JPH04250694A - 多層回路板の製造方法 - Google Patents

多層回路板の製造方法

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JPH04250694A
JPH04250694A JP814591A JP814591A JPH04250694A JP H04250694 A JPH04250694 A JP H04250694A JP 814591 A JP814591 A JP 814591A JP 814591 A JP814591 A JP 814591A JP H04250694 A JPH04250694 A JP H04250694A
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JP
Japan
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circuit board
layer circuit
inner layer
prepreg
holes
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JP814591A
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English (en)
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JPH0756912B2 (ja
Inventor
Michinobu Usagawa
宇佐川 道信
Shoichi Fujimori
藤森 正一
Toru Nobetani
延谷 徹
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、未貫通バイアホールを
設けた多層回路板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は内層回路4を設けた内層回路板1
にプリプレグによる絶縁層11を介して外層回路5を設
けることによって形成した多層回路板Aの一例を示すも
のであり、内層回路4と外層回路5とを電気的に接続す
るために、ブラインドバイアホール(BVH)と称され
る未貫通バイアホール6を設け、未貫通バイアホール6
の内周にメッキ層12が設けてある。
【0003】そしてこのような有底の未貫通バイアホー
ル6を形成するにあたっては、従来は多層回路板Aにそ
の表面から内層回路板1の内層回路4の面にまで至る穴
をドリルで加工して設けることによっておこなわれてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記のようにド
リル加工で未貫通バイアホール6を形成するにあたって
は、多層回路板A内へのドリルビットの突入寸法を正確
に制御する必要があるが、このような制御は機械的精度
の上から難しく、精度の良い未貫通バイアホール6を形
成することが困難であるという問題があった。
【0005】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、ドリル加工等の必要なく精度良く未貫通バイアホ
ールを形成することができる多層回路板の製造方法を提
供することを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明に係る多層回路板
の製造方法は、内層回路板1にプリプレグ2を介して金
属箔3を重ね、これを積層成形することによって多層回
路板を製造するにあたって、内層回路4と外層回路5と
を接続するための未貫通バイアホール6を形成すべき箇
所に対応して孔7,8を設けたプリプレグ2と金属箔3
とを用いることを特徴とするものである。
【0007】
【作用】内層回路4と外層回路5とを接続するための未
貫通バイアホール6を形成すべき箇所に対応して孔7,
8を設けたプリプレグ2と金属箔3とを用いて多層回路
板を製造するようにしているために、未貫通バイアホー
ル6はプリプレグ2と金属箔3に設けた孔7,8によっ
て作成することができ、未貫通バイアホール6を形成す
るにあたってドリル加工をおこなう必要がなくなる。
【0008】
【実施例】以下本発明を実施例によって詳述する。内層
回路板1は例えば銅張り積層板の銅箔にエッチング処理
等の回路加工を施すことによって表面に内層回路4を設
けて作成されるものであり、その端部には多層成形のた
めの基準孔13が設けてある。また外層回路5を作成す
るために用いるプリプレグ2と銅箔等の金属箔3にも上
記基準孔13と同じ位置で基準孔14,15が設けてあ
る。そして多層回路板Aに未貫通バイアホール6を設け
る位置においてプリプレグ2と金属箔3にはそれぞれ図
1(a)に示すように孔7,8が穿設してある。未貫通
バイアホール6は内層回路板1の内層回路4に対して正
確に対応した位置で設ける必要があるために、プリプレ
グ2や金属箔3にそれぞれ設ける孔7,8も内層回路板
1の内層回路4に対して正確に対応した位置で設ける必
要があるが、基準孔14,15を基準にして孔明けをお
こなうことによって、内層回路板1の内層回路4に対し
て正確に対応した位置に孔7,8を設けることができる
。また、この孔7,8は目的とする未貫通バイアホール
6とほぼ同じ内径の寸法で形成されるものである。
【0009】しかして図1(a)のように内層回路板1
にプリプレグ2や金属箔3を重ねてビルドアップし、ガ
イドピンを各基準孔13,14,15に差し込んで基準
孔13,14,15を介して内層回路板1にプリプレグ
2や金属箔3を位置合わせした後に、これを加熱加圧し
て多層積層成形することによって、図1(b)に示すよ
うに内層回路板1にプリプレグ2による絶縁層11を介
して金属箔3を積層することができる。
【0010】このものにあって、プリプレグ2と金属箔
3にはそれぞれ孔7,8が設けてあるために、この孔7
,8の部分において内層回路板1の内層回路4が底に位
置する有底の穴、すなわち未貫通バイアホール6を形成
することができるものである。このとき、プリプレグ2
中の樹脂が未貫通バイアホール6内に流れ込まない成形
条件を選ぶことが好ましいが、積層成形する際にプリプ
レグ2中の樹脂が未貫通バイアホール6内に入り込んで
未貫通バイアホール6を埋めても、炭酸ガスレーザー等
でこの樹脂を焼いて除去すればよい。このように未貫通
バイアホール6を形成するにあたってドリル加工をおこ
なう必要はないものであり、また未貫通バイアホール6
の位置の設定は基準孔13,14,15を基準にして内
層回路板1に正確に対応して精度良くおこなうことがで
きるものである。
【0011】上記のようにして多層積層成形して未貫通
バイアホール6を形成した後に、未貫通バイアホール6
の内周にスルーホールメッキを施してメッキ層12を形
成すると共に金属箔3をエッチング処理等して外層回路
5を形成することによって、図2のような内層回路4と
外層回路5とを未貫通バイアホール6のメッキ層12で
導通接続した多層回路板Aを得ることができるものであ
る。
【0012】
【発明の効果】上記のように本発明は、内層回路板にプ
リプレグを介して金属箔を重ねて積層成形することによ
って多層回路板を製造するにあたって、内層回路と外層
回路とを接続するための未貫通バイアホールを形成すべ
き箇所に対応して孔を設けたプリプレグと金属箔とを用
いるようにしたので、プリプレグと金属箔にそれぞれ設
けた孔の部分において内層回路板の内層回路が底に位置
する有底の穴、すなわち未貫通バイアホールを形成する
ことができるものであり、ドリル加工をおこなう必要な
く正確に未貫通バイアホールを形成することができるも
のである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すものであり、(a)は
積層成形の前の分解断面図、(b)は積層成形後の断面
図である。
【図2】多層回路板の一部の断面図である。
【符号の説明】
1  内層回路板 2  プリプレグ 3  金属箔 4  内層回路 5  外層回路 6  未貫通バイアホール 7  孔 8  孔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  内層回路板にプリプレグを介して金属
    箔を重ね、これを積層成形することによって多層回路板
    を製造するにあたって、内層回路と外層回路とを接続す
    るための未貫通バイアホールを形成すべき箇所に対応し
    て孔を設けたプリプレグと金属箔とを用いることを特徴
    とする多層回路板の製造方法。
JP3008145A 1991-01-28 1991-01-28 多層回路板の製造方法 Expired - Lifetime JPH0756912B2 (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01128493A (ja) * 1987-11-12 1989-05-22 Sanyo Electric Co Ltd 多層配線基板の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01128493A (ja) * 1987-11-12 1989-05-22 Sanyo Electric Co Ltd 多層配線基板の製造方法

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