JPH0424193B2 - - Google Patents
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- JPH0424193B2 JPH0424193B2 JP63077998A JP7799888A JPH0424193B2 JP H0424193 B2 JPH0424193 B2 JP H0424193B2 JP 63077998 A JP63077998 A JP 63077998A JP 7799888 A JP7799888 A JP 7799888A JP H0424193 B2 JPH0424193 B2 JP H0424193B2
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- G—PHYSICS
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Description
(技術分野)
本発明はラツピングテープに関し、特に磁気ヘ
ツド等の超精密仕上に適したラツピングテープに
関する。なおここにテープとは長尺、短尺を問わ
ずシート、リボン等薄物を指すものとする。 (従来技術とその欠点) ラツピングテープは磁気ヘツド、磁気デイス
ク、精密加工品等の最終仕上に使用されている。
例えば、磁気ヘツドの出荷前にその表面を精密研
磨してその特性を微調整するために使用された
り、或は使用中に磁気ヘツド、磁気デイスクとの
摩擦により擦傷等が生じて磁気記録再生特性の低
下を招くので、定期的に磁気ヘツドの表面をラツ
ピングして磁気ヘツド表面の精密研磨を行なうた
めに使用されたりする。 しかし、従来のラツピングテープは被加工物の
表面を部分的に深い傷を生じ或は多数の長い擦傷
(スクラツチ)をつけて被加工物の特性を低下す
ることがしばしば見られ、本発明者の知り得る範
囲では従来のいかなるラツピングテープもこの問
題を生じる。 この種のラツピングテープは、研磨材粒子をバ
インダー中に分散し、これをプラスチツク、金属
その他のフイルム、シート、デイスク等の上に塗
布して研磨層を形成したものである。一般に高精
密仕上のためのラツピングには粗い粒子は使用出
来ず、粒径の小さい研磨材粉末を使用する。しか
しながら、粒子径の小さい粒子は凝集しやすいた
めに完全な分散を得ることができずラツピングテ
ープの研磨層中に散在し表面に突出する凝集部を
生じ、このため局部的な深い傷の発生や全体的な
多数の擦傷の形成を避けることは出来ない。ラツ
ピングテープとして従来最も高性能なものでも以
下に実例で示すように上記の問題を有する。 最近特公昭62−60725号によつて、磁気ヘツド
のクリーニングに適したクリーニングテープが提
案されている。同テープは研磨砥粒と増量剤とを
バインダーととも混練りした研磨塗膜をベース上
に塗着した。すなわちモース硬度が9未満で粒度
が0.2〜2.0μmの粒状非磁性砥粒(α酸化鉄等)
と、増量剤として研磨砥粒の60重量%以上の磁性
酸化鉄粒子を用い、これらの粉末をバインダーに
よつてベースに塗布し、表面粗さを中心線平均粗
さ0.04〜0.1μmにしたテープである。しかし同文
献の記載にも拘らず粒状非磁性砥粒の粒径は粗す
ぎ、また表面粗さも粗すぎるため、所期の効果を
得ることができないことを見出した。すなわち、
同技術はあくまでクリーニングテープとして磁気
ヘツドに付着した磁気テープの磁性塗膜の削れ粉
の除去には優れた効果を発揮するが、ラツピング
テープとしては充分な研削効果が得られず、また
擦傷の発生を防止することができないことが分か
つた。従つて、研削能率がある程度高くしかも磁
気ヘツド等の被加工物に対して擦傷や深い傷を生
じないラツピングテープの出現が望まれる。 (発明の目的) 本発明の目的は、深い傷や擦傷(スクラツチ)
を生じない優れたラツピングテープを提供するこ
とにある。 (発明の概要) 本発明の上記目的は、BET法による表面積が
30m2/g以上の針状酸化鉄粉末とモース硬度が7
を超える粒状無機粉末が針状酸化鉄粉末に対して
2.0〜30重量%の割合で含有されており、中心線
平均粗さが0.015〜0.03μmであるラツピングテー
プによつて達成される。 ここに好ましくは針状酸化鉄が磁性を有し、ま
た無機粉末の粒径が0.05〜0.4μmである。 本発明のラツピングテープは深い傷や擦傷(ス
クラツチ)を生じない優れたラツピングテープで
ある。 (発明の具体的な説明) 本発明は、研磨材粒子としてBET法による表
面積が30m2/g以上の針状酸化鉄粉末とモース硬
度が7を超える粒状無機粉末とを併用する。針状
酸化鉄としてはマグネタイト、γ酸化鉄、コバル
ト含有γ酸化鉄、α酸化鉄が使用できるが、特に
磁性のある前三者が好適である。これは酸化状態
によつて硬度が適正となるためかと思われる。針
状酸化鉄の表面積は30m2/g以上でなければなら
ない。表面積と粒径はほぼ相関してはいるが針状
比にもよるので表面積で指定したほうが信頼性に
勝ることが分かつた。表面積がこの範囲に達しな
いと粒子が粗くなり、磁気ヘツド等の被加工物の
表面を傷付けてしまうことが分かつた。磁気ヘツ
ドが傷を受けるとY−S/N比等の特性が低下
し、このラツピングテープを使用してもヘツド目
詰まりは除去することは出来ても未使用の磁気ヘ
ツドの特性(初期値)に戻すことができない。 次ぎに、モース硬度7を超える硬度の研磨材粒
子ないし砥粒は粒状(丸、無定形又は多角形)で
あり、平均粒子径として0.05〜0.4μmのものを使
用することが好ましい。この範囲より大径の粒子
は磁気ヘツド等の被加工物の表面に傷を生じる。
また粒径がこの範囲よりも小さいものは研磨効果
による表面傷の除去ができない。更に、モース硬
度は7以下であると研磨効果が不十分で所定のラ
ツピングテープ効果を得ることができない。この
ような研磨材粒子としてはα−アルミナ、酸化ク
ロム等任意の粒状研磨材粉末が利用できる。 研磨材粒子は針状酸化鉄を基準にして2.0〜30
重量%の割合で含有される。研磨材粒子の量が上
記範囲よりも少ないと必要な研磨効果が得られ
ず、上記範囲よりも多いと傷が発生する。その理
由は明らかでないが、研磨材粒子が多すぎると粒
子間の凝集が起きて大きい粒子として挙動するの
かもしれない。 研磨材粒子と針状磁性粉は、高分子バインダー
と混練りされ一様な分散体にされ、ポリエステル
フイルム等のベースの上に塗布固着される。バイ
ンダーとしては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂等、及び熱硬化性樹脂の場合には更にポリイ
ソシアネート等の硬化剤が使用できる。また一般
に磁気テープの分野などで使用されているバイン
ダー樹脂などが使用できる。更に、無機粒子と高
分子バインダーの混合物の調整に一般に使用され
ている安定化剤、潤滑剤、分散剤等が使用し得
る。バインダーの量は研磨材等の粒子がベースに
接着できるに充分な量で使用されれば良く、少量
で良く、粒子の総量に対して通常10〜40重量%程
度使用される。 研磨材粒子と針状磁性粉とバインダーとの混合
塗料は、通常の塗布方法を使用してベース上に塗
布され、乾燥され、或は硬化される。 このようにして得られたラツピングテープは研
磨塗膜面の中心線平均粗さが0.015〜0.03μmでな
ければならない。この平均粗さは2種の粒子の上
記した表面積、粒径、重量比を用いればほぼ確実
に実現でき、そのほかバインダーや溶剤等の調
節、塗布量どの設計事項により所望の表面粗さを
容易に実現できる。表面粗さがこの範囲よりも細
かいと研磨効果が少なく、この範囲よりも粗いと
磁気ヘツド等の被加工物に対して傷が生じる。 本発明のラツピングテープは充分なラツピング
効果を有すると同時に、被加工物の研磨面に傷を
生じることがなく、被加工物の表面にあつた傷は
研磨除去することによりその特性を初期値に回復
させることができるという著しい効果を有する。
本発明のラツピングテープは従来公知のいかなる
ラツピングテープよりも優れている。 以下に本発明の実施例を詳しく説明する。 実施例1〜3、比較例1〜2 下記の組成物を用意した。 重量部 コバルト含有針状ガンマ酸化鉄(BET値X、
Hc7500e) 90 α−Al2O3(平均粒径0.3μ) 10 バインダー(塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
VAGH/ポリウレタンN23045/5) 20 潤滑材(ミリスチン酸) 1 有機溶剤 200 ポリイソシアネート 5 この組成物をボールミル中で48時間混合分散
し、15μmのポリエステルフイルム上に乾燥厚さ
が4.0μmとなるように塗布乾燥した後、60℃の高
温下で硬化し、所定の幅に裁断してラツピングテ
ープを作成した。 上記で磁性粉のBET値X(m2/g)は20(比較
例1)、25(比較例2)、30(実施例1)、35(実施例
2)、40(実施例3)とした。また比較例3として
実施例3のテープにカレンダー加工をして平均粗
さを0.01μに調節したものを製作した。 上記のラツピングテープ表面の中心線平均粗さ
(0.18Hz以下及び9Hz以上をカツト)を測定した
ところ表1の結果を得た。また精密研磨された磁
気ヘツドを使用し、市販のビデオ磁気テープを30
分間走行させ、次いで上記の実施例及び比較例の
ラツピングテープにより磁気ヘツドのラツピング
を30秒間行なつたところ第1〜3図に示した結果
を得た。先ず、第1図から磁性粉のBET表面積
が25m2/g以下であると調整されるべき磁気ヘツ
ドの表面に異常な傷が生じる。従つてBET値は
30m2/g以上でなければならない。第2図におい
てモース硬度はラツピングテープの耐久性(削ず
れの程度で判断)に関係があり、上記実施例のも
のは良好な耐久性を有することが分かる。ラツピ
ングテープの中心線平均粗さとS/Nの回復率
(これは磁気ヘツドの荒れが除去され初期の平滑
ヘツド面が回復されることを示す)の関係を測定
したところ第3図の様に比較例2等に比して本発
明の実施例のものはきわめて優れたラツピング効
果を有することが分かる。また比較例3から平均
粗さが小さすぎても効果が低い。従つて、中心線
平均粗さとして0.015〜0.03μmを採用しなければ
ならない。 以上の結果から、以下の実施例及び比較例は望
ましい範囲のBET値を有する磁性粉を使用する
場合に限定する。 実施例3〜9、比較例4〜9 実施例1において、磁性粉のBET値を40m2/
gにし、表1に示した粒径、含有率、モース硬度
のα−Fe2O3、SiO3及びα−Al2O3を使用してラ
ツピングテープを製造した。 上記の例と同様にして中心線平均粗さ及びラツ
ピング試験を行なつたところ表1、第2〜7図に
示した結果を得た。 先ず比較例4、5の結果を示す第2図に示した
様に無機研磨材粒子のモース硬度が7以下である
とラツピングテープの耐久性は実施例1、2、
3、4のものに比して減少する。従つてモース硬
度は7を超えるものでなければならないことが分
かる。更に、これら比較例のテープのS/N回復
率はそれぞれ約75%及び85%程度であり、硬度が
不足することが分かる。 次ぎに無機研磨材粒子の粒径の効果を示す第4
〜5図を参照するに、粒径が大きくなりすぎると
磁気ヘツドの面に傷が生じること、及び小さすぎ
るとラツピングテープの削れが生じることが分か
る。よつて研磨材の平均粒径の範囲は0.05〜0.4μ
mにすることが望ましい。 次ぎに無機粉末量の効果を示す第6〜7図を参
照すると、無機研磨材の量が多すぎるとヘツド摩
耗量が多くなり過ぎ、また少なすぎるとテープの
削れが生じることが分かる。従つて、無機質粉末
の含有量は2〜30重量%の範囲で用いる必要があ
る。 <比較例及び実施例>
ツド等の超精密仕上に適したラツピングテープに
関する。なおここにテープとは長尺、短尺を問わ
ずシート、リボン等薄物を指すものとする。 (従来技術とその欠点) ラツピングテープは磁気ヘツド、磁気デイス
ク、精密加工品等の最終仕上に使用されている。
例えば、磁気ヘツドの出荷前にその表面を精密研
磨してその特性を微調整するために使用された
り、或は使用中に磁気ヘツド、磁気デイスクとの
摩擦により擦傷等が生じて磁気記録再生特性の低
下を招くので、定期的に磁気ヘツドの表面をラツ
ピングして磁気ヘツド表面の精密研磨を行なうた
めに使用されたりする。 しかし、従来のラツピングテープは被加工物の
表面を部分的に深い傷を生じ或は多数の長い擦傷
(スクラツチ)をつけて被加工物の特性を低下す
ることがしばしば見られ、本発明者の知り得る範
囲では従来のいかなるラツピングテープもこの問
題を生じる。 この種のラツピングテープは、研磨材粒子をバ
インダー中に分散し、これをプラスチツク、金属
その他のフイルム、シート、デイスク等の上に塗
布して研磨層を形成したものである。一般に高精
密仕上のためのラツピングには粗い粒子は使用出
来ず、粒径の小さい研磨材粉末を使用する。しか
しながら、粒子径の小さい粒子は凝集しやすいた
めに完全な分散を得ることができずラツピングテ
ープの研磨層中に散在し表面に突出する凝集部を
生じ、このため局部的な深い傷の発生や全体的な
多数の擦傷の形成を避けることは出来ない。ラツ
ピングテープとして従来最も高性能なものでも以
下に実例で示すように上記の問題を有する。 最近特公昭62−60725号によつて、磁気ヘツド
のクリーニングに適したクリーニングテープが提
案されている。同テープは研磨砥粒と増量剤とを
バインダーととも混練りした研磨塗膜をベース上
に塗着した。すなわちモース硬度が9未満で粒度
が0.2〜2.0μmの粒状非磁性砥粒(α酸化鉄等)
と、増量剤として研磨砥粒の60重量%以上の磁性
酸化鉄粒子を用い、これらの粉末をバインダーに
よつてベースに塗布し、表面粗さを中心線平均粗
さ0.04〜0.1μmにしたテープである。しかし同文
献の記載にも拘らず粒状非磁性砥粒の粒径は粗す
ぎ、また表面粗さも粗すぎるため、所期の効果を
得ることができないことを見出した。すなわち、
同技術はあくまでクリーニングテープとして磁気
ヘツドに付着した磁気テープの磁性塗膜の削れ粉
の除去には優れた効果を発揮するが、ラツピング
テープとしては充分な研削効果が得られず、また
擦傷の発生を防止することができないことが分か
つた。従つて、研削能率がある程度高くしかも磁
気ヘツド等の被加工物に対して擦傷や深い傷を生
じないラツピングテープの出現が望まれる。 (発明の目的) 本発明の目的は、深い傷や擦傷(スクラツチ)
を生じない優れたラツピングテープを提供するこ
とにある。 (発明の概要) 本発明の上記目的は、BET法による表面積が
30m2/g以上の針状酸化鉄粉末とモース硬度が7
を超える粒状無機粉末が針状酸化鉄粉末に対して
2.0〜30重量%の割合で含有されており、中心線
平均粗さが0.015〜0.03μmであるラツピングテー
プによつて達成される。 ここに好ましくは針状酸化鉄が磁性を有し、ま
た無機粉末の粒径が0.05〜0.4μmである。 本発明のラツピングテープは深い傷や擦傷(ス
クラツチ)を生じない優れたラツピングテープで
ある。 (発明の具体的な説明) 本発明は、研磨材粒子としてBET法による表
面積が30m2/g以上の針状酸化鉄粉末とモース硬
度が7を超える粒状無機粉末とを併用する。針状
酸化鉄としてはマグネタイト、γ酸化鉄、コバル
ト含有γ酸化鉄、α酸化鉄が使用できるが、特に
磁性のある前三者が好適である。これは酸化状態
によつて硬度が適正となるためかと思われる。針
状酸化鉄の表面積は30m2/g以上でなければなら
ない。表面積と粒径はほぼ相関してはいるが針状
比にもよるので表面積で指定したほうが信頼性に
勝ることが分かつた。表面積がこの範囲に達しな
いと粒子が粗くなり、磁気ヘツド等の被加工物の
表面を傷付けてしまうことが分かつた。磁気ヘツ
ドが傷を受けるとY−S/N比等の特性が低下
し、このラツピングテープを使用してもヘツド目
詰まりは除去することは出来ても未使用の磁気ヘ
ツドの特性(初期値)に戻すことができない。 次ぎに、モース硬度7を超える硬度の研磨材粒
子ないし砥粒は粒状(丸、無定形又は多角形)で
あり、平均粒子径として0.05〜0.4μmのものを使
用することが好ましい。この範囲より大径の粒子
は磁気ヘツド等の被加工物の表面に傷を生じる。
また粒径がこの範囲よりも小さいものは研磨効果
による表面傷の除去ができない。更に、モース硬
度は7以下であると研磨効果が不十分で所定のラ
ツピングテープ効果を得ることができない。この
ような研磨材粒子としてはα−アルミナ、酸化ク
ロム等任意の粒状研磨材粉末が利用できる。 研磨材粒子は針状酸化鉄を基準にして2.0〜30
重量%の割合で含有される。研磨材粒子の量が上
記範囲よりも少ないと必要な研磨効果が得られ
ず、上記範囲よりも多いと傷が発生する。その理
由は明らかでないが、研磨材粒子が多すぎると粒
子間の凝集が起きて大きい粒子として挙動するの
かもしれない。 研磨材粒子と針状磁性粉は、高分子バインダー
と混練りされ一様な分散体にされ、ポリエステル
フイルム等のベースの上に塗布固着される。バイ
ンダーとしては、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリ
デン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂等、及び熱硬化性樹脂の場合には更にポリイ
ソシアネート等の硬化剤が使用できる。また一般
に磁気テープの分野などで使用されているバイン
ダー樹脂などが使用できる。更に、無機粒子と高
分子バインダーの混合物の調整に一般に使用され
ている安定化剤、潤滑剤、分散剤等が使用し得
る。バインダーの量は研磨材等の粒子がベースに
接着できるに充分な量で使用されれば良く、少量
で良く、粒子の総量に対して通常10〜40重量%程
度使用される。 研磨材粒子と針状磁性粉とバインダーとの混合
塗料は、通常の塗布方法を使用してベース上に塗
布され、乾燥され、或は硬化される。 このようにして得られたラツピングテープは研
磨塗膜面の中心線平均粗さが0.015〜0.03μmでな
ければならない。この平均粗さは2種の粒子の上
記した表面積、粒径、重量比を用いればほぼ確実
に実現でき、そのほかバインダーや溶剤等の調
節、塗布量どの設計事項により所望の表面粗さを
容易に実現できる。表面粗さがこの範囲よりも細
かいと研磨効果が少なく、この範囲よりも粗いと
磁気ヘツド等の被加工物に対して傷が生じる。 本発明のラツピングテープは充分なラツピング
効果を有すると同時に、被加工物の研磨面に傷を
生じることがなく、被加工物の表面にあつた傷は
研磨除去することによりその特性を初期値に回復
させることができるという著しい効果を有する。
本発明のラツピングテープは従来公知のいかなる
ラツピングテープよりも優れている。 以下に本発明の実施例を詳しく説明する。 実施例1〜3、比較例1〜2 下記の組成物を用意した。 重量部 コバルト含有針状ガンマ酸化鉄(BET値X、
Hc7500e) 90 α−Al2O3(平均粒径0.3μ) 10 バインダー(塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
VAGH/ポリウレタンN23045/5) 20 潤滑材(ミリスチン酸) 1 有機溶剤 200 ポリイソシアネート 5 この組成物をボールミル中で48時間混合分散
し、15μmのポリエステルフイルム上に乾燥厚さ
が4.0μmとなるように塗布乾燥した後、60℃の高
温下で硬化し、所定の幅に裁断してラツピングテ
ープを作成した。 上記で磁性粉のBET値X(m2/g)は20(比較
例1)、25(比較例2)、30(実施例1)、35(実施例
2)、40(実施例3)とした。また比較例3として
実施例3のテープにカレンダー加工をして平均粗
さを0.01μに調節したものを製作した。 上記のラツピングテープ表面の中心線平均粗さ
(0.18Hz以下及び9Hz以上をカツト)を測定した
ところ表1の結果を得た。また精密研磨された磁
気ヘツドを使用し、市販のビデオ磁気テープを30
分間走行させ、次いで上記の実施例及び比較例の
ラツピングテープにより磁気ヘツドのラツピング
を30秒間行なつたところ第1〜3図に示した結果
を得た。先ず、第1図から磁性粉のBET表面積
が25m2/g以下であると調整されるべき磁気ヘツ
ドの表面に異常な傷が生じる。従つてBET値は
30m2/g以上でなければならない。第2図におい
てモース硬度はラツピングテープの耐久性(削ず
れの程度で判断)に関係があり、上記実施例のも
のは良好な耐久性を有することが分かる。ラツピ
ングテープの中心線平均粗さとS/Nの回復率
(これは磁気ヘツドの荒れが除去され初期の平滑
ヘツド面が回復されることを示す)の関係を測定
したところ第3図の様に比較例2等に比して本発
明の実施例のものはきわめて優れたラツピング効
果を有することが分かる。また比較例3から平均
粗さが小さすぎても効果が低い。従つて、中心線
平均粗さとして0.015〜0.03μmを採用しなければ
ならない。 以上の結果から、以下の実施例及び比較例は望
ましい範囲のBET値を有する磁性粉を使用する
場合に限定する。 実施例3〜9、比較例4〜9 実施例1において、磁性粉のBET値を40m2/
gにし、表1に示した粒径、含有率、モース硬度
のα−Fe2O3、SiO3及びα−Al2O3を使用してラ
ツピングテープを製造した。 上記の例と同様にして中心線平均粗さ及びラツ
ピング試験を行なつたところ表1、第2〜7図に
示した結果を得た。 先ず比較例4、5の結果を示す第2図に示した
様に無機研磨材粒子のモース硬度が7以下である
とラツピングテープの耐久性は実施例1、2、
3、4のものに比して減少する。従つてモース硬
度は7を超えるものでなければならないことが分
かる。更に、これら比較例のテープのS/N回復
率はそれぞれ約75%及び85%程度であり、硬度が
不足することが分かる。 次ぎに無機研磨材粒子の粒径の効果を示す第4
〜5図を参照するに、粒径が大きくなりすぎると
磁気ヘツドの面に傷が生じること、及び小さすぎ
るとラツピングテープの削れが生じることが分か
る。よつて研磨材の平均粒径の範囲は0.05〜0.4μ
mにすることが望ましい。 次ぎに無機粉末量の効果を示す第6〜7図を参
照すると、無機研磨材の量が多すぎるとヘツド摩
耗量が多くなり過ぎ、また少なすぎるとテープの
削れが生じることが分かる。従つて、無機質粉末
の含有量は2〜30重量%の範囲で用いる必要があ
る。 <比較例及び実施例>
【表】
(作用効果のまとめ)
以上の説明から明らかな様に、本発明による
と、比較的短時間のうちに磁気ヘツドの初期研磨
状態を完全に回復することができ、しかも磁気ヘ
ツドに傷を生じることのないラツピングテープが
提供された。
と、比較的短時間のうちに磁気ヘツドの初期研磨
状態を完全に回復することができ、しかも磁気ヘ
ツドに傷を生じることのないラツピングテープが
提供された。
第1図は磁性粉のBET値と磁気ヘツドの面荒
れの関係を示すグラフ、第2図は研磨材粒子の硬
度とラツピングテープの耐久性の関係を示すグラ
フ、第3図はラツピングテープの中心線平均粗さ
とS/Nの関係を示すグラフ、第4図は研磨材粒
子の粒径とヘツド面荒れ状態の関係を示すグラ
フ、第5図は研磨材粒子の粒径とテープ耐久性の
関係を示すグラフ、第6図は無機研磨材粒子の含
有量とヘツド摩耗の関係を示すグラフ、及び第7
図は無機研磨材含有量とテープ耐久性の関係を示
すグラフである。
れの関係を示すグラフ、第2図は研磨材粒子の硬
度とラツピングテープの耐久性の関係を示すグラ
フ、第3図はラツピングテープの中心線平均粗さ
とS/Nの関係を示すグラフ、第4図は研磨材粒
子の粒径とヘツド面荒れ状態の関係を示すグラ
フ、第5図は研磨材粒子の粒径とテープ耐久性の
関係を示すグラフ、第6図は無機研磨材粒子の含
有量とヘツド摩耗の関係を示すグラフ、及び第7
図は無機研磨材含有量とテープ耐久性の関係を示
すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 BET法による表面積が30m2/g以上の針状
酸化鉄粉末とモース硬度7を超える硬度の粒状無
機粉末が針状酸化鉄粉末に対して2.0〜30重量%
の割合で含有されており、中心線平均粗さが
0.015〜0.03μmであるラツピングテープ。 2 針状酸化鉄が磁性を有する前記第1項記載の
ラツピングテープ。 3 無機粉末の粒径が0.05〜0.4μmである第1項
記載のラツピングテープ。 4 出荷前に第1項記載のラツピングテープを用
いて磁気ヘツドを研磨することを特徴とするビデ
オレコーダの調整方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63077998A JPH01252366A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ラッピングテープ |
| DE3910488A DE3910488C2 (de) | 1988-04-01 | 1989-03-31 | Polierband und dessen Verwendung |
| US07/522,079 US5110659A (en) | 1988-04-01 | 1990-05-10 | Lapping tape |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63077998A JPH01252366A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ラッピングテープ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01252366A JPH01252366A (ja) | 1989-10-09 |
| JPH0424193B2 true JPH0424193B2 (ja) | 1992-04-24 |
Family
ID=13649472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63077998A Granted JPH01252366A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | ラッピングテープ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5110659A (ja) |
| JP (1) | JPH01252366A (ja) |
| DE (1) | DE3910488C2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08124126A (ja) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | ヘッドクリーニングテープ |
| US5846270A (en) * | 1998-04-06 | 1998-12-08 | Feygin; Savva | Magnetic-abrasive powder and method of producing the same |
| US8256091B2 (en) * | 2000-11-17 | 2012-09-04 | Duescher Wayne O | Equal sized spherical beads |
| US8545583B2 (en) * | 2000-11-17 | 2013-10-01 | Wayne O. Duescher | Method of forming a flexible abrasive sheet article |
| US7632434B2 (en) * | 2000-11-17 | 2009-12-15 | Wayne O. Duescher | Abrasive agglomerate coated raised island articles |
| US8062098B2 (en) | 2000-11-17 | 2011-11-22 | Duescher Wayne O | High speed flat lapping platen |
| US7520800B2 (en) * | 2003-04-16 | 2009-04-21 | Duescher Wayne O | Raised island abrasive, lapping apparatus and method of use |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS578917A (en) * | 1980-06-20 | 1982-01-18 | Tdk Corp | Cleaning tape for magnetic recorder |
| JPS5771556A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic tape having leader tape |
| JPS5873073A (ja) * | 1981-10-27 | 1983-05-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0736210B2 (ja) * | 1985-05-15 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | クリ−ニングテ−プ |
| JP6260725B2 (ja) * | 2017-01-24 | 2018-01-17 | 株式会社三洋物産 | 遊技機 |
-
1988
- 1988-04-01 JP JP63077998A patent/JPH01252366A/ja active Granted
-
1989
- 1989-03-31 DE DE3910488A patent/DE3910488C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-05-10 US US07/522,079 patent/US5110659A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3910488C2 (de) | 1994-11-10 |
| JPH01252366A (ja) | 1989-10-09 |
| DE3910488A1 (de) | 1989-10-12 |
| US5110659A (en) | 1992-05-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |