JPH04235191A - ホスフィン酸エステルのジアステレオマー選択的製造法 - Google Patents

ホスフィン酸エステルのジアステレオマー選択的製造法

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JPH04235191A
JPH04235191A JP3019468A JP1946891A JPH04235191A JP H04235191 A JPH04235191 A JP H04235191A JP 3019468 A JP3019468 A JP 3019468A JP 1946891 A JP1946891 A JP 1946891A JP H04235191 A JPH04235191 A JP H04235191A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ホシノプリル(fos
inopril)およびその関連化合物の改良された製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】構造式:
【化19】 を有するホシノプリルナトリウム、すなわち[1[S*
(R*)],2α,4β]−4−シクロヘキシル−1−
[[[2−メチル−1−(1−オキソプロポキシ)プロ
ポキシ](4−フェニルブチル)ホスフィニル]アセチ
ル]−L−プロリン一塩酸塩は、現在、抗高血圧症剤と
して評価されている。
【0003】ペトリロ(Petorillo、Jr.)
は米国特許第4,337,201号および同第4,38
4,123号各明細書において、ホシノプリルを含むア
ンギオテンシン変換酵素抑制作用を有する種々のホスフ
ィニルアルカノイル置換プロリンを開示している。
【0004】ペトリロらは米国特許第4,873,35
6号明細書においてホシノプリルの製造法を開示してお
り、該方法では、式:
【化20】 (式中、R3はベンジル基または置換ベンジル基、nは
0または1、R1は低級アルキル基、アリール基、アリ
ールアルキル基、シクロアルキル基またはシクロアルキ
ルアルキル基である)で示されるホスフィン酸エステル
を式:
【化21】 (式中、HalはClまたはBr、Xは水素原子、低級
アルキル基、またはフェニル基、Yは水素原子、低級ア
ルキル基、フェニル基、またはアルコキシ基である)で
示されるハロエステルと反応させて式:
【化22】 で示されるホスフィン酸ジエステルを生成させる。この
反応は、トリエチルアミン(これが好ましい)、ピリジ
ン、トリプロピルアミン、ジアザビシクロウンデセンま
たは他の一般的な有機塩基などの有機塩基、およびトル
エン(これが好ましい)、アセトニトリル、ジクロロメ
タン、エチルエーテル、テトラヒドロフラン、またはジ
オキサンなどの有機溶媒の存在下、および最適には硫酸
テトラブチルアンモニウムやヨウ化ナトリウムなどの触
媒の存在下で行うことが開示されている。
【0005】ついで、得られたホスフィン酸ジエステル
を水素化して一対のラセミ混合物を得、これを分別結晶
により分離して単一のラセミ混合物を得る。このラセミ
混合物をL−シンコニジンや他の光学活性アミンなどの
分割剤で処理して式:
【化23】 で示される所望の中間体を分離する。ついで、上記中間
体においてR1がフェニルブチル基であり、nが0であ
り、R2が水素原子であり、Yがエチル基であり、Xが
イソプロピル基である化合物をカップリング剤の存在下
で4−トランス−シクロヘキシル−L−プロリン塩酸塩
とカップリングしてホシノプリルを得る。
【0006】
【発明の概要】本発明は、抗高血圧症剤であるホシノプ
リルおよびその関連化合物の製造方法における効率の改
良に関する。本発明の改良法によれば、式:
【化24】 で示されるホスフィン酸エステルを式:
【化25】 で示されるハロエステルと4−メチルモルホリン(これ
が好ましい)、ジアザビシクロオクタン、キヌクリジン
、1−メチル−ピロリジン、またはシンコニジンの存在
下で反応させる。この反応はトルエン(これが好ましい
)、アセトニトリル、ジクロロメタン、キシレン、テト
ラヒドロフラン、またはジオキサンなどの有機溶媒中、
約40℃〜約138℃、好ましくは約95℃の温度にて
行って4種の異性体の混合物を得る。
【0007】ついで、得られた中間体をパラジウム/炭
素などの触媒の存在下に水素で処理することにより水素
化してR3エステル基を除き、2つのジアステレオマー
のペアの混合物を得る。所望のジアステレオマーのペア
は式:
【化26】 で示される化合物および式:
【化27】 で示される化合物を含む。また、所望でないジアステレ
オマーのペアは式:
【化28】 で示される化合物および式:
【化29】 で示される化合物を含む。
【0008】上記方法において4−メチルモルホリン、
ジアザビシクロオクタン、キヌクリジン、1−メチルピ
ロリジン、またはシンコニジンを用いることにより、I
IIC/Dに対するIIIA/Bの異性体比が、トリエ
チルアミンを用いた場合の約1.2から約1.5に上昇
する。この所望のジアステレオマーのペアIIIA/B
の産生の上昇の結果、所望の最終生成物を調製する場合
の全体としての効率が向上する。
【0009】式Iおよび式III中に使用した基は下記
意味を有する。R1は低級アルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アリール低級アルキル基またはシクロ
アルキル−低級アルキル基である。nは0または1であ
る。R2は水素原子、低級アルキル基、またはアリール
−低級アルキル基である。R3は式:
【化30】 で示される基、式:
【化31】 で示される基、または
【化32】 で示される基である。R4は低級アルキル基、低級アル
コキシ基、フェニル基、−CO−CH3、またはジ(低
級アルキル)アミノ基である。Xは水素原子、低級アル
キル基、またはフェニル基である。Yは水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ基またはフェニル基である
【0010】本明細書において単独または一層大きな基
の一部として用いられる「低級アルキル基」とは、炭素
数が1〜7の分枝鎖または直鎖基、好ましくはメチル基
、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、t−ブチル基などの炭素数が1〜4の分枝鎖ま
たは直鎖基をいう。本明細書において単独または一層大
きな基の一部として用いられる「シクロアルキル基」と
は、炭素数が3〜7の飽和環基、すなわちシクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、およびシクロヘプチル基をいう。
【0011】本明細書において単独または一層大きな基
の一部として用いられる「アリール基」とは、フェニル
基、1−ナフチル基、または2−ナフチル基、および炭
素数1〜4の低級アルキル基、炭素数1〜4の低級アル
コキシ基、炭素数1〜4の低級アルキルチオ基、水酸基
、ニトロ基、アミノ基、ジ(C1〜4低級アルキル)ア
ミノ基、Cl、Br、F、またはCF3より選ばれた置
換基を1つ、2つまたは3つ有するフェニル基、1−ナ
フチル基、または2−ナフチル基をいう。フェニル基お
よびモノ置換フェニル基が好ましいアリール基である。
【0012】本明細書において「低級アルコキシ基」お
よび「低級アルキルチオ基」とは、OまたはSに結合し
た上記低級アルキル基をいう。本明細書において「アリ
ール−低級アルキル基」および「シクロアルキル−低級
アルキル基」とは、上記低級アルキル基に結合した上記
アリール基およびシクロアルキル基、すなわち、式:

化33】 で示される基、式:
【化34】 で示される基、式:
【化35】 で示される基、式:
【化36】 で示される基、式:
【化37】 で示される基などをいう。
【0013】本発明は、ペトリロにより米国特許第4,
337,201号および同第4,384,123号各明
細書に開示されたアンギオテンシン変換酵素抑制剤の改
良された製造方法に関する。とりわけ、本発明は、ホス
フィン酸エステル(IIIA)の製法の改良に関する。 このエステルにおいてR1が式:
【化38】 で示される基であり、nが0であり、R2が水素原子で
あり、Yが−C2H5であり、Xが−CH(CH3)2
であるものは、ホシノプリルの製造中間体である。
【0014】本発明の改良法によれば、式(I)のホス
フィン酸エステル、とりわけR3がベンジル基であるも
のを式(II)のハロエステルと有機溶媒中、4−メチ
ルモルホリン、ジアザビシクロオクタン、キヌクリジン
、1−メチルピロリジン、またはシンコニジンの存在下
で反応させ、ついで水素化してR3エステル基を除き、
化合物(IIIA)、(IIIB)、(IIIC)、お
よび(IIID)の混合物(混合物中のジアステレオマ
ーのペアIIIC/Dに対するIIIA/Bの比は約1
.5である)を得る。
【0015】ホスフィン酸エステル(I)は、ハロエス
テル(II)に対するモル比で約0.1:1〜約1:1
、好ましくは約0.2:1〜約0.3:1にて用い、反
応は約40℃〜約138℃、好ましくは約95℃にて約
18〜約96時間行う。
【0016】水素化分解により保護基を除去した後、つ
いで化合物(IIIA)と化合物(IIIB)とのラセ
ミ混合物を酢酸エチル、エチルアルコール、またはテト
ラヒドロフランなどの有機溶媒中、L−シンコニジン(
これが好ましい)や他の従来の分割剤(すなわち、光学
活性アミンなど)などの分割剤で処理する。この工程は
、約25℃〜約80℃の温度にて約2〜約12時間行い
、分割剤は化合物(IIIA)と化合物(IIIB)と
のラセミ混合物に対して約2:1〜約0.2:1、好ま
しくは約1:1〜約0.5:1のモル比で用いる。その
結果、下記構造:
【化39】 を有する分割塩が得られる。塩酸や硫酸などの強酸また
は硫酸水素カリウムなどの酸塩で処理して化合物(II
IB)を含まない化合物(IIIA)が得られる。
【0017】上記分割した酸(IIIA)においてR1
が式:
【化40】 で示される基であり、nが0であり、R2が水素原子で
あり、Yが−C2H5であり、Xが−CH(CH3)2
である化合物を、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドなどのカップリング剤の存在下、式:
【化41】 で示される4−置換L−プロリン塩酸塩とカップリング
してホシノプリルを得る。別法として、式(IIIA)
の酸を混合無水物、酸クロライドなどの活性形に変換し
、ついで式(V)の4−置換L−プロリンまたはそのエ
ステルとカップリングさせることもできる。
【0018】化合物(IIIA)と化合物(V)とのカ
ップリング反応は、化合物(V)に対する化合物(II
IA)のモル比を約0.5:1〜約2:1とし、約−2
0℃〜約30℃の温度にて約2〜約12時間行う。
【0019】本発明の方法に有用な式(I)で示される
出発物質であるホスフィン酸エステルの例としては下記
のものが挙げられるが、これらに限られるものではない
【化42】
【化43】
【0020】本発明の方法に有用な式(II)で示され
る出発物質であるハロエステルの例としては下記のもの
が挙げられるが、これらに限られるものではない。
【化44】
【0021】つぎに本発明を実施例に基づいてさらに詳
しく説明するが、本発明はこれに限られるものではない
。 実施例[1[S*(R*)],2α,4β]−4−シク
ロヘキシル−1−[[[2−メチル−1−(1−オキソ
プロポキシ)プロポキシ](4−フェニルブチル)ホス
フィニル]アセチル]−L−プロリン一塩酸塩: (a)[[2−メチル−1−(1−オキソプロポキシ)
プロポキシ](4−フェニルブチル)ホスフィニル]酢
酸(ジアステレオマーのペア): [ヒドロキシ(4−フェニルブチル)ホスフィニル]酢
酸のフェニルメチルエステル(100g、0.29モル
)、4−メチルモルホリン(59.3g、0.58モル
)およびトルエン(150ml)を、500ml容の3
つ首丸底フラスコ(撹拌器、冷却器、および加熱マント
ルを備えている)に入れた。この混合物を15分間撹拌
して溶解を確認した。
【0022】プロパン酸の1−クロロ−2−メチルプロ
ピルエステル(104.6g、0.58モル)を加え、
この混合物を95℃に加熱した。HPLCによりアルキ
ル化の完了が測定されるまで(18〜19時間)、この
反応混合物を同温度にて撹拌した。この溶液を25℃に
冷却し、焼結ガラス漏斗(中位の多孔性;250ml)
で真空濾過し、得られた4−メチルモルホリン塩酸塩の
ケーキをトルエン(100ml、25℃)で洗浄した。
【0023】炉液および洗浄液を集め、500ml容の
3つ首丸底フラスコ(ガス分散管、メカニカルスターラ
ー、冷却器、45℃の水浴およびガス放出管を備える)
に入れた。この混合物を625rpmで撹拌し、この溶
液中に窒素ガスを15分間通した。
【0024】溶液にパラジウム/炭素(5%、2.5g
、乾燥、または50%湿潤を5.0g)を加え、水素を
1psiにて通して吹き込んだ。HPLCでの測定によ
り、水素化分解は3時間後に完了した。溶液に窒素を通
して過剰の水素を除いた。この溶液をHyflo(4g
、7cmのブフナー漏斗)で濾過し、濾過ケーキをトル
エン(25ml)で洗浄した。洗浄液と炉液を集め、1
部の5%重炭酸ナトリウム水溶液(380mlの水中に
20gの重炭酸ナトリウム)で抽出した。この水性抽出
物を濃塩酸(33ml)でpH3.0の酸性にし、メチ
ルイソブチルケトン(400ml、1回抽出)で抽出し
た。このメチルイソブチルケトン溶液の容量を200m
lに減らし(40℃最大)、ついで所望のジアステレオ
マーのペアを30℃にて種晶させた(seeding)
。このスラリーを30℃にて2時間撹拌し、1時間かけ
てゆっくりと0℃に冷却した。ついで、このスラリーを
−10℃に冷却した。−10℃に2時間保持した後、生
成物を真空濾過により集め、冷(−10℃)メチルイソ
ブチルケトン(3×30ml)で洗浄した。
【0025】生成物を70〜80℃にてメチルイソブチ
ルケトン(75ml)中に溶解することにより再結晶を
行った。この溶液を熱濾過し、50℃にて純粋な生成物
で種晶させた。ついで、2時間かけて0℃に冷却した。 この溶液を同温度で3時間保持した。真空濾過により結
晶を単離し、冷(0℃)メチルイソブチルケトン(2×
30ml)で洗浄し、15分間空気乾燥した。26℃に
て16時間真空乾燥した後、固体の[[2−メチル−1
−(1−オキソプロポキシ)プロポキシ](4−フェニ
ルブチル)ホスフィニル]酢酸の全収量は49g(3回
行ったものの平均に基づき約44%)であった。 元素分析値(C19H29O6Pとして):計算値(%
):C59.36、H7.60、P8.06実測値(%
):C59.60、H7.86、P8.07
【0026
】(b)[R−(R*,S*)]−[[2−メチル−1
−(1−オキソプロポキシ)プロポキシ]−(4−フェ
ニルブチル)ホスフィニル]酢酸: 45℃に保持した酢酸エチル(6l)中のl−シンコニ
ジン(980g、3.33モル)の激しく撹拌した懸濁
液に、工程(a)で得たジアステレオマー生成物(12
75.5g、3.33モル)を徐々に加え、撹拌をさら
に2.5時間続け、その間、完全な溶液が得られたとき
に、生成した塩の懸濁液を70℃に徐々に加熱した。小
部分の不溶性物質から濾過(Hyflo)した後、溶液
を種晶させ、冷却した。ついで、分離した結晶性の生成
物を濾過し、酢酸エチル:イソプロピルエーテル(1:
1)(1200ml)で洗浄し、真空乾燥して所望の異
性体に富むシンコニジン塩(1897,2g)を得た;
m.p.106〜109℃、[α]D=−59.3°(
c=1、メタノール)、[α]365=−237.6°
(c=1、メタノール)。この物質を同様に調製した物
質(136.8g)と合わせ、全量(2014g)を沸
騰した酢酸エチル(10.18l)から再結晶し、つい
で濾過し、上記と同じ溶媒混合物(1500ml)で洗
浄し、真空乾燥した後、所望の異性体のシンコニジン塩
(1162g)を得た;m.p.120〜122℃(分
解)、[α]D=−45.2°(c=1、メタノール)
、[α]365=−185.5°(c=1、メタノール
)。試料(10g)をアセトニトリルから2回、酢酸エ
チルから3回再結晶して、[R−(R*,S*)]−[
[2−メチル−1−(1−オキソプロポキシ)プロポキ
シ]−(4−フェニルブチル)ホスフィニル]酢酸のシ
ンコニジン塩(1:1)の分析試料を得た;m.p.1
25〜126℃(分解)、[α]D=−42.2°(c
=1、メタノール)、[α]365=−178.8°(
c=1、メタノール)。 元素分析値(C19H29O6P・C19H22N2O
として):計算値(%):C67.23、H7.57、
N4.13実測値(%):C67.17、H7.62、
N4.14
【0027】酢酸エチル(4800ml)と
水(2700ml)との混合物中の上記シンコニジン塩
(406.8g、0.6モル)の撹拌懸濁液に、水(7
00ml)中の硫酸水素カリウム(180g)の溶液を
滴下してpH2.3とした。有機層を分離し、食塩水(
1×1000ml)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
させた(2時間)。水相を集め、酢酸エチル(3×15
00ml)で再抽出し、上記のようにして処理した。酢
酸エチル洗浄液を集めて濾過し、真空濃縮した。残渣を
トルエン(3×1300ml)で共沸し、ついで3日間
真空乾燥して[R−(R*,S*)]−[[2−メチル
−1−(1−オキソプロポキシ)プロポキシ]−(4−
フェニルブチル)ホスフィニル]酢酸(230.4g)
を得た。
【0028】(c)[1[S*(R*)],2α,4β
]−4−シクロヘキシル−1−[[[2−メチル−1−
(1−オキソプロポキシ)プロポキシ](4−フェニル
ブチル)ホスフィニル]アセチル]−L−プロリン一塩
酸塩:バーディックアンドジャクソン(Burdick
&Jackson)ジクロロメタン(ふるい乾燥させた
もの)(6l)中の工程(b)で得た遊離の酸生成物(
230.4g、0.6モル)およびヒドロキシベンゾト
リアゾール水和物(80℃にて24時間真空乾燥させた
もの)(101.1g、0.66モル)のスラリーを氷
/アセトン浴中で冷却し、N,N’−ジシクロヘキシル
カルボジイミド(136g、0.66モル)で処理した
。この混合物を室温に温め、3時間撹拌した。ついで、
この混合物を氷/アセトン中で冷却し、(トランス)−
4−シクロヘキシル−L−プロリン一塩酸塩(154.
2g、0.66モル)、ついでジイソプロピルエチルア
ミン(170.7g、1.32モル)で処理した。 この反応混合物を室温にて18時間撹拌した。ついで、
混合物を冷却し、水(1l)で処理し、真空濃縮してジ
クロロメタンを除いた。残渣をエーテル(3600ml
)および水(3600ml)で希釈し、濾過した。10
%塩酸を用いて炉液のpHを1.8とした。エーテル層
を分離し、水層を酢酸エチル(3×2l)で洗浄した。 有機層を集め、5%KHSO4(3×1l)、水(3×
1l)および食塩水(1l)で洗浄し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、真空濃縮して粗製の生成物(398.9g
)を得た。
【0029】上記粗製の生成物をアセトン(4393m
l)中に溶解し、アセトン(1468ml)中の2−エ
チルヘキサン酸ナトリウム塩(117.3g)の溶液で
処理し、ついで室温にて一夜撹拌した。得られた沈殿を
濾過により回収し、アセトン(3×400ml)および
ヘキサン(1l)で洗浄し、ついで真空乾燥して[1[
S*(R*)],2α,4β]−4−シクロヘキシル−
1−[[[2−メチル−1−(1−オキソプロポキシ)
プロポキシ](4−フェニルブチル)ホスフィニル]ア
セチル]−L−プロリン一塩酸塩(277g)を得た;
m.p.195〜196℃、[α]D=−5.1°(c
=2、メタノール)。 元素分析値(C30H45NO7P・Naとして):計
算値(%):C61.53、H7.75、N2.39、
P5.29 実測値(%):C61.69、H7.89、N2.34
、P5.1

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式: 【化1】 および式: 【化2】 で示される所望でないジアステレオマーのペアに比べて
    、式: 【化3】 および式: 【化4】 で示される所望のジアステレオマーのペアをより高収量
    で製造する方法であって、(a)式: 【化5】 で示されるホスフィン酸エステルを式:【化6】 で示されるハロエステルと4−メチルモルホリン、ジア
    ザビシクロオクタン、キヌクリジン、1−メチルピロリ
    ジン、またはシンコニジンの存在下、有機溶媒中、約4
    0℃〜約138℃の温度にて反応させて4種の異性体の
    混合物からなる中間体を得、ついで(b)工程(a)か
    らの4種の異性体の混合物を水素化してR3エステル基
    を除き、所望でないジアステレオマーのペアよりも所望
    のジアステレオマーのペアをより高収量で得る、ことを
    特徴とする方法(式中、R1は低級アルキル基、シクロ
    アルキル基、アリール基、アリール低級アルキル基、ま
    たはシクロアルキル−低級アルキル基;nは0または1
    ;R2は水素原子、低級アルキル基、またはアリール−
    低級アルキル基;R3は式: 【化7】 で示される基、式: 【化8】 で示される基、または式: 【化9】 で示される基;R4は低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、フェニル基、−CO−CH3、またはジ(低級アル
    キル)アミノ基;HalはBrまたはCl;Xは水素原
    子、低級アルキル基、またはフェニル基;Yは水素原子
    、低級アルキル基、低級アルコキシ基、またはフェニル
    基である)。
  2. 【請求項2】  R1が式: 【化10】 で示される基であり、nが0であり、R2が水素原子で
    あり、HalがClであり、R3が式:【化11】 で示される基であり、Xが−CH(CH3)2であり、
    Yが−C2H5である、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】  工程(a)を4−メチルモルホリンの
    存在下で行い、所望でないジアステレオマーのペアに対
    する所望のジアステレオマーのペアの比が約1.5であ
    る、請求項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】  工程(a)の反応をトルエン中、約9
    5℃の温度にて約18〜19時間行い、工程(b)の水
    素化を、パラジウム/炭素の存在下、水素ガスを反応混
    合物中に1psiにて吹き込むことにより行う、請求項
    3に記載の方法。
  5. 【請求項5】  ホシノプリルナトリウムをより高収量
    で製造する方法であって、(a)式: 【化12】 で示されるホスフィン酸エステルを式:【化13】 で示されるハロエステルと4−メチルモルホリン、ジア
    ザビシクロオクタン、キヌクリジン、1−メチルピロリ
    ジン、またはシンコニジンの存在下、有機溶媒中、約4
    0℃〜約138℃の温度にて反応させて4種の異性体の
    混合物からなる中間体を得、(b)工程(a)からの4
    種の異性体の混合物を水素化して、式: 【化14】 および式: 【化15】 で示される所望でないジアステレオマーのペアに比べて
    、式: 【化16】 および式: 【化17】 で示される所望のジアステレオマーのペアをより高収量
    で得、(c)メチルイソブチルケトンで抽出することに
    より、工程(b)における所望でないジアステレオマー
    のペアから所望のジアステレオマーのペアを分離し、(
    d)光学活性アミンで処理して塩を得、該所望の異性体
    の塩を強酸または酸塩で処理することにより工程(c)
    で得た所望のジアステレオマーのペアを分割して式:【
    化18】 で示される化合物を得、ついで(e)工程(d)で得た
    分割した酸生成物を(トランス)−4−シクロヘキシル
    −L−プロリン一塩酸塩とカップリングし、ついでナト
    リウムイオン源で処理してホシノプリルナトリウムを得
    る、ことを特徴とする方法。
  6. 【請求項6】  工程(a)を4−メチルモルホリンの
    存在下で行い、所望でないジアステレオマーのペアに対
    する所望のジアステレオマーのペアの比が約1.5であ
    る、請求項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】  工程(a)の反応をトルエン中、約9
    5℃の温度にて約18〜19時間行い、工程(b)の水
    素化を、パラジウム/炭素の存在下、水素ガスを反応混
    合物中に1psiにて吹き込むことにより行う、請求項
    6に記載の方法。
  8. 【請求項8】  工程(d)の分割剤がl−シンコニジ
    ンである請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】  工程(e)のカップリング反応をカッ
    プリング剤の存在下で行う請求項8に記載の方法。
  10. 【請求項10】  工程(e)のカップリング剤がN,
    N’−ジシクロヘキシルカルボジイミドであり、ナトリ
    ウムイオン源が2−エチルヘキサン酸ナトリウム塩であ
    る請求項9に記載の方法。
  11. 【請求項11】  工程(e)のカップリング反応を行
    う前に、工程(d)で分割した酸生成物を活性形に変換
    する、請求項8に記載の方法。
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