある。
囲にわたって選択することが可能であり、具体的にはヨ
ードブタン、ヨードペンタン、ヨードヘキサン、ヨード
ヘプタン、ヨードオクタン、ヨードノナン、ヨードデカ
ン、ヨードウンデカン、ヨードドデカン、ヨードトリデ
カン、ヨードテトラデカン、ヨードペンタデカン、ヨー
ドヘキサデカン、ヨードヘプタデカン、ヨードオクタデ
カン、ヨードノナデカン、ヨードエイコサン等の直鎖状
飽和炭化水素ヨウ化物;2−ヨードブタン、1−ヨード
−2−メチルプロパン、1−ヨード−3−メチルブタン
等の分岐状飽和炭化水素ヨウ化物;ヨードベンジル、ヨ
ードフェナシル、3−ヨード−1−シクロヘキセン等の
環状不飽和炭化水素ヨウ化物;ヨードシクロペンタン、
ヨードシクロヘキサン、1−ヨード−3−メチルシクロ
ヘキサン、ヨードシクロヘプタン、ヨードシクロオクタ
ン等の環状飽和炭化水素ヨウ化物がある。
【0020】以上のようなヨウ化物から自由に選択する
ことにより光学活性な乳酸誘導体を得ることができる。 表1に直鎖状飽和炭化水素ヨウ化物より得られた光学活
性な乳酸誘導体の例を示す。
ことにより光学活性な乳酸誘導体を得ることができる。 表1に直鎖状飽和炭化水素ヨウ化物より得られた光学活
性な乳酸誘導体の例を示す。
【0021】
【表1】
【0022】このような方法により得られた種々の乳酸
誘導体より次に示す合成経路によって下記一般式(II
)又は(III)に示される液晶性化合物を得た。
誘導体より次に示す合成経路によって下記一般式(II
)又は(III)に示される液晶性化合物を得た。
【0023】
【化5】
[但し、上記一般式(II),(III)において、R
は炭素数4〜20の直鎖状、分岐状または環状の飽和も
しくは不飽和の炭化水素基を示し、R’’’は炭素数4
〜20のアルキル基またはアルコキシ基を示す。]本発
明によれば、アゾベンゼン基、アゾキシベンゼン基の側
鎖の長さ、分子量、形状を自由に変更した光学活性な液
晶性化合物を得ることが可能となり、目的の化合物の物
性値を制御することができる。従来は不斉炭素から離れ
た側鎖を変更することのみ可能であったが本発明により
、両末端基を変更することが可能となった。このことは
液晶やLB膜を機能素子として使用する上で非常に重要
な問題であり、目的に応じた分子設計に道を開くもので
ある。
は炭素数4〜20の直鎖状、分岐状または環状の飽和も
しくは不飽和の炭化水素基を示し、R’’’は炭素数4
〜20のアルキル基またはアルコキシ基を示す。]本発
明によれば、アゾベンゼン基、アゾキシベンゼン基の側
鎖の長さ、分子量、形状を自由に変更した光学活性な液
晶性化合物を得ることが可能となり、目的の化合物の物
性値を制御することができる。従来は不斉炭素から離れ
た側鎖を変更することのみ可能であったが本発明により
、両末端基を変更することが可能となった。このことは
液晶やLB膜を機能素子として使用する上で非常に重要
な問題であり、目的に応じた分子設計に道を開くもので
ある。
【0024】また本発明に係る乳酸誘導体は不斉炭素原
子と永久双極子モーメントをもつカルボニル基が非常に
接近しているため、スメクチック液晶における強誘電性
の自発分極の増加に有効である。
子と永久双極子モーメントをもつカルボニル基が非常に
接近しているため、スメクチック液晶における強誘電性
の自発分極の増加に有効である。
【0025】本発明の液晶組成物は、例えば上記一般式
(II)の化合物または一般式(III)の化合物を少
なくとも1種類配合成分として含有する。この組成物の
うち、一般式(II),(III)で示される化合物の
少なくとも1種と強誘電性液晶化合物とを含有する組成
物は、自発分極の増大等強誘電性液晶の性質の改良とい
う観点から本発明における殊に好ましい態様をなすもの
である。この液晶組成物において使用される強誘電性液
晶化合物の具体例を以下に掲げる。
(II)の化合物または一般式(III)の化合物を少
なくとも1種類配合成分として含有する。この組成物の
うち、一般式(II),(III)で示される化合物の
少なくとも1種と強誘電性液晶化合物とを含有する組成
物は、自発分極の増大等強誘電性液晶の性質の改良とい
う観点から本発明における殊に好ましい態様をなすもの
である。この液晶組成物において使用される強誘電性液
晶化合物の具体例を以下に掲げる。
【0026】A.Schiff塩基型強誘電性液晶化合
物: (1)DOBAMBC(p−デシルオキシベンジリデン
p’−アミノ−2−メチルブチルシンナメート)(この
系統でp−ヘキシルオキシ乃至p−デシルオキシの炭素
原子数のアルコキシ基を有する化合物は強誘電性があり
、本発明の組成物に使用できる。) (2)DOBAMBCC(p−デシルオキシベンジリデ
ンp’−アミノ−2−メチルブチル−α−シアノシンナ
メート)(この系統でp−デシルオキシ基がp−テトラ
ジシルオキシ基で置き換わった化合物も強誘電性がある
。) (3)OOBAMBCC(p−オクチルオキシベンジリ
デン p’−アミノ−2−アミノメチルブチル−α−
クロロシンナメート) (4)HOBACPC(p−ヘキシルオキシベンジリデ
ンp’−アミノ−2−クロロ−α−プロピルシンナメー
ト)(この系統でp−ヘキシルオキシ乃至p−ドデシル
オキシの炭素原子数のアルコキシ基を有する化合物は強
誘電性がある。) (5)OOBAMBMC(p−オクチルオキシベンジリ
デンp’−アミノ−2−メチルブチル−α−メチルシン
ナメート) (6)DOBMBA[p−デシルオキシベンジリデンp
’−(2−メチルブチルオキシカルボニル)アニリン]
(この系統でp−ヘプチルオキシ乃至p−テトラデシル
オキシの炭素原子数のアルコキシ基を有する化合物は強
誘電性がある。) (7)MBRA n=8[S−4−o−(2−メチル
)ブチルレゾルシリデン−4’−アルキルアニリン]
物: (1)DOBAMBC(p−デシルオキシベンジリデン
p’−アミノ−2−メチルブチルシンナメート)(この
系統でp−ヘキシルオキシ乃至p−デシルオキシの炭素
原子数のアルコキシ基を有する化合物は強誘電性があり
、本発明の組成物に使用できる。) (2)DOBAMBCC(p−デシルオキシベンジリデ
ンp’−アミノ−2−メチルブチル−α−シアノシンナ
メート)(この系統でp−デシルオキシ基がp−テトラ
ジシルオキシ基で置き換わった化合物も強誘電性がある
。) (3)OOBAMBCC(p−オクチルオキシベンジリ
デン p’−アミノ−2−アミノメチルブチル−α−
クロロシンナメート) (4)HOBACPC(p−ヘキシルオキシベンジリデ
ンp’−アミノ−2−クロロ−α−プロピルシンナメー
ト)(この系統でp−ヘキシルオキシ乃至p−ドデシル
オキシの炭素原子数のアルコキシ基を有する化合物は強
誘電性がある。) (5)OOBAMBMC(p−オクチルオキシベンジリ
デンp’−アミノ−2−メチルブチル−α−メチルシン
ナメート) (6)DOBMBA[p−デシルオキシベンジリデンp
’−(2−メチルブチルオキシカルボニル)アニリン]
(この系統でp−ヘプチルオキシ乃至p−テトラデシル
オキシの炭素原子数のアルコキシ基を有する化合物は強
誘電性がある。) (7)MBRA n=8[S−4−o−(2−メチル
)ブチルレゾルシリデン−4’−アルキルアニリン]
【
0027】
0027】
【化6】
分子式:C26H33O2N
分子量:391.55
転移温度(℃):
【0028】
【数1】
(8)MORA 8[S−4−o−(6−メチル)オ
クチルレゾルシリデン−4’−オクチルアニリン]
クチルレゾルシリデン−4’−オクチルアニリン]
【0
029】
029】
【化7】
分子式:C30H45O2N
転移温度(℃):
【0030】
【数2】
【0031】B.エステル型強誘電性液晶化合物:(1
)4−n−ヘキシルオキシフェニル−4−(2”−メチ
ルブチル)ビフェニル−4’−カルボキシレート(2)
4−(2’−メチルブチル)フェニル−4’−オクチル
ビフェニル−4−カルボキシレート(3)4−(2’−
メチルブチルオキシ)フェニル4’−ドデシルオキシフ
ェニル4−カルボキシレート(上記の2’−メチルブチ
ルオキシ基が4’−ノニルオキシ基で置き換わった化合
物も強誘電性を示す。)
)4−n−ヘキシルオキシフェニル−4−(2”−メチ
ルブチル)ビフェニル−4’−カルボキシレート(2)
4−(2’−メチルブチル)フェニル−4’−オクチル
ビフェニル−4−カルボキシレート(3)4−(2’−
メチルブチルオキシ)フェニル4’−ドデシルオキシフ
ェニル4−カルボキシレート(上記の2’−メチルブチ
ルオキシ基が4’−ノニルオキシ基で置き換わった化合
物も強誘電性を示す。)
【0032】C.アゾキシ型強
誘電性液晶化合物:(1)PACMB(p−アゾキシシ
ンナメートメチル2ブタノール)強誘電性液晶と一般式
(II)または(III)の化合物とを含有する組成物
においては、強誘電性液晶化合物100重量部に対し、
一般式(II)で示される化合物または一般式(III
)で示される化合物0.01〜100重量部が配合され
る。0.01重量部未満では強誘電性液晶の改良効果(
例えば、強誘電性液晶性を示す温度域を変化させたり、
動作寿命を延長させたりする)が発現せず、100重量
部を超える場合は強誘電性液晶が希釈されるため強誘電
性液晶としての特性が低下する。
誘電性液晶化合物:(1)PACMB(p−アゾキシシ
ンナメートメチル2ブタノール)強誘電性液晶と一般式
(II)または(III)の化合物とを含有する組成物
においては、強誘電性液晶化合物100重量部に対し、
一般式(II)で示される化合物または一般式(III
)で示される化合物0.01〜100重量部が配合され
る。0.01重量部未満では強誘電性液晶の改良効果(
例えば、強誘電性液晶性を示す温度域を変化させたり、
動作寿命を延長させたりする)が発現せず、100重量
部を超える場合は強誘電性液晶が希釈されるため強誘電
性液晶としての特性が低下する。
【0033】
【実施例】以下、実施例により本発明の化合物の製造法
について更に詳細に説明する。
について更に詳細に説明する。
【0034】なお、以下の実施例において、相転移温度
は、DSC(セイコー電子SSC580DS)により測
定を行い、温度制御した銅ブロック中へガラス板に封入
した液晶を挿入し、偏光顕微鏡で観察することで観察し
た。
は、DSC(セイコー電子SSC580DS)により測
定を行い、温度制御した銅ブロック中へガラス板に封入
した液晶を挿入し、偏光顕微鏡で観察することで観察し
た。
【0035】参考例1[(−)−エチル−2−ブトキシ
プロピオネート] L−(+)−乳酸エチル31.5gと1−ヨードブタン
107.3gを四ツ口フラスコへ混合し、新しく合成し
たAg2Oを2時間で加える。室温にて15時間放置後
200mlのエーテルにて希釈し、濾過したのちエーテ
ルを留去する。残分を5%KOH水溶液100mlにて
洗浄後、無水Na2SO4にて乾燥して減圧蒸留、11
0℃/54mmHgの留分を集めると23gの(−)−
エチル−2−ブトキシプロピオネートが得られる。施光
度[α]D24°=−73°,IR:1750,114
0cm−1。
プロピオネート] L−(+)−乳酸エチル31.5gと1−ヨードブタン
107.3gを四ツ口フラスコへ混合し、新しく合成し
たAg2Oを2時間で加える。室温にて15時間放置後
200mlのエーテルにて希釈し、濾過したのちエーテ
ルを留去する。残分を5%KOH水溶液100mlにて
洗浄後、無水Na2SO4にて乾燥して減圧蒸留、11
0℃/54mmHgの留分を集めると23gの(−)−
エチル−2−ブトキシプロピオネートが得られる。施光
度[α]D24°=−73°,IR:1750,114
0cm−1。
【0036】参考例2[(−)−エチル−2−ヘプチル
オキシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル64.7gと1−ヨードヘプタ
ン95.2gを混合し、新しく合成したAg2Oを1時
間で加える。室温にて72時間放置後400mlのエー
テルにて希釈し、濾過後、エーテルを留去する。5%K
OH水溶液200mlにて洗浄後、無水Na2SO4に
て乾燥して減圧蒸留する。122℃/12mmHgの留
分を集めると30gの(−)−エチル−2−ヘプチルオ
キシプロピオネートが得られる。旋光度[α]D25°
=−51°,IR:1750,1130cm−1。
オキシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル64.7gと1−ヨードヘプタ
ン95.2gを混合し、新しく合成したAg2Oを1時
間で加える。室温にて72時間放置後400mlのエー
テルにて希釈し、濾過後、エーテルを留去する。5%K
OH水溶液200mlにて洗浄後、無水Na2SO4に
て乾燥して減圧蒸留する。122℃/12mmHgの留
分を集めると30gの(−)−エチル−2−ヘプチルオ
キシプロピオネートが得られる。旋光度[α]D25°
=−51°,IR:1750,1130cm−1。
【0037】参考例3[(−)−エチル−2−ドデシル
オキシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル47.0gと1−ヨードドデカ
ン88.4gをフラスコへ加えN2気流下混合する。新
しく合成したAg2O 42.1gを3時間で加える
。 室温にて50時間放置後、waterbathにて60
〜70℃に4時間加熱する。エーテル200mlにて希
釈して濾過後エーテルを留去する。5%KOH水溶液1
00mlにて洗浄後、無水Na2SO4にて乾燥して減
圧蒸留、169℃/9mmHgの留分を集めると22g
の(−)−エチル−2−ドデシルオキシプロピオネート
が得られる。旋光度[α]D23°=−42°,IR:
2920,1750,1150cm−1。
オキシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル47.0gと1−ヨードドデカ
ン88.4gをフラスコへ加えN2気流下混合する。新
しく合成したAg2O 42.1gを3時間で加える
。 室温にて50時間放置後、waterbathにて60
〜70℃に4時間加熱する。エーテル200mlにて希
釈して濾過後エーテルを留去する。5%KOH水溶液1
00mlにて洗浄後、無水Na2SO4にて乾燥して減
圧蒸留、169℃/9mmHgの留分を集めると22g
の(−)−エチル−2−ドデシルオキシプロピオネート
が得られる。旋光度[α]D23°=−42°,IR:
2920,1750,1150cm−1。
【0038】参考例4[(−)−2−ブトキシプロピオ
ン酸] 参考例1の方法により合成した(−)−エチル−2−ブ
トキシ−プロピオネート15.5gを5MのNaOH水
溶液40mlへ滴下し室温にて4時間攪拌する。次にH
2SO420gを加え、酸性として、エーテルで抽出す
る。エーテルを留去し無水Na2SO4にて乾燥する。 旋光度[α]D25°=−74°。IRスペクトル(K
Brディスク法)を図1に示す。なお、特徴的な吸収ピ
ークは3100,2960,2650,2550,17
20,1130cm−1であった。
ン酸] 参考例1の方法により合成した(−)−エチル−2−ブ
トキシ−プロピオネート15.5gを5MのNaOH水
溶液40mlへ滴下し室温にて4時間攪拌する。次にH
2SO420gを加え、酸性として、エーテルで抽出す
る。エーテルを留去し無水Na2SO4にて乾燥する。 旋光度[α]D25°=−74°。IRスペクトル(K
Brディスク法)を図1に示す。なお、特徴的な吸収ピ
ークは3100,2960,2650,2550,17
20,1130cm−1であった。
【0039】参考例5[(−)−2−ヘプチルオキシプ
ロピオン酸] 参考例2の方法により合成した(−)−エチル−2−ヘ
プチルオキシプロピオネート15.1gを3.8MのN
aOH水溶液40mlへ滴下して室温にて10時間攪拌
する。濃硫酸7.5gを加え攪拌する。エーテルにて抽
出し無水Na2SO4にて乾燥し、エーテルを留去する
。 施光度[α]D24°=−61°,IR:2940,1
730,1130cm−1。
ロピオン酸] 参考例2の方法により合成した(−)−エチル−2−ヘ
プチルオキシプロピオネート15.1gを3.8MのN
aOH水溶液40mlへ滴下して室温にて10時間攪拌
する。濃硫酸7.5gを加え攪拌する。エーテルにて抽
出し無水Na2SO4にて乾燥し、エーテルを留去する
。 施光度[α]D24°=−61°,IR:2940,1
730,1130cm−1。
【0040】参考例6[(−)−エチル−2−オクタデ
シルオキシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル60.5gと1−ヨードオクタ
デカン95.4gを混合し、新しく合成したAg2O
71.7gを約30分間で加える。攪拌しつつ40〜
50℃に8時間保ち、さらに60〜70℃に14時間保
ち、室温にて約100時間放置したのち約300mlの
エーテルにて希釈し、濾過後エーテルを留去する。5%
KOH水溶液約100mlにて洗浄後、無水Na2SO
4にて乾燥する。ヘキサンにて再結晶し精製して20.
5gの(−)−エチル−2−オクタデシルオキシプロピ
オネートが得られる。旋光度[α]D25°=−32°
,IR:2930,2850,1755,1140cm
−1。
シルオキシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル60.5gと1−ヨードオクタ
デカン95.4gを混合し、新しく合成したAg2O
71.7gを約30分間で加える。攪拌しつつ40〜
50℃に8時間保ち、さらに60〜70℃に14時間保
ち、室温にて約100時間放置したのち約300mlの
エーテルにて希釈し、濾過後エーテルを留去する。5%
KOH水溶液約100mlにて洗浄後、無水Na2SO
4にて乾燥する。ヘキサンにて再結晶し精製して20.
5gの(−)−エチル−2−オクタデシルオキシプロピ
オネートが得られる。旋光度[α]D25°=−32°
,IR:2930,2850,1755,1140cm
−1。
【0041】参考例7[(−)−エチル−2−デシルオ
キシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル47.4gと1−ヨードデカン
93.9gを混合し、新しく合成したAg2O 60
.1gを約1時間30分で加える。攪拌しつつ40〜5
0℃へ1時間保ち、室温にて24時間放置したのち約3
00mlのエーテルにて希釈し、濾過後エーテルを留去
する。5%KOH水溶液約100mlにて洗浄後、無水
Na2SO4にて乾燥して減圧蒸留する。141〜14
6℃/5mmHgの留分を集めると13.6gの(−)
−エチル−2−デシルオキシプロピオネートが得られる
。旋光度[α]D23°=−48°。IR:2920,
2850,1750,1150cm−1。
キシプロピオネート] L−(+)−乳酸エチル47.4gと1−ヨードデカン
93.9gを混合し、新しく合成したAg2O 60
.1gを約1時間30分で加える。攪拌しつつ40〜5
0℃へ1時間保ち、室温にて24時間放置したのち約3
00mlのエーテルにて希釈し、濾過後エーテルを留去
する。5%KOH水溶液約100mlにて洗浄後、無水
Na2SO4にて乾燥して減圧蒸留する。141〜14
6℃/5mmHgの留分を集めると13.6gの(−)
−エチル−2−デシルオキシプロピオネートが得られる
。旋光度[α]D23°=−48°。IR:2920,
2850,1750,1150cm−1。
【0042】実施例1[4’−ヘキシル4−α−ブトキ
シプロパノイルオキシアゾベンゼン] 4−ヘキシルアニリン30.1g(0.17M)を0℃
以下に冷却し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝
酸ナトリウム11.6gを68gの水に溶解したものを
加えた。滴下中は0℃以上とならないように冷却した。 滴下終了後30分間反応させたものを滴下ロートへ移し
、フェノール16gを含む8%NaOH水溶液170g
へ滴下した。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後0
.5時間攪拌を続け、その後pH5〜6となるまで10
%塩酸水溶液を加え、反応物を析出させた。析出物を濾
別し水にて洗浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油
エーテル500mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して29
.6g(0.10M)の4−ハイドロキシ−4’−ヘキ
シルアゾベンゼンを得た。収率は59%であった。
シプロパノイルオキシアゾベンゼン] 4−ヘキシルアニリン30.1g(0.17M)を0℃
以下に冷却し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝
酸ナトリウム11.6gを68gの水に溶解したものを
加えた。滴下中は0℃以上とならないように冷却した。 滴下終了後30分間反応させたものを滴下ロートへ移し
、フェノール16gを含む8%NaOH水溶液170g
へ滴下した。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後0
.5時間攪拌を続け、その後pH5〜6となるまで10
%塩酸水溶液を加え、反応物を析出させた。析出物を濾
別し水にて洗浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油
エーテル500mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して29
.6g(0.10M)の4−ハイドロキシ−4’−ヘキ
シルアゾベンゼンを得た。収率は59%であった。
【0043】(−)−2−ブトキシプロピオン酸2.4
gをフラスコへ加え次に塩化チオニル2.5gを徐々に
加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られた
2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロキ
シ−4−ヘキシルアゾベンゼン3.0gを乾燥ピリジン
20mlとともに混合したものへ加える。室温にて約2
0時間反応させた後、イオン交換水へ投入し冷却して析
出物を濾別する。エタノールにて再結晶し減圧乾燥する
と1.1gの4’−ヘキシル4−α−ブトキシプロパノ
イルオキシアゾベンゼンが得られた。
gをフラスコへ加え次に塩化チオニル2.5gを徐々に
加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られた
2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロキ
シ−4−ヘキシルアゾベンゼン3.0gを乾燥ピリジン
20mlとともに混合したものへ加える。室温にて約2
0時間反応させた後、イオン交換水へ投入し冷却して析
出物を濾別する。エタノールにて再結晶し減圧乾燥する
と1.1gの4’−ヘキシル4−α−ブトキシプロパノ
イルオキシアゾベンゼンが得られた。
【0044】
【数3】
IR:2940,1775,1600,1500,12
00,1140,840cm−1。
00,1140,840cm−1。
【0045】実施例2[4’−ヘプチル4−α−ブトキ
シプロパノイルオキシアゾベンゼン] 4−ヘプチルアニリン32.9g(0.17M)を0℃
以下に冷却し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝
酸ナトリウム12.1gを70mlの水に溶解したもの
を加えた。滴下中は0℃以上とならないように冷却した
。滴下終了後30分間反応させたものを滴下ロートへ移
し、フェノール16gを含む8%NaOH水溶液300
mlへ滴下した。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了
後1時間攪拌を続け、その後pH5〜6となるまで10
%塩酸水溶液を加え、反応物を析出させた。析出物を濾
別し水にて洗浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油
エーテル500mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して34
.7g(0.12M)の4−ハイドロキシ4’−ヘプチ
ルアゾベンゼンを得た。収率は71%であった。
シプロパノイルオキシアゾベンゼン] 4−ヘプチルアニリン32.9g(0.17M)を0℃
以下に冷却し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝
酸ナトリウム12.1gを70mlの水に溶解したもの
を加えた。滴下中は0℃以上とならないように冷却した
。滴下終了後30分間反応させたものを滴下ロートへ移
し、フェノール16gを含む8%NaOH水溶液300
mlへ滴下した。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了
後1時間攪拌を続け、その後pH5〜6となるまで10
%塩酸水溶液を加え、反応物を析出させた。析出物を濾
別し水にて洗浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油
エーテル500mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して34
.7g(0.12M)の4−ハイドロキシ4’−ヘプチ
ルアゾベンゼンを得た。収率は71%であった。
【0046】(−)−2−ブトキシプロピオン酸2.4
gをフラスコへ加え次に塩化チオニル2.5gを徐々に
加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られた
2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロキ
シ−4−ヘプチルアゾベンゼン3.2gを乾燥ピリジン
20mgとともにフラスコへ加え攪拌したものへ加える
。室温にて5時間反応させた後、イオン交換水へ投入し
冷却して析出物を濾別する。エタノールにて再結晶した
ものをシリカゲルカラムクロマトグラフ(溶媒:ベンゼ
ン)にて精製して1.2gの4’−ヘプチル4−α−ブ
トキシプロパノイルオキシアゾベンゼンを得た。
gをフラスコへ加え次に塩化チオニル2.5gを徐々に
加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られた
2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロキ
シ−4−ヘプチルアゾベンゼン3.2gを乾燥ピリジン
20mgとともにフラスコへ加え攪拌したものへ加える
。室温にて5時間反応させた後、イオン交換水へ投入し
冷却して析出物を濾別する。エタノールにて再結晶した
ものをシリカゲルカラムクロマトグラフ(溶媒:ベンゼ
ン)にて精製して1.2gの4’−ヘプチル4−α−ブ
トキシプロパノイルオキシアゾベンゼンを得た。
【0047】
【数4】
IRスペクトル(KBrディスク法)を図2に示す。特
徴的な吸収ピークは2930,1775,1600,1
500,1205,1140,840cm−1であった
。
徴的な吸収ピークは2930,1775,1600,1
500,1205,1140,840cm−1であった
。
【0048】実施例3[4’−オクチル4−α−ブトキ
シプロパノイルオキシアゾベンゼン] 4−オクチルアニリン35g(0.17M)を0℃以下
に冷却し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝酸ナ
トリウム12.0gを68mlの水に溶解したものを加
えた。滴下中は0℃以上とならないように冷却した。滴
下終了後30分間反応させたものを滴下ロートへ移し、
フェノール16gを含む8%NaOH水溶液170gへ
滴下した。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後1時
間攪拌を続け、その後pH5〜6となるまで10%塩酸
水溶液を加え、反応物を析出させた。析出物を濾別し水
にて洗浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油エーテ
ル500mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して30.8g
(0.10M)の4−ハイドロキシ4’−ヘプチルアゾ
ベンゼンを得た。収率は59%であった。
シプロパノイルオキシアゾベンゼン] 4−オクチルアニリン35g(0.17M)を0℃以下
に冷却し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝酸ナ
トリウム12.0gを68mlの水に溶解したものを加
えた。滴下中は0℃以上とならないように冷却した。滴
下終了後30分間反応させたものを滴下ロートへ移し、
フェノール16gを含む8%NaOH水溶液170gへ
滴下した。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後1時
間攪拌を続け、その後pH5〜6となるまで10%塩酸
水溶液を加え、反応物を析出させた。析出物を濾別し水
にて洗浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油エーテ
ル500mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して30.8g
(0.10M)の4−ハイドロキシ4’−ヘプチルアゾ
ベンゼンを得た。収率は59%であった。
【0049】5gのKOHを50mlのエタノールに溶
解したものへ4−ハイドロキシ−4’−オクチルアゾベ
ンゼン12.4gを加え室温にて6時間反応させる。エ
タノールを留去し、析出した結晶をアセトンで洗浄し減
圧乾燥すると8.8gのカリウム4’−オクチル4ハイ
ドロキシアゾベンゼンが得られた。(−)−2−ブトキ
シプロピオン酸2.1gへ塩化チオニル2.8gを少し
づつ滴下する。室温にて30分間反応後塩化チオニルを
留去する。得られた2−ブトキシプロピオン酸クロライ
ドをカリウム−4’−オクチル4ハイドロキシアゾベン
ゼン3.6gを16mlのアセトンと0.84gのNa
HCO3に混合したものへ滴下し、滴下終了後イオン交
換水を加え、析出した結晶を濾別しエタノールにて再結
晶すると、1.8gの4’−オクチル4−αブトキシプ
ロパノイルオキシアゾベンゼンが得られた。
解したものへ4−ハイドロキシ−4’−オクチルアゾベ
ンゼン12.4gを加え室温にて6時間反応させる。エ
タノールを留去し、析出した結晶をアセトンで洗浄し減
圧乾燥すると8.8gのカリウム4’−オクチル4ハイ
ドロキシアゾベンゼンが得られた。(−)−2−ブトキ
シプロピオン酸2.1gへ塩化チオニル2.8gを少し
づつ滴下する。室温にて30分間反応後塩化チオニルを
留去する。得られた2−ブトキシプロピオン酸クロライ
ドをカリウム−4’−オクチル4ハイドロキシアゾベン
ゼン3.6gを16mlのアセトンと0.84gのNa
HCO3に混合したものへ滴下し、滴下終了後イオン交
換水を加え、析出した結晶を濾別しエタノールにて再結
晶すると、1.8gの4’−オクチル4−αブトキシプ
ロパノイルオキシアゾベンゼンが得られた。
【0050】
【数5】
IR:2930,1775,1600,1500,12
05,1140,840cm−1。
05,1140,840cm−1。
【0051】実施例4[4’ヘキシルオキシ4−α−ブ
トキシプロパノイルオキシアゾベンゼン]n−ヘキシル
オキシアニリン16.5gを50mlのイオン交換水と
ともに冷却したものへ10%塩酸水溶液43gを加える
。次にNaNO25.9gを34mlの水に溶解したも
のを冷却しつつ滴下する。フェノール8.0gを8%N
aOH水溶液86.6gへ溶解したものへ上記の反応さ
せたものを加える。滴下中は5℃以下に保った。滴下終
了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加えpH1とし
た。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した。乾燥後石油
エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し、12.1gの4
−ハイドロキシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼンを
得た。
トキシプロパノイルオキシアゾベンゼン]n−ヘキシル
オキシアニリン16.5gを50mlのイオン交換水と
ともに冷却したものへ10%塩酸水溶液43gを加える
。次にNaNO25.9gを34mlの水に溶解したも
のを冷却しつつ滴下する。フェノール8.0gを8%N
aOH水溶液86.6gへ溶解したものへ上記の反応さ
せたものを加える。滴下中は5℃以下に保った。滴下終
了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加えpH1とし
た。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した。乾燥後石油
エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し、12.1gの4
−ハイドロキシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼンを
得た。
【0052】(−)−2−ブトキシプロピオン酸2.4
gをフラスコへ加え次に塩化チオニル2.5gを徐々に
加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られた
2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロキ
シ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン3.2gを乾燥
ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌したもの
へ加える。室温にて20時間放置したのちイオン交換水
へ投入し、析出物を濾別する。シリカゲルカラムクロマ
トグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.0gの4
’−ヘキシルオキシ−4−α−ブトキシプロパノイルオ
キシアゾベンゼンを得た。
gをフラスコへ加え次に塩化チオニル2.5gを徐々に
加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られた
2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロキ
シ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン3.2gを乾燥
ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌したもの
へ加える。室温にて20時間放置したのちイオン交換水
へ投入し、析出物を濾別する。シリカゲルカラムクロマ
トグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.0gの4
’−ヘキシルオキシ−4−α−ブトキシプロパノイルオ
キシアゾベンゼンを得た。
【0053】
【数6】
IR:2940,1760,1600,1490,12
00,1130,840cm−1。
00,1130,840cm−1。
【0054】実施例5[4’−オクチル4−α−ヘプチ
ルオキシプロパノイルオキシアゾベンゼン]4−オクチ
ルアニリン35g(0.17M)を0℃以下に冷却し1
0%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝酸ナトリウム1
2.0gを68mlの水に溶解したものを加えた。滴下
中は0℃以上とならないように冷却した。滴下終了後3
0分間反応させたものを滴下ロートへ移し、フェノール
16gを含む8%NaOH水溶液170gへ滴下した。 滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後1時間攪拌を続
け、その後pH5〜6となるまで10%塩酸水溶液を加
え、反応物を析出させた。析出物を濾別し水にて洗浄後
、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油エーテル500m
lで洗浄し、さらに減圧乾燥して30.8g(0.10
M)の4−ハイドロキシ4’−オクチルアゾベンゼンを
得た。収率は59%であった。
ルオキシプロパノイルオキシアゾベンゼン]4−オクチ
ルアニリン35g(0.17M)を0℃以下に冷却し1
0%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝酸ナトリウム1
2.0gを68mlの水に溶解したものを加えた。滴下
中は0℃以上とならないように冷却した。滴下終了後3
0分間反応させたものを滴下ロートへ移し、フェノール
16gを含む8%NaOH水溶液170gへ滴下した。 滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後1時間攪拌を続
け、その後pH5〜6となるまで10%塩酸水溶液を加
え、反応物を析出させた。析出物を濾別し水にて洗浄後
、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油エーテル500m
lで洗浄し、さらに減圧乾燥して30.8g(0.10
M)の4−ハイドロキシ4’−オクチルアゾベンゼンを
得た。収率は59%であった。
【0055】(−)−2−ヘプチルオキシプロピオン酸
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを実施例
10に示した4’−カリウムオキシ−4−オクチルアゾ
ベンゼン5.3gと20mlのアセトンと1.3gのN
aHCO3とを混合したものへ滴下する。滴下終了後1
時間反応させ水を20ml加え分離した油層を冷却して
固化したものを濾別した。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して3.1gの4’−
オクチル4−α−ヘプチルオキシプロパノイルオキシア
ゾベンゼンを得た。
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを実施例
10に示した4’−カリウムオキシ−4−オクチルアゾ
ベンゼン5.3gと20mlのアセトンと1.3gのN
aHCO3とを混合したものへ滴下する。滴下終了後1
時間反応させ水を20ml加え分離した油層を冷却して
固化したものを濾別した。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して3.1gの4’−
オクチル4−α−ヘプチルオキシプロパノイルオキシア
ゾベンゼンを得た。
【0056】
【数7】
IRスペクトル(バルク法)を図3に示す。特徴的な吸
収ピークは、2930,1780,1600,1500
,1200,1110,840cm−1であった。
収ピークは、2930,1780,1600,1500
,1200,1110,840cm−1であった。
【0057】実施例6[4’−ヘキシルオキシ4−α−
ヘプチルオキシプロパノイルオキシアゾベンゼン]n−
ヘキシルオキシアニリン16.5gを50mlのイオン
交換水とともに冷却したものへ10%塩酸水溶液43g
を加える。次にNaNO25.9gを34mlの水に溶
解したものを冷却しつつ滴下する。フェノール8.0g
を8%NaOH水溶液86.6gへ溶解したものへ上記
の反応させたものを加える。滴下中は5℃以下に保った
。滴下終了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加えp
H1とした。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した。乾
燥後石油エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し12.1
gの4−ハイドロキシ4’−ヘキシルオキシアゾベンゼ
ンを得た。
ヘプチルオキシプロパノイルオキシアゾベンゼン]n−
ヘキシルオキシアニリン16.5gを50mlのイオン
交換水とともに冷却したものへ10%塩酸水溶液43g
を加える。次にNaNO25.9gを34mlの水に溶
解したものを冷却しつつ滴下する。フェノール8.0g
を8%NaOH水溶液86.6gへ溶解したものへ上記
の反応させたものを加える。滴下中は5℃以下に保った
。滴下終了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加えp
H1とした。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した。乾
燥後石油エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し12.1
gの4−ハイドロキシ4’−ヘキシルオキシアゾベンゼ
ンを得た。
【0058】(−)−2−ヘプチルオキシプロピオン酸
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを4−ハ
イドロキシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン4.5
gを乾燥ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌
したものへ加える。室温にて5時間放置したのちイオン
交換水へ投入し析出物を濾別する。シリカゲルカラムク
ロマトグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.8g
の4’−ヘキシルオキシ4−α−ヘプチルオキシプロパ
ノイルオキシアゾベンゼンを得た。
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを4−ハ
イドロキシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン4.5
gを乾燥ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌
したものへ加える。室温にて5時間放置したのちイオン
交換水へ投入し析出物を濾別する。シリカゲルカラムク
ロマトグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.8g
の4’−ヘキシルオキシ4−α−ヘプチルオキシプロパ
ノイルオキシアゾベンゼンを得た。
【0059】
【数8】
IR:2940,1760,1600,1500,12
10,1130,845cm−1。
10,1130,845cm−1。
【0060】実施例7[4’−ヘキシルオキシ4−α−
ブトキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン]n−ヘ
キシルオキシアニリン16.5gを50mlのイオン交
換水とともに冷却したものへ10%塩酸水溶液43gを
加える。次にNaNO25.9gを34mlの水に溶解
したものを冷却しつつ滴下する。フェノール8.0gを
8%NaOH水溶液86.6gへ溶解したものへ上記の
反応させたものを加える。滴下中は5℃以下に保った。 滴下終了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加えpH
1とした。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した。乾燥
後石油エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し12.1g
の4−ハイドロキシ4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン
を得た。
ブトキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン]n−ヘ
キシルオキシアニリン16.5gを50mlのイオン交
換水とともに冷却したものへ10%塩酸水溶液43gを
加える。次にNaNO25.9gを34mlの水に溶解
したものを冷却しつつ滴下する。フェノール8.0gを
8%NaOH水溶液86.6gへ溶解したものへ上記の
反応させたものを加える。滴下中は5℃以下に保った。 滴下終了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加えpH
1とした。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した。乾燥
後石油エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し12.1g
の4−ハイドロキシ4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン
を得た。
【0061】(−)−2−ブトキシプロピオン酸2.4
gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル2.5gを徐々
に加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロ
キシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン3.2gを乾
燥ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌したも
のへ加える。室温にて20時間放置したのちイオン交換
水へ投入し析出物を濾別する。シリカゲルカラムクロマ
トグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.0gの4
’−ヘキシルオキシ4−α−ブトキシプロパノイルオキ
シアゾベンゼンを得た。融点72.5℃4’−ヘキシル
オキシ−4−α−ブトキシプロパノイルオキシアゾベン
ゼン0.81gを氷酢酸40mlに溶解攪拌しつつ50
〜60℃に保ち、31%H2O2水溶液5mlを約6時
間で滴下する。50〜60℃でさらに4時間、室温にて
30時間放置し、400mlのイオン交換水ヘ投入しエ
ーテルにて抽出する。5%Na2CO3水溶液50ml
およびイオン交換水にて洗浄し、無水Na2SO4にて
乾燥する。エーテルを留去し得られた黄色結晶をエタノ
ールにて再結晶すると0.3gの4’−ヘキシルオキシ
4−α−ブトキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン
が得られた。
gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル2.5gを徐々
に加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ブトキシプロピオン酸クロライドを4−ハイドロ
キシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン3.2gを乾
燥ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌したも
のへ加える。室温にて20時間放置したのちイオン交換
水へ投入し析出物を濾別する。シリカゲルカラムクロマ
トグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.0gの4
’−ヘキシルオキシ4−α−ブトキシプロパノイルオキ
シアゾベンゼンを得た。融点72.5℃4’−ヘキシル
オキシ−4−α−ブトキシプロパノイルオキシアゾベン
ゼン0.81gを氷酢酸40mlに溶解攪拌しつつ50
〜60℃に保ち、31%H2O2水溶液5mlを約6時
間で滴下する。50〜60℃でさらに4時間、室温にて
30時間放置し、400mlのイオン交換水ヘ投入しエ
ーテルにて抽出する。5%Na2CO3水溶液50ml
およびイオン交換水にて洗浄し、無水Na2SO4にて
乾燥する。エーテルを留去し得られた黄色結晶をエタノ
ールにて再結晶すると0.3gの4’−ヘキシルオキシ
4−α−ブトキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン
が得られた。
【0062】
【数9】
IR:2930,1760,1600,1500,14
60,1260,1130,840cm−1。
60,1260,1130,840cm−1。
【0063】実施例8[4’−オクチル4−α−ヘプチ
ルオキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン]4−オ
クチルアニリン35g(0.17M)を0℃以下に冷却
し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝酸ナトリウ
ム12.0gを68mlの水に溶解したものを加えた。 滴下中は0℃以上とならないように冷却した。滴下終了
後30分間反応させたものを滴下ロートへ移し、フェノ
ール16gを含む8%NaOH水溶液170gへ滴下し
た。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後1時間攪拌
を続け、その後pH5〜6となるまで10%塩酸水溶液
を加え、反応物を析出させた。析出物を濾別し水にて洗
浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油エーテル50
0mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して30.8g(0.
10M)の4−ハイドロキシ4’−オクチルアゾベンゼ
ンを得た。収率は59%であった。
ルオキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン]4−オ
クチルアニリン35g(0.17M)を0℃以下に冷却
し10%塩酸水溶液85gを加え、次に亜硝酸ナトリウ
ム12.0gを68mlの水に溶解したものを加えた。 滴下中は0℃以上とならないように冷却した。滴下終了
後30分間反応させたものを滴下ロートへ移し、フェノ
ール16gを含む8%NaOH水溶液170gへ滴下し
た。滴下中は5℃以下に保った。滴下終了後1時間攪拌
を続け、その後pH5〜6となるまで10%塩酸水溶液
を加え、反応物を析出させた。析出物を濾別し水にて洗
浄後、減圧乾燥を1夜行った。乾燥後石油エーテル50
0mlで洗浄し、さらに減圧乾燥して30.8g(0.
10M)の4−ハイドロキシ4’−オクチルアゾベンゼ
ンを得た。収率は59%であった。
【0064】(−)−2−ヘプチルオキシプロピオン酸
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを実施例
10に示した4’−カリウムオキシ−4−オクチルアゾ
ベンゼン5.3gと20mlのアセトンと1.3gのN
aHCO2とを混合したものへ滴下する。滴下終了後1
時間反応させ水を20ml加え分離した油層を冷却して
固化したものを濾別した。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して3.1gの4’−
オクチル4−α−ヘプチルオキシプロパノイルオキシア
ゾベンゼンを得た。融点42.1℃。
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを実施例
10に示した4’−カリウムオキシ−4−オクチルアゾ
ベンゼン5.3gと20mlのアセトンと1.3gのN
aHCO2とを混合したものへ滴下する。滴下終了後1
時間反応させ水を20ml加え分離した油層を冷却して
固化したものを濾別した。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して3.1gの4’−
オクチル4−α−ヘプチルオキシプロパノイルオキシア
ゾベンゼンを得た。融点42.1℃。
【0065】4’−オクチル−4−α−ヘプチルオキシ
プロパノイルオキシアゾベンゼン0.8gを50mlの
氷酢酸へ溶解し50〜60℃に保ち31%H2O2水溶
液7mlを1時間30分で滴下する。50〜60℃に2
2時間保持したのち500mlのイオン交換水へ投入し
エーテルにて抽出する。100mlの5%Na2CO3
水溶液と100mlのイオン交換水で洗浄したものから
エーテルを留去する。シリカゲルカラムクロマトグラフ
(溶媒:ベンゼン)にて精製し0.3gの4’−オクチ
ル4−α−ヘプチルオキシプロパノイル−オキシアゾキ
シベンゼンを得た。
プロパノイルオキシアゾベンゼン0.8gを50mlの
氷酢酸へ溶解し50〜60℃に保ち31%H2O2水溶
液7mlを1時間30分で滴下する。50〜60℃に2
2時間保持したのち500mlのイオン交換水へ投入し
エーテルにて抽出する。100mlの5%Na2CO3
水溶液と100mlのイオン交換水で洗浄したものから
エーテルを留去する。シリカゲルカラムクロマトグラフ
(溶媒:ベンゼン)にて精製し0.3gの4’−オクチ
ル4−α−ヘプチルオキシプロパノイル−オキシアゾキ
シベンゼンを得た。
【0066】
【数10】
IR:2920,1775,1600,1500,14
65,1200,1120,830cm−1。
65,1200,1120,830cm−1。
【0067】実施例9[4’−ヘキシルオキシ4−α−
ヘプチルオキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン]
n−ヘキシルオキシアニリン16.5gを50mlのイ
オン交換水とともに冷却したものへ10%塩酸水溶液4
3gを加える。次にNaNO25.9gを34mlの水
に溶解したものを冷却しつつ滴下する。フェノール8.
0gを8%NaOH水溶液86.6gへ溶解したものへ
上記の反応させたものを加える。滴下中は5℃以下に保
った。滴下終了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加
えpH1とした。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した
。乾燥後石油エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し12
.1gの4−ハイドロキシ4’−ヘキシルオキシアゾベ
ンゼンを得た。
ヘプチルオキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼン]
n−ヘキシルオキシアニリン16.5gを50mlのイ
オン交換水とともに冷却したものへ10%塩酸水溶液4
3gを加える。次にNaNO25.9gを34mlの水
に溶解したものを冷却しつつ滴下する。フェノール8.
0gを8%NaOH水溶液86.6gへ溶解したものへ
上記の反応させたものを加える。滴下中は5℃以下に保
った。滴下終了後1時間放置し、10%塩酸水溶液を加
えpH1とした。析出した微結晶を濾別し減圧乾燥した
。乾燥後石油エーテルで洗浄し、さらに減圧乾燥し12
.1gの4−ハイドロキシ4’−ヘキシルオキシアゾベ
ンゼンを得た。
【0068】(−)−2−ヘプチルオキシプロピオン酸
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを4−ハ
イドロキシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン4.5
gを乾燥ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌
したものへ加える。室温にて5時間放置したのちイオン
交換水へ投入し析出物を濾別する。シリカゲルカラムク
ロマトグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.8g
の4’−ヘキシルオキシ4−α−ヘプチルオキシプロパ
ノイルオキシアゾベンゼンを得た。融点69℃。
3.8gをフラスコへ加え、次に塩化チオニル3.6g
を加え30分間反応後塩化チオニルを留去する。得られ
た2−ヘプチルオキシプロピオン酸クロライドを4−ハ
イドロキシ−4’−ヘキシルオキシアゾベンゼン4.5
gを乾燥ピリジン20mlとともにフラスコへ加え攪拌
したものへ加える。室温にて5時間放置したのちイオン
交換水へ投入し析出物を濾別する。シリカゲルカラムク
ロマトグラフ(溶媒:ベンゼン)にて精製して2.8g
の4’−ヘキシルオキシ4−α−ヘプチルオキシプロパ
ノイルオキシアゾベンゼンを得た。融点69℃。
【0069】4’−ヘキシルオキシ4−α−ヘプチルオ
キシプロパノイルオキシアゾベンゼン0.82gを55
mlの氷酢酸へ溶解し50〜60℃に保ち31%H2O
2水溶液7mlを約1時間で滴下する。50〜60℃に
24時間保持し、さらに室温にて24時間放置した後、
800mlのイオン交換水へ投入しエーテルにて抽出す
る。3.3gのNa2CO3を含む100mlの水溶液
および100mlのイオン交換水で洗浄し、無水Na2
SO4にて乾燥する。エーテルを留去したものをシリカ
ゲルカラムクロマトグラム(溶媒:ベンゼン)にて精製
して0.4gの4’−ヘキシルオキシ−4α−ヘプチル
オキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼンを得た。
キシプロパノイルオキシアゾベンゼン0.82gを55
mlの氷酢酸へ溶解し50〜60℃に保ち31%H2O
2水溶液7mlを約1時間で滴下する。50〜60℃に
24時間保持し、さらに室温にて24時間放置した後、
800mlのイオン交換水へ投入しエーテルにて抽出す
る。3.3gのNa2CO3を含む100mlの水溶液
および100mlのイオン交換水で洗浄し、無水Na2
SO4にて乾燥する。エーテルを留去したものをシリカ
ゲルカラムクロマトグラム(溶媒:ベンゼン)にて精製
して0.4gの4’−ヘキシルオキシ−4α−ヘプチル
オキシプロパノイルオキシアゾキシベンゼンを得た。
【0070】
【数11】
IR:2940,1760,1600,1500,14
70,1200,1140,840cm−1。
70,1200,1140,840cm−1。
【0071】実施例10〈実施例5で製造した液晶性化
合物を配合成分とする液晶組成物の特性〉DOBAMB
C 88wt%と実施例5の液晶性化合物12wt%
からなる液晶組成物を調製したところSmC*の温度範
囲を47℃〜80℃に低下させることができた。
合物を配合成分とする液晶組成物の特性〉DOBAMB
C 88wt%と実施例5の液晶性化合物12wt%
からなる液晶組成物を調製したところSmC*の温度範
囲を47℃〜80℃に低下させることができた。
【0072】実施例11〈実施例8で製造した液晶性化
合物を配合成分とする液晶組成物の特性〉表1に示すよ
うな液晶組成物を調製したところ冷却過程にて40℃〜
5℃の温度範囲にてSmC*を持つものとなった。
合物を配合成分とする液晶組成物の特性〉表1に示すよ
うな液晶組成物を調製したところ冷却過程にて40℃〜
5℃の温度範囲にてSmC*を持つものとなった。
【0073】
【表2】
【0074】実施例12〈実施例5で製造した液晶性化
合物を配合成分とする液晶組成物の特性〉MBRA
8 98wt%と実施例5の液晶性化合物2wt%か
らなる液晶組成物はSmC相のTc−T=18.2℃に
おいてMBRA 8単独の自発分極の2倍の自発分極
を示した。
合物を配合成分とする液晶組成物の特性〉MBRA
8 98wt%と実施例5の液晶性化合物2wt%か
らなる液晶組成物はSmC相のTc−T=18.2℃に
おいてMBRA 8単独の自発分極の2倍の自発分極
を示した。
【0075】MBRA 8単独 PS=34.6μ
c/m2(Tc−T=21.8℃) 実施例 12 PS=60.1μc/m2
(Tc−T=18.2℃) 自発分極は三角波印加による分極反転電流により測定し
た(参考文献1983年第9回液晶討論会予稿集pp.
82 宮里、竹添、福田et al)。
c/m2(Tc−T=21.8℃) 実施例 12 PS=60.1μc/m2
(Tc−T=18.2℃) 自発分極は三角波印加による分極反転電流により測定し
た(参考文献1983年第9回液晶討論会予稿集pp.
82 宮里、竹添、福田et al)。
【0076】
【発明の効果】本発明に用いる乳酸誘導体にあっては上
記のように適度な分子間力と形状をもった機能性材料中
間体と光学活性を損うことなく結合させることができ、
分子設計を自由に行うことができる。また、本発明に用
いる乳酸誘導体のうち特定の化合物はアルキル基の長さ
を変更することができるため、液晶状態において発現す
る液晶相の種類や温度範囲は制御することが可能であり
、優れた液晶組成物を与える。また、本発明に用いる乳
酸誘導体はLB膜法により単分子累積膜を作製する場合
にも容易に疎水基を制御することが可能となる。
記のように適度な分子間力と形状をもった機能性材料中
間体と光学活性を損うことなく結合させることができ、
分子設計を自由に行うことができる。また、本発明に用
いる乳酸誘導体のうち特定の化合物はアルキル基の長さ
を変更することができるため、液晶状態において発現す
る液晶相の種類や温度範囲は制御することが可能であり
、優れた液晶組成物を与える。また、本発明に用いる乳
酸誘導体はLB膜法により単分子累積膜を作製する場合
にも容易に疎水基を制御することが可能となる。
【図1】参考例4で得られた化合物のIRスペクトル(
KBrディスク法)である。
KBrディスク法)である。
【図2】実施例2で得られた化合物のIRスペクトル(
KBrディスク法)である。
KBrディスク法)である。
【図3】実施例5で得られた化合物のIRスペクトル(
バルク法)である。
バルク法)である。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式(I’): 【化1】 [一般式(I’)中、Rは炭素数4〜20の直鎖状飽和
炭化水素基を示す。R”はアゾベンゼン誘導体、アゾキ
シベンゼン誘導体、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘
導体、フェニルシクロヘキサン誘導体、安息香酸誘導体
、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリジン誘導体
、スチルベン誘導トラン誘導体、カルコン誘導体、ビシ
クロヘキサン誘導体、あるいはケイ皮酸誘導体のいずれ
かの中から選ばれる残基。C*は光学活性な不斉炭素原
子を示す。] で表される乳酸誘導体を少なくとも1種類配合成分とし
て含有することを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3131693A JPH0768517B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | カイラルスメクチック液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3131693A JPH0768517B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | カイラルスメクチック液晶組成物 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59195770A Division JPS6176438A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 乳酸誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04227681A true JPH04227681A (ja) | 1992-08-17 |
| JPH0768517B2 JPH0768517B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=15064002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3131693A Expired - Fee Related JPH0768517B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | カイラルスメクチック液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0768517B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100487959B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2005-05-04 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 광이미지 및 광메모리용 찰콘 화합물 및 그 제조방법 |
-
1991
- 1991-05-08 JP JP3131693A patent/JPH0768517B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| BOL SOC CHIL QUIM=1984 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100487959B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2005-05-04 | 재단법인서울대학교산학협력재단 | 광이미지 및 광메모리용 찰콘 화합물 및 그 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0768517B2 (ja) | 1995-07-26 |
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