JPH04259910A - 磁気記録テープ - Google Patents
磁気記録テープInfo
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- JPH04259910A JPH04259910A JP3040721A JP4072191A JPH04259910A JP H04259910 A JPH04259910 A JP H04259910A JP 3040721 A JP3040721 A JP 3040721A JP 4072191 A JP4072191 A JP 4072191A JP H04259910 A JPH04259910 A JP H04259910A
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- Japan
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- polyester
- layer
- particles
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリエステルを基材と
する磁気記録テープに関する。
する磁気記録テープに関する。
【0002】
【従来の技術】磁気記録テープとしては、ポリエステル
フイルムに塗布型磁性層を設けてなるテープがよく知ら
れている(例えば、特開昭60−66319号公報)。
フイルムに塗布型磁性層を設けてなるテープがよく知ら
れている(例えば、特開昭60−66319号公報)。
【0003】基材フイルム上に磁性層を設けた磁気記録
テープはオーディオ、ビデオ用などに広く使用されてい
るが、特に、メタル塗布型磁性層を設けたメタルテープ
は、その優れた出力特性、周波数特性に注目され、高密
度磁気記録媒体、特に高密度ビデオテープとして重要視
されている。
テープはオーディオ、ビデオ用などに広く使用されてい
るが、特に、メタル塗布型磁性層を設けたメタルテープ
は、その優れた出力特性、周波数特性に注目され、高密
度磁気記録媒体、特に高密度ビデオテープとして重要視
されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の磁気記録テープでは、最近の高密度磁気記
録においてわずかな寸法変化が記録の歪(スキュー)と
なるため、スキュー特性が不満足であった。一方、スキ
ュー特性を改良するためには、テープを巻いた状態で加
熱する、いわゆる、サーモ処理が有効であることが知ら
れているが、この処理をすると基材フイルムの裏面の凹
凸が磁性面に転写し、磁性面が凹凸となるため出力特性
(クロマS/N)が低下してしまうという問題があった
。
ような従来の磁気記録テープでは、最近の高密度磁気記
録においてわずかな寸法変化が記録の歪(スキュー)と
なるため、スキュー特性が不満足であった。一方、スキ
ュー特性を改良するためには、テープを巻いた状態で加
熱する、いわゆる、サーモ処理が有効であることが知ら
れているが、この処理をすると基材フイルムの裏面の凹
凸が磁性面に転写し、磁性面が凹凸となるため出力特性
(クロマS/N)が低下してしまうという問題があった
。
【0005】本発明は、かかる問題点を改善し、高い出
力特性を維持しながら、良好なスキュー特性を有する磁
気記録テープを提供することを目的とする。
力特性を維持しながら、良好なスキュー特性を有する磁
気記録テープを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
磁気記録テープは、粒子を2〜20重量%含有するポリ
エステルAを、ポリエステルBを主成分とする組成物の
少なくとも片面に積層してなる基材フイルムに、反磁性
面が前記ポリエステルAの面となるように磁性層を設け
てなる磁気記録テープであって、該基材フイルムのA層
の厚さtとA層に含有する粒子の平均粒径dの比t/d
が0.1〜2.5、かつ、テープの長手方向の100℃
での熱収縮率が1.5%以下であるものからなる。
磁気記録テープは、粒子を2〜20重量%含有するポリ
エステルAを、ポリエステルBを主成分とする組成物の
少なくとも片面に積層してなる基材フイルムに、反磁性
面が前記ポリエステルAの面となるように磁性層を設け
てなる磁気記録テープであって、該基材フイルムのA層
の厚さtとA層に含有する粒子の平均粒径dの比t/d
が0.1〜2.5、かつ、テープの長手方向の100℃
での熱収縮率が1.5%以下であるものからなる。
【0007】本発明におけるポリエステルA、Bは、特
に限定されないが、結晶性である場合に出力特性、スキ
ュー特性がより一層良好となるのできわめて望ましい。 ここでいう結晶性とはいわゆる非晶質ではないことを示
すものであり、定量的には示差走査熱量計の測定で冷結
晶化温度Tccが検出され、かつ結晶化パラメータΔT
cgが150℃以下のものである。さらに、示差走査熱
量計で測定された融解熱(融解エンタルピー変化)が、
7.5cal/g 以上の結晶性を示す場合に出力特性
、走行性がより一層良好となるのできわめて望ましい。 なお、本発明を阻害しない範囲内で、2種以上のポリエ
ステルを混合しても良いし、共重合ポリマを用いても良
い。
に限定されないが、結晶性である場合に出力特性、スキ
ュー特性がより一層良好となるのできわめて望ましい。 ここでいう結晶性とはいわゆる非晶質ではないことを示
すものであり、定量的には示差走査熱量計の測定で冷結
晶化温度Tccが検出され、かつ結晶化パラメータΔT
cgが150℃以下のものである。さらに、示差走査熱
量計で測定された融解熱(融解エンタルピー変化)が、
7.5cal/g 以上の結晶性を示す場合に出力特性
、走行性がより一層良好となるのできわめて望ましい。 なお、本発明を阻害しない範囲内で、2種以上のポリエ
ステルを混合しても良いし、共重合ポリマを用いても良
い。
【0008】また、本発明におけるポリエステルA、B
としては、エチレンテレフタレート、エチレンα,β−
ビス(2−クロルフェノキシ)エタン−4,4’−ジカ
ルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単位、
特に、エチレンテレフタレート、エチレン2,6−ナフ
タレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位、
を主要構成成分とする場合にスキュー特性がより一層良
好となるので望ましい。
としては、エチレンテレフタレート、エチレンα,β−
ビス(2−クロルフェノキシ)エタン−4,4’−ジカ
ルボキシレート、エチレン2,6−ナフタレート単位、
特に、エチレンテレフタレート、エチレン2,6−ナフ
タレート単位から選ばれた少なくとも一種の構造単位、
を主要構成成分とする場合にスキュー特性がより一層良
好となるので望ましい。
【0009】本発明のポリエステルA、Bは、本発明の
目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレンドして
もよいし、また帯電防止剤、導電剤、酸化防止剤、熱安
定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常添加
される程度添加されていてもよい。
目的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレンドして
もよいし、また帯電防止剤、導電剤、酸化防止剤、熱安
定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常添加
される程度添加されていてもよい。
【0010】本発明におけるポリエステルA層中の粒子
は、粒径比(粒子の長径/短径)が1.0〜1.3の粒
子、特に、球形状の粒子の場合に出力特性がより一層良
好となるので望ましい。
は、粒径比(粒子の長径/短径)が1.0〜1.3の粒
子、特に、球形状の粒子の場合に出力特性がより一層良
好となるので望ましい。
【0011】また、本発明のポリエステルA中の不活性
粒子は相対標準偏差が0.6以下、好ましくは0.5以
下の場合に出力特性がより一層良好となるので望ましい
。
粒子は相対標準偏差が0.6以下、好ましくは0.5以
下の場合に出力特性がより一層良好となるので望ましい
。
【0012】ポリエステルA中の粒子の種類は特に限定
されないが、上記の好ましい粒子特性を満足するにはア
ルミナ珪酸塩、1次粒子が凝集した状態のシリカ、内部
析出粒子などは好ましくなく、コロイダルシリカに起因
する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子
(たとえば架橋ポリスチレンや架橋ジビニルベンゼン)
などがあげられる。しかしながら、その他の粒子、例え
ば炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子で
も、フイルム厚さと平均粒径の適切なコントロールによ
り十分使いこなせるものである。
されないが、上記の好ましい粒子特性を満足するにはア
ルミナ珪酸塩、1次粒子が凝集した状態のシリカ、内部
析出粒子などは好ましくなく、コロイダルシリカに起因
する実質的に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子
(たとえば架橋ポリスチレンや架橋ジビニルベンゼン)
などがあげられる。しかしながら、その他の粒子、例え
ば炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子で
も、フイルム厚さと平均粒径の適切なコントロールによ
り十分使いこなせるものである。
【0013】粒子の大きさは、特に限定されないが、ポ
リエステルA層中での平均粒径が0.03〜1.5μm
、特に0.03〜1μmの場合に出力特性がより一層良
好となるので望ましい。
リエステルA層中での平均粒径が0.03〜1.5μm
、特に0.03〜1μmの場合に出力特性がより一層良
好となるので望ましい。
【0014】本発明を構成するポリエステルA中の粒子
の含有量は2〜20重量%であることが必要であり、好
ましくは3〜15重量%、さらに好ましくは4〜10重
量%である。粒子の含有量が上記の範囲より少なくても
、逆に多くても、出力特性が不良となるので好ましくな
い。
の含有量は2〜20重量%であることが必要であり、好
ましくは3〜15重量%、さらに好ましくは4〜10重
量%である。粒子の含有量が上記の範囲より少なくても
、逆に多くても、出力特性が不良となるので好ましくな
い。
【0015】本発明のB層中には粒子が含有されている
必要はないが、平均粒径が0.03〜1.5μm、特に
0.03〜1μmの1種以上の粒子が0.1〜2重量%
含有されていると、サーモ処理をした後のスキュー特性
がより一層良好となるので望ましい。含有する粒子の種
類はA層に望ましく用いられるものの中から選択して使
用することが望ましい。A層とB層に含有する粒子の種
類、大きさは同じでも異なっていても良い。
必要はないが、平均粒径が0.03〜1.5μm、特に
0.03〜1μmの1種以上の粒子が0.1〜2重量%
含有されていると、サーモ処理をした後のスキュー特性
がより一層良好となるので望ましい。含有する粒子の種
類はA層に望ましく用いられるものの中から選択して使
用することが望ましい。A層とB層に含有する粒子の種
類、大きさは同じでも異なっていても良い。
【0016】本発明の基材フイルムは上記ポリエステル
Aと粒子を主成分とする組成物を、ポリエステルBを主
成分とする組成物の少なくとも片面に積層してなる二軸
配向ポリエステルフイルムである。一軸あるいは無配向
フイルムでは出力特性が不良となるので好ましくない。 この配向の程度は特に限定されないが、分子配向の程度
の目安であるF5値が長手方向で、22kg/mm 2
以上、好ましくは24kg/mm 2 以上、さらに
好ましくは25kg/mm 2 以上である場合、テー
プを薄くするために基材フイルムを薄くしても、例えば
、テープの厚さが10μm以下とかなり薄くなっても、
良好なスキュー特性を維持できるので特に望ましい。
Aと粒子を主成分とする組成物を、ポリエステルBを主
成分とする組成物の少なくとも片面に積層してなる二軸
配向ポリエステルフイルムである。一軸あるいは無配向
フイルムでは出力特性が不良となるので好ましくない。 この配向の程度は特に限定されないが、分子配向の程度
の目安であるF5値が長手方向で、22kg/mm 2
以上、好ましくは24kg/mm 2 以上、さらに
好ましくは25kg/mm 2 以上である場合、テー
プを薄くするために基材フイルムを薄くしても、例えば
、テープの厚さが10μm以下とかなり薄くなっても、
良好なスキュー特性を維持できるので特に望ましい。
【0017】また、本発明の基材フイルムのA層は、ポ
リマ分子の配向が無配向、あるいは、製膜工程中に塗布
工程を導入することによって得られるフイルムのように
、表層付近のポリマ分子の配向が一軸配向になっていな
い、すなわち、厚さ方向の全部分の分子配向が二軸配向
である場合に出力特性、スキュー特性がより一層良好と
なるので特に望ましい。
リマ分子の配向が無配向、あるいは、製膜工程中に塗布
工程を導入することによって得られるフイルムのように
、表層付近のポリマ分子の配向が一軸配向になっていな
い、すなわち、厚さ方向の全部分の分子配向が二軸配向
である場合に出力特性、スキュー特性がより一層良好と
なるので特に望ましい。
【0018】さらにポリエステルA層の表面の全反射ラ
マン結晶化指数が20cm−1以下、好ましくは18c
m−1以下、さらに17cm−1以下の場合に出力特性
、スキュー特性がより一層良好となるのできわめて望ま
しい。
マン結晶化指数が20cm−1以下、好ましくは18c
m−1以下、さらに17cm−1以下の場合に出力特性
、スキュー特性がより一層良好となるのできわめて望ま
しい。
【0019】また、本発明におけるフイルムのポリエス
テルA層の積層厚さtとA層中に含有される粒子の平均
粒径dの比t/dは、0.1〜2.5の範囲にある必要
があり、好ましくは0.2〜2、さらに好ましくは0.
3〜0.9の範囲である。t/dが上記の範囲より大き
くても、逆に小さくても出力特性、スキュー特性が不良
となるので好ましくない。
テルA層の積層厚さtとA層中に含有される粒子の平均
粒径dの比t/dは、0.1〜2.5の範囲にある必要
があり、好ましくは0.2〜2、さらに好ましくは0.
3〜0.9の範囲である。t/dが上記の範囲より大き
くても、逆に小さくても出力特性、スキュー特性が不良
となるので好ましくない。
【0020】本発明の基材フイルムのポリエステルA層
の積層厚さは含有する粒子の大きさによって異なるが、
0.01〜1.5μm、好ましくは0.03〜1μm、
さらに好ましくは0.04〜0.5μmの場合に出力特
性、スキュー特性がより一層良好となるので望ましい。
の積層厚さは含有する粒子の大きさによって異なるが、
0.01〜1.5μm、好ましくは0.03〜1μm、
さらに好ましくは0.04〜0.5μmの場合に出力特
性、スキュー特性がより一層良好となるので望ましい。
【0021】本発明の基材フイルムは、100℃におけ
る、長手方向の熱収縮率が1.5%以下であることが必
要であり、好ましくは1.3%以下、さらに好ましくは
1.1%以下である。熱収縮率が上記の範囲より大きい
とスキュー特性が不良となるので好ましくない。
る、長手方向の熱収縮率が1.5%以下であることが必
要であり、好ましくは1.3%以下、さらに好ましくは
1.1%以下である。熱収縮率が上記の範囲より大きい
とスキュー特性が不良となるので好ましくない。
【0022】本発明の基材フイルムは、ポリエステルA
層の表面突起高さがA層中に含有する粒子の平均粒径の
1/3以上、特に1/3.5以上である場合に出力特性
がより一層良好となるのできわめて望ましい。
層の表面突起高さがA層中に含有する粒子の平均粒径の
1/3以上、特に1/3.5以上である場合に出力特性
がより一層良好となるのできわめて望ましい。
【0023】また本発明の基材フイルムは、ポリエステ
ルA層の表面突起の平均高さが20〜800nm、特に
、30〜600nmの範囲である場合に出力特性がより
一層良好となるのできわめて望ましい。
ルA層の表面突起の平均高さが20〜800nm、特に
、30〜600nmの範囲である場合に出力特性がより
一層良好となるのできわめて望ましい。
【0024】本発明の基材フイルムのポリエステルAの
フイルムの2次イオンマススペクトルによって測定され
る表層粒子濃度比は特に限定されないが、ポリエステル
A面の表層粒子濃度比が1/10以下、特に1/50以
下である場合に出力特性、スキュー特性がより一層良好
となるので特に望ましい。
フイルムの2次イオンマススペクトルによって測定され
る表層粒子濃度比は特に限定されないが、ポリエステル
A面の表層粒子濃度比が1/10以下、特に1/50以
下である場合に出力特性、スキュー特性がより一層良好
となるので特に望ましい。
【0025】本発明は上記の基材フイルムに、反磁性面
が粒子含有のポリエステルAの面となるように磁性層を
設けてなる磁気記録テープである。
が粒子含有のポリエステルAの面となるように磁性層を
設けてなる磁気記録テープである。
【0026】磁性層の種類は、塗布型、蒸着法等によっ
て形成される金属薄膜型等、特に限定されないが、塗布
型、特に、メタル単体および/またはメタル合金の塗布
型磁性層を設けてなる磁気記録テープの場合に、本発明
の基材フイルムの効果が特に顕著となり、出力特性、ス
キュー特性がより一層良好となるので特に望ましい。
て形成される金属薄膜型等、特に限定されないが、塗布
型、特に、メタル単体および/またはメタル合金の塗布
型磁性層を設けてなる磁気記録テープの場合に、本発明
の基材フイルムの効果が特に顕著となり、出力特性、ス
キュー特性がより一層良好となるので特に望ましい。
【0027】磁性層に用いられる磁性粉末は特に限定さ
れないが、中でも、Fe、Co、Fe−Co、Fe−C
o−Ni、Co−Ni等の金属または合金、これらとA
l、Cr、Si等との合金等が好ましく用いられる。
れないが、中でも、Fe、Co、Fe−Co、Fe−C
o−Ni、Co−Ni等の金属または合金、これらとA
l、Cr、Si等との合金等が好ましく用いられる。
【0028】磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料
とすることができるが、一般には熱硬化性樹脂系バイン
ダーおよび高エネルギー線硬化型バインダーが好ましく
、その他添加材として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常
法に従って用いてもよい。例えば塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンプレポリ
マおよびポリイソシアネートよりなるバインダーなどを
用いることができる。
とすることができるが、一般には熱硬化性樹脂系バイン
ダーおよび高エネルギー線硬化型バインダーが好ましく
、その他添加材として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常
法に従って用いてもよい。例えば塩化ビニル・酢酸ビニ
ル・ビニルアルコール共重合体、ポリウレタンプレポリ
マおよびポリイソシアネートよりなるバインダーなどを
用いることができる。
【0029】磁性層の厚さは特に限定されないが、メタ
ル塗布型の場合は、1.5〜4μmの範囲としておくこ
とが出力特性、スキュー特性がより一層良好となるので
望ましい。
ル塗布型の場合は、1.5〜4μmの範囲としておくこ
とが出力特性、スキュー特性がより一層良好となるので
望ましい。
【0030】また基材フイルムがポリエステルA、Bの
2層構造の場合には、ポリエステルB層側に磁性層を設
けることが必要で、このようにすることにより出力特性
、スキュー特性をより一層良好とすることができる。
2層構造の場合には、ポリエステルB層側に磁性層を設
けることが必要で、このようにすることにより出力特性
、スキュー特性をより一層良好とすることができる。
【0031】また磁性層と反対側にいわゆるバックコー
ト層を設けた形の磁気記録テープとした場合でも本発明
の基材フイルムの特徴は十分発揮できる。その場合のバ
ックコート層の厚さは1μm以下の場合に出力特性、ス
キュー特性がより一層良好となるので望ましい。
ト層を設けた形の磁気記録テープとした場合でも本発明
の基材フイルムの特徴は十分発揮できる。その場合のバ
ックコート層の厚さは1μm以下の場合に出力特性、ス
キュー特性がより一層良好となるので望ましい。
【0032】次に本発明の磁気記録テープの製造方法に
ついて説明する。まず、ポリエステルAに所定の粒子を
含有せしめる方法としては、ポリエステルの重合工程で
粒子を含有せしめる方法、粒子を実質的に含有しないポ
リエステルをあらかじめ重合しておき、そこにベント式
二軸混練機等を用いて粒子を練り込む方法等特に限定さ
れず、粒子の種類によって適切な方法を用いることがで
きる。
ついて説明する。まず、ポリエステルAに所定の粒子を
含有せしめる方法としては、ポリエステルの重合工程で
粒子を含有せしめる方法、粒子を実質的に含有しないポ
リエステルをあらかじめ重合しておき、そこにベント式
二軸混練機等を用いて粒子を練り込む方法等特に限定さ
れず、粒子の種類によって適切な方法を用いることがで
きる。
【0033】かくして、粒子を含有するポリエステルA
のペレットを、必要に応じて、実質的に粒子を含有しな
いポリエステルAで希釈し、乾燥したのち、公知の溶融
押出機1に供給し、ポリエステルBからなる組成物(A
、Bは同種、異種どちらでもよい)を押出機2に供給し
、2または3層のマニホールドまたは合流ブロックを用
いて、ポリエステルAをポリエステルBの少なくとも片
面に積層し、スリット状の口金から2または3層のシー
トを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸
フイルムを作る。この場合、合流断面が矩形の合流ブロ
ックを用いて積層する方法が、ポリエステルA層の厚さ
をフイルム幅方向に均一にし、本発明範囲のt/dのフ
イルムを延伸破れなく、安定して製造するのに有効であ
り、テープとした時の出力特性、スキュー特性のフイル
ム幅方向のバラツキを小さくするのに有効である。
のペレットを、必要に応じて、実質的に粒子を含有しな
いポリエステルAで希釈し、乾燥したのち、公知の溶融
押出機1に供給し、ポリエステルBからなる組成物(A
、Bは同種、異種どちらでもよい)を押出機2に供給し
、2または3層のマニホールドまたは合流ブロックを用
いて、ポリエステルAをポリエステルBの少なくとも片
面に積層し、スリット状の口金から2または3層のシー
トを押し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸
フイルムを作る。この場合、合流断面が矩形の合流ブロ
ックを用いて積層する方法が、ポリエステルA層の厚さ
をフイルム幅方向に均一にし、本発明範囲のt/dのフ
イルムを延伸破れなく、安定して製造するのに有効であ
り、テープとした時の出力特性、スキュー特性のフイル
ム幅方向のバラツキを小さくするのに有効である。
【0034】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を2段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を3.5〜6.5倍で行なう方法は延伸破れな
く、本発明範囲のt/d、熱収縮率を得るのに有効であ
る。長手方向延伸温度は、ポリエステルの種類によって
異なり一概には言えないが、通常、その1段目を50〜
130℃の範囲が好適である。長手方向延伸速度は、5
000〜50000%/分の範囲が好適である。幅方向
の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的であ
り、延伸倍率は、3.0〜5.0倍の範囲が適当である
。幅方向の延伸速度は、1000〜20000%/分、
温度は80〜160℃の範囲が好適である。また、一旦
二軸延伸されたフイルムを少なくとも一方向にさらに延
伸するのが望ましいF5値を得るのに有効である。 次にこの延伸フイルムを熱処理する。この場合の熱処理
温度は170〜200℃、特に170〜190℃、時間
は0.5〜60秒の範囲が好適である。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を2段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を3.5〜6.5倍で行なう方法は延伸破れな
く、本発明範囲のt/d、熱収縮率を得るのに有効であ
る。長手方向延伸温度は、ポリエステルの種類によって
異なり一概には言えないが、通常、その1段目を50〜
130℃の範囲が好適である。長手方向延伸速度は、5
000〜50000%/分の範囲が好適である。幅方向
の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般的であ
り、延伸倍率は、3.0〜5.0倍の範囲が適当である
。幅方向の延伸速度は、1000〜20000%/分、
温度は80〜160℃の範囲が好適である。また、一旦
二軸延伸されたフイルムを少なくとも一方向にさらに延
伸するのが望ましいF5値を得るのに有効である。 次にこの延伸フイルムを熱処理する。この場合の熱処理
温度は170〜200℃、特に170〜190℃、時間
は0.5〜60秒の範囲が好適である。
【0035】次に、このフイルムに所定の磁性層を塗布
する。磁性層を塗布する方法は公知の方法で行なうこと
ができ、塗布後の乾燥工程は、温度を90〜120℃と
するのが好ましい。この時、塗布・乾燥の工程張力を1
5kg/m、好ましくは10kg/m以下にすることが
本発明の範囲の熱収縮率を得るのに有効である。
する。磁性層を塗布する方法は公知の方法で行なうこと
ができ、塗布後の乾燥工程は、温度を90〜120℃と
するのが好ましい。この時、塗布・乾燥の工程張力を1
5kg/m、好ましくは10kg/m以下にすることが
本発明の範囲の熱収縮率を得るのに有効である。
【0036】また、カレンダー工程は、ポリアミドまた
はポリエステルを弾性ロールに用い、25〜90℃、特
に40〜70℃の温度範囲で行ない、またその時の工程
張力を13kg/m、好ましくは8kg/m以下にする
ことが本発明範囲の熱収縮率を得るのに有効である。さ
らに、このフイルムの磁性層をキュアした後、その原反
(広幅)を、巻いたまま40〜90℃の温度範囲で24
〜96時間加熱放置することは本発明の熱収縮率を得る
のに有効である。その後、所定のテープ幅にスリットし
て本発明の磁気記録テープを得る。
はポリエステルを弾性ロールに用い、25〜90℃、特
に40〜70℃の温度範囲で行ない、またその時の工程
張力を13kg/m、好ましくは8kg/m以下にする
ことが本発明範囲の熱収縮率を得るのに有効である。さ
らに、このフイルムの磁性層をキュアした後、その原反
(広幅)を、巻いたまま40〜90℃の温度範囲で24
〜96時間加熱放置することは本発明の熱収縮率を得る
のに有効である。その後、所定のテープ幅にスリットし
て本発明の磁気記録テープを得る。
【0037】
【作用】本発明の磁気記録テープにおいては、基材フイ
ルムの熱収縮率を特性値以下に小さく抑え、かつ非磁性
面を特定の粒子を含有し均一な突起高さを有する面に構
成することにより、サーモ処理を有効に活用でき、高い
出力特性が維持されつつ、スキュー特性が大幅に向上さ
れる。
ルムの熱収縮率を特性値以下に小さく抑え、かつ非磁性
面を特定の粒子を含有し均一な突起高さを有する面に構
成することにより、サーモ処理を有効に活用でき、高い
出力特性が維持されつつ、スキュー特性が大幅に向上さ
れる。
【0038】[物性の測定方法ならびに効果の評価方法
]本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。 (1)粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法(
たとえばヤマト科学製PR−503型)で除去し粒子を
露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒
子はダメージを受けない条件を選択する。これをSEM
(走査型電子顕微鏡)で観察し、粒子の画像をイメージ
アナライザーで処理する。観察箇所を替えて粒子数50
00個以上で次の数値処理を行ない、それによって求め
た数平均径Dを平均粒径とする。 D=ΣDi /N ここでDi は粒子の円相当径、Nは粒子数である。
]本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次
の通りである。 (1)粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ低温灰化処理法(
たとえばヤマト科学製PR−503型)で除去し粒子を
露出させる。処理条件はポリエステルは灰化されるが粒
子はダメージを受けない条件を選択する。これをSEM
(走査型電子顕微鏡)で観察し、粒子の画像をイメージ
アナライザーで処理する。観察箇所を替えて粒子数50
00個以上で次の数値処理を行ない、それによって求め
た数平均径Dを平均粒径とする。 D=ΣDi /N ここでDi は粒子の円相当径、Nは粒子数である。
【0039】(2)粒径比
上記(1)の測定において個々の粒子の長径の平均値/
短径の平均値の比である。すなわち、下式で求められる
。 長径=ΣD1i /N 短径=ΣD2i /N D1i 、D2i はそれぞれ個々の粒子の長径(最大
径)、短径(最短径)、Nは粒子数である。
短径の平均値の比である。すなわち、下式で求められる
。 長径=ΣD1i /N 短径=ΣD2i /N D1i 、D2i はそれぞれ個々の粒子の長径(最大
径)、短径(最短径)、Nは粒子数である。
【0040】(3)粒径の相対標準偏差上記(1)の方
法で測定された個々の突起径Di 、平均径D、粒子数
Nから計算される標準偏差σ[=√〔Σ(Di −D)
2 /N〕]を平均径Dで割った値(σ/D)で表した
。
法で測定された個々の突起径Di 、平均径D、粒子数
Nから計算される標準偏差σ[=√〔Σ(Di −D)
2 /N〕]を平均径Dで割った値(σ/D)で表した
。
【0041】(4)粒子の含有量
ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し
、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率(重量%)をもって粒子含有量とする。
【0042】(5)結晶化パラメータΔTcg、融解熱
パーキンエルマー社製のDSC(示差走査熱量計)II
型を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、
300℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中で急冷
する。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移
点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tccと
した。さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求め
た。ここでTccとTgの差(Tcc−Tg)を結晶化
パラメータΔTcgと定義する。
パーキンエルマー社製のDSC(示差走査熱量計)II
型を用いて測定した。DSCの測定条件は次の通りであ
る。すなわち、試料10mgをDSC装置にセットし、
300℃の温度で5分間溶融した後、液体窒素中で急冷
する。この急冷試料を10℃/分で昇温し、ガラス転移
点Tgを検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態から
の結晶化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Tccと
した。さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求め
た。ここでTccとTgの差(Tcc−Tg)を結晶化
パラメータΔTcgと定義する。
【0043】(6)F5値
JIS−Z−1702に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃
、65%RHにて測定した。F5値とは5%伸長時の強
度のことである。
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、25℃
、65%RHにて測定した。F5値とは5%伸長時の強
度のことである。
【0044】(7)全反射ラマン結晶化指数Jobin
−Yvon社製Ramanor U−1000ラマンシ
ステムにより、全反射ラマンスペクトルを測定し、カル
ボニル基の伸縮振動である1730cm−1の半価幅を
もって表面の全反射ラマン結晶化指数とした。測定条件
は次の通りである。測定深さは、表面から500〜10
00オングストローム程度である。 ■光源 アルゴンイオンレーザー(5145Å)■試料のセッテ
ィング レーザーの偏光方向(S偏光)とフイルム長手方向が平
行となるようにフイルム表面を全反射プリズムに圧着さ
せ、レーザのプリズムへの入射角(フイルム厚さ方向と
の角度)は60℃とした。 ■検出器 PM:RCA31034/Photon Counti
ng System(Hamamatsu C1230
)(supply 1600V)■測定条件 スリット 100
0μmレーザー
100mWゲート時間
1.0sec スキャン速度
12cm−1/minサンプリングインターバル
0.2cm−1繰り返し回数
6
−Yvon社製Ramanor U−1000ラマンシ
ステムにより、全反射ラマンスペクトルを測定し、カル
ボニル基の伸縮振動である1730cm−1の半価幅を
もって表面の全反射ラマン結晶化指数とした。測定条件
は次の通りである。測定深さは、表面から500〜10
00オングストローム程度である。 ■光源 アルゴンイオンレーザー(5145Å)■試料のセッテ
ィング レーザーの偏光方向(S偏光)とフイルム長手方向が平
行となるようにフイルム表面を全反射プリズムに圧着さ
せ、レーザのプリズムへの入射角(フイルム厚さ方向と
の角度)は60℃とした。 ■検出器 PM:RCA31034/Photon Counti
ng System(Hamamatsu C1230
)(supply 1600V)■測定条件 スリット 100
0μmレーザー
100mWゲート時間
1.0sec スキャン速度
12cm−1/minサンプリングインターバル
0.2cm−1繰り返し回数
6
【0045】(8)表層粒子濃度比
2次イオンマススペクトル(SIMS)を用いて、フイ
ルム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高濃度の元
素とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、
厚さ方向の分析を行なう。SIMSによって測定される
最表層粒子濃度(深さ0の点)における粒子濃度Aとさ
らに深さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Bの比、
A/Bを表層濃度比と定義した。測定装置、条件は下記
の通りである。測定装置、条件は下記の通りである。 ■測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA 社製 A−DIDA3000
■測定条件 1次イオン種 :O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:200nA ラスター領域 :400μm□ 分析領域 :ゲート30% 測定真空度 :6.0×10−9TorrE−G
UN :0.5KV−3.0A
ルム中の粒子に起因する元素の内のもっとも高濃度の元
素とポリエステルの炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、
厚さ方向の分析を行なう。SIMSによって測定される
最表層粒子濃度(深さ0の点)における粒子濃度Aとさ
らに深さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Bの比、
A/Bを表層濃度比と定義した。測定装置、条件は下記
の通りである。測定装置、条件は下記の通りである。 ■測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA 社製 A−DIDA3000
■測定条件 1次イオン種 :O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:200nA ラスター領域 :400μm□ 分析領域 :ゲート30% 測定真空度 :6.0×10−9TorrE−G
UN :0.5KV−3.0A
【0046】(9
)ポリエステルA層の厚さ2次イオン質量分析装置(S
IMS)を用いて、表層から深さ3000nmの範囲の
フイルム中の粒子の内もっとも高濃度の粒子に起因する
元素とポリエステルの炭素元素の濃度比(M+ /C+
)を粒子濃度とし、表面から深さ3000nmまで厚
さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面のため
に粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は
高くなる。本発明フイルムの場合は一旦極大値となった
粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもと
に表層粒子濃度が極大値の1/2となる深さ(この深さ
は極大値となる深さよりも深い)を求め、これを積層厚
さとした。条件は次の通り。 ■測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA 社製 A−DIDA3000
■測定条件 1次イオン種 :O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:200nA ラスター領域 :400μm□ 分析領域 :ゲート30% 測定真空度 :6.0×10−9TorrE−G
UN :0.5KV−3.0Aなお、表層から深
さ3000nmの範囲にもっとも多く含有する粒子が有
機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、
表面からエッチングしながらXPS(X線光電子分光法
)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデプスプロフ
ァイルを測定し積層厚さを求めても良いし、また、電子
顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態やコント
ラストの差から界面を認識し積層厚さを求めることもで
きる。
)ポリエステルA層の厚さ2次イオン質量分析装置(S
IMS)を用いて、表層から深さ3000nmの範囲の
フイルム中の粒子の内もっとも高濃度の粒子に起因する
元素とポリエステルの炭素元素の濃度比(M+ /C+
)を粒子濃度とし、表面から深さ3000nmまで厚
さ方向の分析を行なう。表層では表面という界面のため
に粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は
高くなる。本発明フイルムの場合は一旦極大値となった
粒子濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線をもと
に表層粒子濃度が極大値の1/2となる深さ(この深さ
は極大値となる深さよりも深い)を求め、これを積層厚
さとした。条件は次の通り。 ■測定装置 2次イオン質量分析装置(SIMS) 西独、ATOMIKA 社製 A−DIDA3000
■測定条件 1次イオン種 :O2 + 1次イオン加速電圧:12KV 1次イオン電流:200nA ラスター領域 :400μm□ 分析領域 :ゲート30% 測定真空度 :6.0×10−9TorrE−G
UN :0.5KV−3.0Aなお、表層から深
さ3000nmの範囲にもっとも多く含有する粒子が有
機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、
表面からエッチングしながらXPS(X線光電子分光法
)、IR(赤外分光法)などで上記同様のデプスプロフ
ァイルを測定し積層厚さを求めても良いし、また、電子
顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態やコント
ラストの差から界面を認識し積層厚さを求めることもで
きる。
【0047】(10)表面突起の平均高さ2検出器方式
の走査型電子顕微鏡[ESM−3200、エリオニクス
(株)製]と断面測定装置[PMS−1、エリオニクス
(株)製]においてフイルム表面の平坦面の高さを0と
して走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装置[I
BAS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画
像処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
平均径とする。また、この2値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回
繰り返し、突起個数を求め、測定された全突起について
その高さの平均値を平均高さとした。 また個々の突起の高さデータをもとに、高さ分布の標準
偏差を求めた。また走査型電子顕微鏡の倍率は、100
0〜8000倍の間の値を選択する。なお、場合によっ
ては、高精度光干渉式3次元表面解析装置(WYKO社
製TOPO−3D、対物レンズ:40〜200倍、高解
像度カメラ使用が有効)を用いて得られる高さ情報を上
記SEMの値に読み替えて用いてもよい。
の走査型電子顕微鏡[ESM−3200、エリオニクス
(株)製]と断面測定装置[PMS−1、エリオニクス
(株)製]においてフイルム表面の平坦面の高さを0と
して走査した時の突起の高さ測定値を画像処理装置[I
BAS2000、カールツァイス(株)製]に送り、画
像処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で突起部分を2値化して得られた
個々の突起の面積から円相当径を求めこれをその突起の
平均径とする。また、この2値化された個々の突起部分
の中で最も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて500回
繰り返し、突起個数を求め、測定された全突起について
その高さの平均値を平均高さとした。 また個々の突起の高さデータをもとに、高さ分布の標準
偏差を求めた。また走査型電子顕微鏡の倍率は、100
0〜8000倍の間の値を選択する。なお、場合によっ
ては、高精度光干渉式3次元表面解析装置(WYKO社
製TOPO−3D、対物レンズ:40〜200倍、高解
像度カメラ使用が有効)を用いて得られる高さ情報を上
記SEMの値に読み替えて用いてもよい。
【0048】(11)出力特性(クロマS/N)テープ
原反を8mm幅にスリットし、カセットハーフに組み込
み8mmVTRテープとした。このテープにSONY製
Hi8VTRを用いてシバソク製のテレビ試験波形発生
器(TG7/U706)により100%クロマ信号を記
録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイズ
測定器(925D/1)でクロマS/Nを測定した。 このクロマS/Nを0.2μm径の球形シリカを0.4
重量%含有する単層のポリエステルフイルムを基材に用
いて作ったテープと比較して2dB以上高いものを出力
特性良好、それ以下のものを出力特性不良とした。
原反を8mm幅にスリットし、カセットハーフに組み込
み8mmVTRテープとした。このテープにSONY製
Hi8VTRを用いてシバソク製のテレビ試験波形発生
器(TG7/U706)により100%クロマ信号を記
録し、その再生信号からシバソク製カラービデオノイズ
測定器(925D/1)でクロマS/Nを測定した。 このクロマS/Nを0.2μm径の球形シリカを0.4
重量%含有する単層のポリエステルフイルムを基材に用
いて作ったテープと比較して2dB以上高いものを出力
特性良好、それ以下のものを出力特性不良とした。
【0049】(12)スキュー特性
上記8mmVTRを用いて20℃、60%RHにて試料
テープを用いて垂直線画像を記録する。これを40℃、
80%RHで48時間保存した後、20℃、60%RH
にて再生を行ない、テレビ最上端部での垂直基準線と画
像のずれ(スキュー)を測定した。このスキューが10
μsec 未満の時はスキュー特性良好、10μsec
以上の場合は不良と判定した。
テープを用いて垂直線画像を記録する。これを40℃、
80%RHで48時間保存した後、20℃、60%RH
にて再生を行ない、テレビ最上端部での垂直基準線と画
像のずれ(スキュー)を測定した。このスキューが10
μsec 未満の時はスキュー特性良好、10μsec
以上の場合は不良と判定した。
【0050】(13)テープ熱収縮率
テープの長手方向に約200mm間隔で標線を入れ、そ
の間の長さを精密に測定する(A)。次に該試料を10
0℃のオーブンに30分放置した後上記標線間を精密に
測定し(B)、下式で得られる値をテープの長手方向熱
収縮率とした。 100×(A−B)/A (%)
の間の長さを精密に測定する(A)。次に該試料を10
0℃のオーブンに30分放置した後上記標線間を精密に
測定し(B)、下式で得られる値をテープの長手方向熱
収縮率とした。 100×(A−B)/A (%)
【0051】
【実施例】本発明を実施例に基づいて説明する。
実施例1〜5、及び比較例1〜6
平均粒径の異なる架橋ジビニルベンゼン粒子、コロイダ
ルシリカに起因する球形シリカ粒子等を含有するエチレ
ングリコールスラリーを調製し、このエチレングリコー
ルスラリーをテレフタル酸ジメチルとエステル交換反応
させ、重縮合し、該粒子を1〜10重量%含有するポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)のペレッ
トを作った。この時、重縮合時間を調節し固有粘度を0
.66とした(ポリエステルA)。また、常法によって
、固有粘度0.62の、平均粒径0.2μmの球形シリ
カを0.4重量%含有するPETを製造した(ポリエス
テルB)。これらのポリマをそれぞれ180℃で6時間
減圧乾燥(3Torr)した後、A、Bをそれぞれ2台
の押出器に供給し、280℃で溶融し、これらのポリマ
を合流面が矩形の合流ブロックで合流積層し、静電印加
キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティング・
ドラムに巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フイルムを
作った。この未延伸フイルムを温度80℃にて長手方向
に4.5倍延伸した。この延伸は2組ずつのロールの周
速差で、2段階で行なった。この一軸延伸フイルムをス
テンタを用いて延伸速度2000%/分で100℃で幅
方向に4.0倍延伸し、さらに再度長手方向に1.6倍
延伸した後、定長下で、190℃にて5秒間熱処理し、
総厚さ6.5μmの二軸配向積層フイルムを得た。
ルシリカに起因する球形シリカ粒子等を含有するエチレ
ングリコールスラリーを調製し、このエチレングリコー
ルスラリーをテレフタル酸ジメチルとエステル交換反応
させ、重縮合し、該粒子を1〜10重量%含有するポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)のペレッ
トを作った。この時、重縮合時間を調節し固有粘度を0
.66とした(ポリエステルA)。また、常法によって
、固有粘度0.62の、平均粒径0.2μmの球形シリ
カを0.4重量%含有するPETを製造した(ポリエス
テルB)。これらのポリマをそれぞれ180℃で6時間
減圧乾燥(3Torr)した後、A、Bをそれぞれ2台
の押出器に供給し、280℃で溶融し、これらのポリマ
を合流面が矩形の合流ブロックで合流積層し、静電印加
キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティング・
ドラムに巻きつけて冷却固化し、積層未延伸フイルムを
作った。この未延伸フイルムを温度80℃にて長手方向
に4.5倍延伸した。この延伸は2組ずつのロールの周
速差で、2段階で行なった。この一軸延伸フイルムをス
テンタを用いて延伸速度2000%/分で100℃で幅
方向に4.0倍延伸し、さらに再度長手方向に1.6倍
延伸した後、定長下で、190℃にて5秒間熱処理し、
総厚さ6.5μmの二軸配向積層フイルムを得た。
【0052】このフイルムに磁性塗料をグラビヤロール
を用いて塗布する。磁性塗料は次のようにして調製した
。 ・Fe
100部平均粒子サイズ 長さ :0
.3μm針状比:10/1 抗磁力 2000 Oe・ポリウ
レタン樹脂 15
部・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 5部
・ニトロセルロール樹脂
5部・酸化アルミ粉末
3部平均粒径
:0.3μm・カーボンブラック
1部・レシチン
2部・メチルエチルケトン
100部・メチルイソブチルケトン
100部・トルエン
100部・ステアリン酸
2部
を用いて塗布する。磁性塗料は次のようにして調製した
。 ・Fe
100部平均粒子サイズ 長さ :0
.3μm針状比:10/1 抗磁力 2000 Oe・ポリウ
レタン樹脂 15
部・塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 5部
・ニトロセルロール樹脂
5部・酸化アルミ粉末
3部平均粒径
:0.3μm・カーボンブラック
1部・レシチン
2部・メチルエチルケトン
100部・メチルイソブチルケトン
100部・トルエン
100部・ステアリン酸
2部
【0
053】上記組成物をボールミルで48時間混合分散し
た後、硬化剤6部を添加して得られた混練物をフィルタ
ーでろ過して磁性塗布液を準備し、上記フイルム上に塗
布、磁場配向させ、110℃で乾燥し(ここまでの工程
張力は10kg/m)、さらにカレンダー装置(スチー
ルロール/ナイロンロール、5段)で、温度70℃、線
圧200kg/cm 、工程張力7kg/mでカレンダ
ー処理した後、ロール状に巻取って70℃で24時間キ
ュアリングし、さらに40℃で72時間サーモ処理して
磁気記録テープを得た。
053】上記組成物をボールミルで48時間混合分散し
た後、硬化剤6部を添加して得られた混練物をフィルタ
ーでろ過して磁性塗布液を準備し、上記フイルム上に塗
布、磁場配向させ、110℃で乾燥し(ここまでの工程
張力は10kg/m)、さらにカレンダー装置(スチー
ルロール/ナイロンロール、5段)で、温度70℃、線
圧200kg/cm 、工程張力7kg/mでカレンダ
ー処理した後、ロール状に巻取って70℃で24時間キ
ュアリングし、さらに40℃で72時間サーモ処理して
磁気記録テープを得た。
【0054】これらのテープの特性は表1に示したとお
りであり、本発明の要件を満足するテープは出力特性、
スキュー特性ともに優れたものであったが、そうでない
場合は出力特性、スキュー特性を兼備した磁気記録テー
プは得られなかった。
りであり、本発明の要件を満足するテープは出力特性、
スキュー特性ともに優れたものであったが、そうでない
場合は出力特性、スキュー特性を兼備した磁気記録テー
プは得られなかった。
【0055】
【表1】
【0056】
【発明の効果】本発明によれば、巻いた状態で磁性面に
影響を与える反磁性面が特定かつ均一な表面粗さの面と
された基材フイルムを用いて、サーモ処理という特異な
製法を組み合わせて、磁気記録テープとしたので、高い
出力特性を維持したまま、スキュー特性を飛躍的に向上
せしめることができる。
影響を与える反磁性面が特定かつ均一な表面粗さの面と
された基材フイルムを用いて、サーモ処理という特異な
製法を組み合わせて、磁気記録テープとしたので、高い
出力特性を維持したまま、スキュー特性を飛躍的に向上
せしめることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 粒子を2〜20重量%含有するポリエ
ステルAを、ポリエステルBを主成分とする組成物の少
なくとも片面に積層してなる基材フイルムに、反磁性面
が前記ポリエステルAの面となるように磁性層を設けて
なる磁気記録テープであって、該基材フイルムのA層の
厚さtとA層に含有する粒子の平均粒径dの比t/dが
0.1〜2.5、かつ、テープの長手方向の100℃で
の熱収縮率が1.5%以下であることを特徴とする磁気
記録テープ。 - 【請求項2】 前記基材フイルムの長手方向のF5値
が22kg/mm 2 以上、かつ、テープの厚さが1
0μm以下である請求項1の磁気記録テープ。 - 【請求項3】 前記磁性層がメタルおよび/またはメ
タル合金からなる請求項1又は2の磁気記録テープ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3040721A JPH04259910A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 磁気記録テープ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3040721A JPH04259910A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 磁気記録テープ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04259910A true JPH04259910A (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=12588467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3040721A Pending JPH04259910A (ja) | 1991-02-14 | 1991-02-14 | 磁気記録テープ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04259910A (ja) |
-
1991
- 1991-02-14 JP JP3040721A patent/JPH04259910A/ja active Pending
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