JPH04263114A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気ディスク、磁気テー
プ、磁気シート等の磁気記録媒体に関するものである。
プ、磁気シート等の磁気記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来技術】近来、磁気記録媒体、例えば磁気ディスク
は小型化が進み、更に線記録密度およびトラック密度の
増大による高密度化の傾向に伴って、微粒子化、高磁力
化された磁性体粒子が使用されることが多くなってきて
いる。
は小型化が進み、更に線記録密度およびトラック密度の
増大による高密度化の傾向に伴って、微粒子化、高磁力
化された磁性体粒子が使用されることが多くなってきて
いる。
【0003】粒子の細かい磁性粉を用い、磁性層表面を
平滑することにより、ノイズの少ない、高SN比の磁気
記録媒体を得ることができる。しかし、磁性粉の微粒子
化にも限度があり、細かくなればなるほど均一に分散す
ることが難しくなる。その結果、かえって出力が低下し
たり、磁性塗膜層の強度が弱くなり耐久性が低下する等
の問題があった。
平滑することにより、ノイズの少ない、高SN比の磁気
記録媒体を得ることができる。しかし、磁性粉の微粒子
化にも限度があり、細かくなればなるほど均一に分散す
ることが難しくなる。その結果、かえって出力が低下し
たり、磁性塗膜層の強度が弱くなり耐久性が低下する等
の問題があった。
【0004】すなわち、磁性粉の微粒子化の技術のみで
は、磁性層表面が平滑になることによるSN比の増加は
期待できるが、磁性粉の分散がより難しくなり、磁性粉
の粒子が凝集し、出力に関しては向上することが期待で
きず、電磁変換特性の向上が効果的なものでない。
は、磁性層表面が平滑になることによるSN比の増加は
期待できるが、磁性粉の分散がより難しくなり、磁性粉
の粒子が凝集し、出力に関しては向上することが期待で
きず、電磁変換特性の向上が効果的なものでない。
【0005】また、磁性粉とバインダ樹脂との結着が不
十分であり、磁性層塗膜自体が脆くなるため、走行耐久
性が劣化し、ドロップアウトが起きたり、エッジダメー
ジや走行停止が起き、そのうえ磁性層が剥離する等の問
題が起きる。さらに、スチル耐久性の低下も大きくなる
。
十分であり、磁性層塗膜自体が脆くなるため、走行耐久
性が劣化し、ドロップアウトが起きたり、エッジダメー
ジや走行停止が起き、そのうえ磁性層が剥離する等の問
題が起きる。さらに、スチル耐久性の低下も大きくなる
。
【0006】
【発明の目的】本発明の目的は磁性粉の分散性を向上す
ることにより、電磁変換特性を改善するとともに、磁性
粉とバインダ樹脂との結着性も改良し、耐久性に優れ、
記録再生特性も良好な磁気記録媒体を提供することにあ
る。
ることにより、電磁変換特性を改善するとともに、磁性
粉とバインダ樹脂との結着性も改良し、耐久性に優れ、
記録再生特性も良好な磁気記録媒体を提供することにあ
る。
【0007】
【発明の構成及びその作用効果】本発明は、表面自由エ
ネルギーが23〜45dyne/cm 磁性粉と、陰性
官能基を有しかつ、表面自由エネルギーが25〜45d
yne/cm の樹脂とを含有する磁性層が非磁性支持
体上に設けられてなることを特徴とする磁気記録媒体に
関する。
ネルギーが23〜45dyne/cm 磁性粉と、陰性
官能基を有しかつ、表面自由エネルギーが25〜45d
yne/cm の樹脂とを含有する磁性層が非磁性支持
体上に設けられてなることを特徴とする磁気記録媒体に
関する。
【0008】本発明者は、磁性粉の表面自由エネルギー
をバインダ樹脂の表面自由エネルギーのレベルに合わせ
、両者の親和性を高めることによって磁性粉の分散性を
改良することができることを見出したものである。
をバインダ樹脂の表面自由エネルギーのレベルに合わせ
、両者の親和性を高めることによって磁性粉の分散性を
改良することができることを見出したものである。
【0009】すなわち、本発明に従い、前記の表面自由
エネルギーを有する磁性粉及びバインダ樹脂を組合せた
磁性層を有する磁気記録媒体は、出力及び角形比が高く
、ドロップアウトが少なく、かつ、走行耐久性も優れて
いる。
エネルギーを有する磁性粉及びバインダ樹脂を組合せた
磁性層を有する磁気記録媒体は、出力及び角形比が高く
、ドロップアウトが少なく、かつ、走行耐久性も優れて
いる。
【0010】本発明に係る磁性粉及びバインダ樹脂の表
面自由エネルギーの値は、液体に対する磁性粉及び樹脂
それぞれの接触角(θ)を求めることによって得られる
。
面自由エネルギーの値は、液体に対する磁性粉及び樹脂
それぞれの接触角(θ)を求めることによって得られる
。
【0011】表面自由エネルギーの算出法は2種類あり
、得られる値はそれぞれ僅かに異なっている。
、得られる値はそれぞれ僅かに異なっている。
【0012】第1の方法は、Zisman plot
から求めるものである(以下、A法という)。色材工学
ハンドブック(色材協会編)P.154 によれば『あ
る固体表面で数種の液体の接触角を測定し、それぞれの
液体の表面張力と接触角(COS θ)の関係を作図し
たものをZismanプロットという。液体の表面張力
とCOS θの間はほぼ一つの直線上に乗っており、こ
の直線をCOS θ=1に補外したときの表面張力を臨
界表面張力γC と名づけ、ポリエチレン、パラフィン
のγC はそれぞれ図から31、16mNm −1とな
る。』と記載されているので、このときのγC の値か
ら表面自由エネルギーを求める。
から求めるものである(以下、A法という)。色材工学
ハンドブック(色材協会編)P.154 によれば『あ
る固体表面で数種の液体の接触角を測定し、それぞれの
液体の表面張力と接触角(COS θ)の関係を作図し
たものをZismanプロットという。液体の表面張力
とCOS θの間はほぼ一つの直線上に乗っており、こ
の直線をCOS θ=1に補外したときの表面張力を臨
界表面張力γC と名づけ、ポリエチレン、パラフィン
のγC はそれぞれ図から31、16mNm −1とな
る。』と記載されているので、このときのγC の値か
ら表面自由エネルギーを求める。
【0013】第2の方法は、液体の表面張力をγL と
するとき、γL /γL COS θをプロットし、γ
L COS θの最大値をもつ表面自由エネルギーから
求めるものである(以下、B法という)。『高分子32
巻9月号(1983)畑敏雄『高分子の表面エネルギー
』P.651 によれば、高分子固体の表面エネルギー
の評価のなかで『γL に対してγL COS θをプ
ロットすると、あるγL でγL COS θは極大値
をとる。〈9〉式をみればわかるようにこの値はγSL
=0に対応し、γL COS θ(max )≒γS
である。』と述べられている。引用文中の〈9〉式を(
1)式として下に示す。 γS =γSL+γLVCOS θ+πe ≒
γSL+γL COS θ (1)このときのγ
S が求める表面自由エネルギーである。
するとき、γL /γL COS θをプロットし、γ
L COS θの最大値をもつ表面自由エネルギーから
求めるものである(以下、B法という)。『高分子32
巻9月号(1983)畑敏雄『高分子の表面エネルギー
』P.651 によれば、高分子固体の表面エネルギー
の評価のなかで『γL に対してγL COS θをプ
ロットすると、あるγL でγL COS θは極大値
をとる。〈9〉式をみればわかるようにこの値はγSL
=0に対応し、γL COS θ(max )≒γS
である。』と述べられている。引用文中の〈9〉式を(
1)式として下に示す。 γS =γSL+γLVCOS θ+πe ≒
γSL+γL COS θ (1)このときのγ
S が求める表面自由エネルギーである。
【0014】A法、B法とも、バインダ樹脂と液体との
接触角θはポリエチレンテレフタレート(PET)基板
上に厚さ5μmのバインダ樹脂の膜をつくり、乾燥させ
た後、液滴を落とし、顕微鏡でその接触角を求めればよ
い。このとき用いる液体(溶剤)とその表面張力は表1
のとおりである。
接触角θはポリエチレンテレフタレート(PET)基板
上に厚さ5μmのバインダ樹脂の膜をつくり、乾燥させ
た後、液滴を落とし、顕微鏡でその接触角を求めればよ
い。このとき用いる液体(溶剤)とその表面張力は表1
のとおりである。
【0015】
【0016】A法においては、これら液体のCOS θ
を縦軸に、表面張力を横軸にとり、Zisman pl
ot を描き、図1に示すように直線がCOS θ=1
を補外したときの表面自由エネルギーを求める。またB
法においては、これら液体のCOS θ及びγL の積
の値を縦軸に、表面張力を横軸にとり、プロットすると
図2に示すような極大値をとる。この極大値を与えるγ
L を表面自由エネルギー(γS )とする。
を縦軸に、表面張力を横軸にとり、Zisman pl
ot を描き、図1に示すように直線がCOS θ=1
を補外したときの表面自由エネルギーを求める。またB
法においては、これら液体のCOS θ及びγL の積
の値を縦軸に、表面張力を横軸にとり、プロットすると
図2に示すような極大値をとる。この極大値を与えるγ
L を表面自由エネルギー(γS )とする。
【0017】しかしながら、磁性粉のような粉体の場合
にはこのような測定方法で接触角が求められないから、
次のような方法が採用される。
にはこのような測定方法で接触角が求められないから、
次のような方法が採用される。
【0018】先ず、例えば磁性粉15g を直径3.6
cmの円筒形の測定セルに入れ、1分間に40回の速
さで作動するタッピング装置を用いて500 回タッピ
ングを行わせ、磁性粉の空隙率を一定のものにする。
cmの円筒形の測定セルに入れ、1分間に40回の速
さで作動するタッピング装置を用いて500 回タッピ
ングを行わせ、磁性粉の空隙率を一定のものにする。
【0019】そして、このように調整された測定セルに
対して、ホソカワミクロン製浸透速度測定装置“ペネト
アナライザ”を用い、液の浸透速度を求める。すなわち
、このセルを、リフター上に置いた深さが6cm程度あ
る深形のシャーレの中に入れた溶液につかるように電子
天秤のフックに吊るし、浸透する液体の重量を求める。 尚、調整された測定セルを装置のフックにとりつけた時
点での重量を0とし、リフターを上げることによって浸
透する溶液の重量を時間と共にコンピュータに入力する
。粉体が溶液を浸透させるとそれ以上重量は変化しなく
なるので、ここで測定を終了する。
対して、ホソカワミクロン製浸透速度測定装置“ペネト
アナライザ”を用い、液の浸透速度を求める。すなわち
、このセルを、リフター上に置いた深さが6cm程度あ
る深形のシャーレの中に入れた溶液につかるように電子
天秤のフックに吊るし、浸透する液体の重量を求める。 尚、調整された測定セルを装置のフックにとりつけた時
点での重量を0とし、リフターを上げることによって浸
透する溶液の重量を時間と共にコンピュータに入力する
。粉体が溶液を浸透させるとそれ以上重量は変化しなく
なるので、ここで測定を終了する。
【0020】粉体層に浸透する媒液の浸透高さlと時間
tの関係はWashburnの式で表せる。 t:時間(sec ) γL :液体の表面張力(dyne/cm )ηL :
液体の粘度(g/cm.sec)r:粉体層における毛
細半径(cm) θ:接触角
tの関係はWashburnの式で表せる。 t:時間(sec ) γL :液体の表面張力(dyne/cm )ηL :
液体の粘度(g/cm.sec)r:粉体層における毛
細半径(cm) θ:接触角
【0021】又、浸透高さlと浸透重量W1 の関係は
次の(3)式で表される。 S:測定管断面積(cm2 ) ρL :液体密度(g/cm3 ) ε:空隙率 (2)及び(3)より浸透重量WL と測定時間tの関
係は次の(4)となる。
次の(3)式で表される。 S:測定管断面積(cm2 ) ρL :液体密度(g/cm3 ) ε:空隙率 (2)及び(3)より浸透重量WL と測定時間tの関
係は次の(4)となる。
【0022】ところで、上記コンピュータによるWL
2 /tの値をX−Yプロッタに出力させると、一定の
傾きをもつ直線となる。ある時間内の傾きを算出すると
、この傾きKは となるからそれぞれの定数を代入し、粉体と液体のCO
S θが得られる。
2 /tの値をX−Yプロッタに出力させると、一定の
傾きをもつ直線となる。ある時間内の傾きを算出すると
、この傾きKは となるからそれぞれの定数を代入し、粉体と液体のCO
S θが得られる。
【0023】なお、r、εの値は、前記液体の中から最
もぬれやすいものをえらびCOS θ=1とすれば算出
できる。粉体の液体に対するCOS θを求める場合γ
L 、ηL 、ρL の値を(4)式に代入する。液体
(溶剤)のηL とρL の値は表2に記す。
もぬれやすいものをえらびCOS θ=1とすれば算出
できる。粉体の液体に対するCOS θを求める場合γ
L 、ηL 、ρL の値を(4)式に代入する。液体
(溶剤)のηL とρL の値は表2に記す。
【0024】
【0025】前記方法によって求めた本発明の表面自由
エネルギーの範囲は、A法によって算出した場合、磁性
粉では23〜40dyne/cm 、好ましくは25〜
35dyne/cm 、バインダ樹脂では、25〜45
dyne/cm 、好ましくは35〜42dyne/c
m であり、B法によって算出した場合、磁性粉では3
0〜45dyne/cm、好ましくは30〜40dyn
e/cm 、バインダ樹脂では30〜45dyne/c
m 、好ましくは35〜42dyne/cm である。
エネルギーの範囲は、A法によって算出した場合、磁性
粉では23〜40dyne/cm 、好ましくは25〜
35dyne/cm 、バインダ樹脂では、25〜45
dyne/cm 、好ましくは35〜42dyne/c
m であり、B法によって算出した場合、磁性粉では3
0〜45dyne/cm、好ましくは30〜40dyn
e/cm 、バインダ樹脂では30〜45dyne/c
m 、好ましくは35〜42dyne/cm である。
【0026】本発明の範囲よりも表面自由エネルギーが
高い磁性粉を用いた場合はバインダーのぬれが悪くなり
、分散不良となり、低い磁性粉を用いた場合は溶媒がぬ
れにくくなることによって、バインダーが近づくのが阻
害されることとなる。また、本発明の範囲よりも表面自
由エネルギーが高い樹脂バインダーを用いた場合は使用
する溶媒として高エネルギーのものを使わないと溶解で
きなくなり、現在用いている乾燥工程で乾燥不良となり
、低い樹脂バインダーを用いた場合は溶媒との親和性が
強くなり、残留溶剤が増加する結果となる。
高い磁性粉を用いた場合はバインダーのぬれが悪くなり
、分散不良となり、低い磁性粉を用いた場合は溶媒がぬ
れにくくなることによって、バインダーが近づくのが阻
害されることとなる。また、本発明の範囲よりも表面自
由エネルギーが高い樹脂バインダーを用いた場合は使用
する溶媒として高エネルギーのものを使わないと溶解で
きなくなり、現在用いている乾燥工程で乾燥不良となり
、低い樹脂バインダーを用いた場合は溶媒との親和性が
強くなり、残留溶剤が増加する結果となる。
【0027】本発明の範囲の表面自由エネルギーを有す
る磁性粉を調製するには、表面処理剤であるSi、Al
等の量、磁性粉表面に吸着している水分あるいは有機物
等の量、及び磁性粉表面のCo量等を調整することが好
ましい。
る磁性粉を調製するには、表面処理剤であるSi、Al
等の量、磁性粉表面に吸着している水分あるいは有機物
等の量、及び磁性粉表面のCo量等を調整することが好
ましい。
【0028】Si、Al等及びCoの表面処理は特開昭
54−98202号公報等に記載の公知の方法で行うこ
とができ、磁性粉を形成する工程中に、珪酸塩、アルミ
ニウム塩、コバルト塩の水溶液による処理工程を挿入す
ることができる。その他、Si及びAlは、SiO2
、Al2 O3 の微粉末を磁性粉に被着、溶融させて
も良い。
54−98202号公報等に記載の公知の方法で行うこ
とができ、磁性粉を形成する工程中に、珪酸塩、アルミ
ニウム塩、コバルト塩の水溶液による処理工程を挿入す
ることができる。その他、Si及びAlは、SiO2
、Al2 O3 の微粉末を磁性粉に被着、溶融させて
も良い。
【0029】本発明に係る表面エネルギーを有する磁性
粉を得るには、表面処理剤であるSiの量が磁性粉に対
して0.1 wt%〜2.0 %が好ましく、更に好ま
しくは0.5 %〜1.0 %である。また、Al量は
0.01wt%〜0.15%が好ましく、更に好ましく
は0.05%〜0.10%である。Co量は3.0 w
t%〜8.0 %が好ましく、更に好ましくは4.0
%〜7.0 %である。
粉を得るには、表面処理剤であるSiの量が磁性粉に対
して0.1 wt%〜2.0 %が好ましく、更に好ま
しくは0.5 %〜1.0 %である。また、Al量は
0.01wt%〜0.15%が好ましく、更に好ましく
は0.05%〜0.10%である。Co量は3.0 w
t%〜8.0 %が好ましく、更に好ましくは4.0
%〜7.0 %である。
【0030】磁性粉表面の脂肪酸の吸着量はSi、Al
等の処理剤の量によって制御でき、たとえばステアリン
酸で0.5mg/m2〜2.0mg/m2が好ましいが
、更に好ましくは0.8mg/m2〜1.5mg/m2
である。
等の処理剤の量によって制御でき、たとえばステアリン
酸で0.5mg/m2〜2.0mg/m2が好ましいが
、更に好ましくは0.8mg/m2〜1.5mg/m2
である。
【0031】磁性粉表面の水分量は、磁性粉の針状結晶
の脱水、乾燥工程で調整でき、0.1wt%〜2.0
wt%が好ましいが、更に好ましくは0.3 wt%〜
1.5 wt%である。
の脱水、乾燥工程で調整でき、0.1wt%〜2.0
wt%が好ましいが、更に好ましくは0.3 wt%〜
1.5 wt%である。
【0032】本発明に使用する磁性粉としては、γ−F
e2 O3、Co含有(被着、変成、ドープ)のγ−F
e2 O3 、Fe3 O4 、Co含有(被着、変成
、ドープ)のFe3 O4 、FeOx、Co含有(被
着、変成、ドープ)のFeOx(X=1.33〜1.5
0)、CrO2 やRn、Te、Sb、Sr、Fe、T
i、V、Mn、Cr2 O3 の少なくとも一種類を含
むCrO2 、Fe、Co、Ni、Fe−Co合金、F
e−Ni合金、Fe−Co−Ni合金、Co−Ni−P
合金、Co−Ni−Fe−B合金、Fe−Ni−Zn合
金、Ni−Co合金、Fe−N合金、Fe−Co−Cr
合金、Mn−Bi合金など、公知の磁性粉が使用できる
。これら磁性粉の粒子サイズは約0.005 〜1ミク
ロンの長さで、軸長/軸幅の比は、1/1〜50/1程
度である。又、これらの磁性粉の比表面積は、1m2/
g〜70 m2/g 程度である。
e2 O3、Co含有(被着、変成、ドープ)のγ−F
e2 O3 、Fe3 O4 、Co含有(被着、変成
、ドープ)のFe3 O4 、FeOx、Co含有(被
着、変成、ドープ)のFeOx(X=1.33〜1.5
0)、CrO2 やRn、Te、Sb、Sr、Fe、T
i、V、Mn、Cr2 O3 の少なくとも一種類を含
むCrO2 、Fe、Co、Ni、Fe−Co合金、F
e−Ni合金、Fe−Co−Ni合金、Co−Ni−P
合金、Co−Ni−Fe−B合金、Fe−Ni−Zn合
金、Ni−Co合金、Fe−N合金、Fe−Co−Cr
合金、Mn−Bi合金など、公知の磁性粉が使用できる
。これら磁性粉の粒子サイズは約0.005 〜1ミク
ロンの長さで、軸長/軸幅の比は、1/1〜50/1程
度である。又、これらの磁性粉の比表面積は、1m2/
g〜70 m2/g 程度である。
【0033】また本発明に使用する磁性粉としては、板
状六方晶バリウムフェライトも使用できる。バリウムフ
ェライトの粒子サイズは約0.001 〜1ミクロンの
直径で厚みが直径の1/2〜1/20である。バリウム
フェライトの比重は4〜6g/ccで、比表面積は1m
2/g〜70m2/gである。
状六方晶バリウムフェライトも使用できる。バリウムフ
ェライトの粒子サイズは約0.001 〜1ミクロンの
直径で厚みが直径の1/2〜1/20である。バリウム
フェライトの比重は4〜6g/ccで、比表面積は1m
2/g〜70m2/gである。
【0034】磁性粉は前記陰性官能基を有する表面自由
エネルギーが23〜45dyne/cm の本発明に係
るバインダ樹脂100 重量部に対して約1〜200
重量部、好ましくは1〜100 重量部の範囲で使用さ
れる。
エネルギーが23〜45dyne/cm の本発明に係
るバインダ樹脂100 重量部に対して約1〜200
重量部、好ましくは1〜100 重量部の範囲で使用さ
れる。
【0035】これらの磁性粉を用いた場合の塗布液の含
水率は、0.00〜2.00wt%である。これらの磁
性粉の表面に、後で述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤
等をそれぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸
させて、吸着させてもよい。これらの磁性粉は、1wt
%以内でSr、Pb、Mn、Ni、Cd、Cr、Ti、
Cu、Zn等の重金属を含む事が好ましい。
水率は、0.00〜2.00wt%である。これらの磁
性粉の表面に、後で述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤
等をそれぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸
させて、吸着させてもよい。これらの磁性粉は、1wt
%以内でSr、Pb、Mn、Ni、Cd、Cr、Ti、
Cu、Zn等の重金属を含む事が好ましい。
【0036】本発明の範囲の表面自由エネルギーを有す
る陰性官能基含有樹脂を調製するには、樹脂の基本骨核
、陰性官能基量を変えることによって達成される。また
ポリウレタン樹脂を使用する場合には、イソシアネート
の添加量、あるいは種類を変えるとよい。
る陰性官能基含有樹脂を調製するには、樹脂の基本骨核
、陰性官能基量を変えることによって達成される。また
ポリウレタン樹脂を使用する場合には、イソシアネート
の添加量、あるいは種類を変えるとよい。
【0037】樹脂の陰性官能基としては例えば、−SO
3 M、−COOM、−PO(OM1 )(OM2 )
(但しM1は水素又はリチウム、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属、M2は水素、リチウム、カリウム、
ナトリウム等のアルカリ金属又は炭化水素残基であり、
M1 とM2 は同一であっても相違していても良い。 )等があるが、中でも−SO3 Na、−COONaが
好ましい。そして、このような陰性官能基の量は0.0
1〜0.10mol %が好ましいが、より望ましくは
0.03〜0.08mol %である。
3 M、−COOM、−PO(OM1 )(OM2 )
(但しM1は水素又はリチウム、カリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属、M2は水素、リチウム、カリウム、
ナトリウム等のアルカリ金属又は炭化水素残基であり、
M1 とM2 は同一であっても相違していても良い。 )等があるが、中でも−SO3 Na、−COONaが
好ましい。そして、このような陰性官能基の量は0.0
1〜0.10mol %が好ましいが、より望ましくは
0.03〜0.08mol %である。
【0038】また、樹脂の種類としては、例えば塩化ビ
ニル共重合体、ウレタンポリマー、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹
脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体、スチレ
ン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、各種の合
成ゴム系バインダ、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿
素樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反
応樹脂、高分子ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーとの混合物、ポリエステルポリオールとポリイ
ソシアネートの混合物、低分子量グリコールと高分子量
ジオール化合物との混合物及びこれらの混合物等がある
が、中でもウレタンポリマー、塩化ビニル共重合体、ポ
リエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物
等の系の樹脂が好ましい。
ニル共重合体、ウレタンポリマー、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、
塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹
脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体、スチレ
ン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、各種の合
成ゴム系バインダ、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿
素樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系反
応樹脂、高分子ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーとの混合物、ポリエステルポリオールとポリイ
ソシアネートの混合物、低分子量グリコールと高分子量
ジオール化合物との混合物及びこれらの混合物等がある
が、中でもウレタンポリマー、塩化ビニル共重合体、ポ
リエステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物
等の系の樹脂が好ましい。
【0039】なお、バインダ樹脂として上記のような特
性の樹脂のみが用いられなければならないものではなく
、従来から磁気記録媒体のバインダとして用いられてき
たエチルセルロース、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
リデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−
ブタジエン共重合体、ポリメタアクリル酸メチル、塩化
ビニリデン−メタアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等も
併用されて良い。但し、このような場合、陰性官能基を
有する表面自由エネルギーが25〜45dyne/cm
の本発明に係るバインダ樹脂は全バインダ樹脂中約5
0%以上好ましくは70〜90重量%である。
性の樹脂のみが用いられなければならないものではなく
、従来から磁気記録媒体のバインダとして用いられてき
たエチルセルロース、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
リデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−
ブタジエン共重合体、ポリメタアクリル酸メチル、塩化
ビニリデン−メタアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等も
併用されて良い。但し、このような場合、陰性官能基を
有する表面自由エネルギーが25〜45dyne/cm
の本発明に係るバインダ樹脂は全バインダ樹脂中約5
0%以上好ましくは70〜90重量%である。
【0040】ポリウレタン樹脂を用いる場合には、イソ
シアネートとして例えばトリレンジイソシアネート(T
DI)、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート
(MDI)、1,5−ナフチレンジイソシアネート(N
DI)、3,3′−ジメチル−4,4′−ビフェニレン
ジイソジイソシアネート(TODI)、キシリレンジイ
ソシアネート(XDI)、4,4′−ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート(水素化MDI)、粗製TDI
、ポリメチレン・ポリフェニル・イソシアネート(粗製
MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、
ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、キシリレ
ンジイソシアネート(HXDI)、水素化キシリレンジ
イソシアネート、o−トルイジンイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート
類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成
物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した2〜1
5量体のポリイソシアネート等を使用することができる
。これらのポリイソシアネート類の平均分子量は、10
0 〜20,000のものが好適である。これらポリイ
ソシアネートの市販されている商品名としては、コロネ
ートL、コロネートHL、コロネート2030、コロネ
ート2031、ミリオネートMR、ミリオネートMTL
(日本ポリウレタン(株)製)、タケネートD−102
、タケネートD−110 N、タケネートD−200
、タケネートD−202 、タケネート−300 S
、タケネート500 (武田薬品(株)製)、スミジュ
ールT−80、スミジュール44S、スミジュールPF
、スミジュールL、スミジュールN、デスモジュールL
、デスモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュ
ールHL、デスモジュールT65、デスモジュール15
、デスモジュールR、デスモジュールRF、デスモジュ
ールSL、デスモジュールZ4273(住友パイエル社
製)等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を
利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使
用することができる。又、硬化反応を促進する目的で、
水酸基(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が
1,000 〜10,000のポリウレタン、水等)、
アミノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン等)を有する化合物や金属酸化物の触媒を併
用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する
化合物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソ
シアネートはバインダー総量の5〜40wt%で用いる
ことが好ましい。
シアネートとして例えばトリレンジイソシアネート(T
DI)、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート
(MDI)、1,5−ナフチレンジイソシアネート(N
DI)、3,3′−ジメチル−4,4′−ビフェニレン
ジイソジイソシアネート(TODI)、キシリレンジイ
ソシアネート(XDI)、4,4′−ジシクロヘキシル
メタンジイソシアネート(水素化MDI)、粗製TDI
、ポリメチレン・ポリフェニル・イソシアネート(粗製
MDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、
ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、キシリレ
ンジイソシアネート(HXDI)、水素化キシリレンジ
イソシアネート、o−トルイジンイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート
類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生成
物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した2〜1
5量体のポリイソシアネート等を使用することができる
。これらのポリイソシアネート類の平均分子量は、10
0 〜20,000のものが好適である。これらポリイ
ソシアネートの市販されている商品名としては、コロネ
ートL、コロネートHL、コロネート2030、コロネ
ート2031、ミリオネートMR、ミリオネートMTL
(日本ポリウレタン(株)製)、タケネートD−102
、タケネートD−110 N、タケネートD−200
、タケネートD−202 、タケネート−300 S
、タケネート500 (武田薬品(株)製)、スミジュ
ールT−80、スミジュール44S、スミジュールPF
、スミジュールL、スミジュールN、デスモジュールL
、デスモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュ
ールHL、デスモジュールT65、デスモジュール15
、デスモジュールR、デスモジュールRF、デスモジュ
ールSL、デスモジュールZ4273(住友パイエル社
製)等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差を
利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって使
用することができる。又、硬化反応を促進する目的で、
水酸基(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が
1,000 〜10,000のポリウレタン、水等)、
アミノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン等)を有する化合物や金属酸化物の触媒を併
用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する
化合物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソ
シアネートはバインダー総量の5〜40wt%で用いる
ことが好ましい。
【0041】必要に応じて本発明の磁性層中に添加され
るその他の成分として、例えば分散剤、潤滑剤、研磨剤
、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤等が有り、分散剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸等の炭素数10〜26個の脂肪酸(R1 COO
H、R1 は炭素数9〜25個のアルキル基)、前記脂
肪酸のアルカリ金属(Li、Na、K、NH4 等)ま
たはアルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等)、Cu、
Pb等から成る金属石鹸、上記脂肪酸の脂肪酸アミド:
レシチン等が使用される。この他に炭素数4以上の高級
アルコール、(ブタノール、オクチルアルコール、ミリ
スチルアルコール、ステアリルアルコール)及びこれら
の硫酸エステル、燐酸エステル、アミン化合物等も使用
可能である。また、ポリアルキレンオキサイド及びこれ
の硫酸エステル、燐酸エステル、アミン化合物等やスル
ホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。 これらの化合物にはバインダーとの相溶性や特性を変え
ることからSi、Fの置換基を導入することも可能であ
る。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一種
類の分散剤は結合剤100 重量部に対して0.005
〜20重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使
用方法は、強磁性微粉末や非磁性微粉末の表面に予め被
着させても良く、また分散途中で添加してもよい。
るその他の成分として、例えば分散剤、潤滑剤、研磨剤
、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤等が有り、分散剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸等の炭素数10〜26個の脂肪酸(R1 COO
H、R1 は炭素数9〜25個のアルキル基)、前記脂
肪酸のアルカリ金属(Li、Na、K、NH4 等)ま
たはアルカリ土類金属(Mg、Ca、Ba等)、Cu、
Pb等から成る金属石鹸、上記脂肪酸の脂肪酸アミド:
レシチン等が使用される。この他に炭素数4以上の高級
アルコール、(ブタノール、オクチルアルコール、ミリ
スチルアルコール、ステアリルアルコール)及びこれら
の硫酸エステル、燐酸エステル、アミン化合物等も使用
可能である。また、ポリアルキレンオキサイド及びこれ
の硫酸エステル、燐酸エステル、アミン化合物等やスル
ホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能である。 これらの化合物にはバインダーとの相溶性や特性を変え
ることからSi、Fの置換基を導入することも可能であ
る。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一種
類の分散剤は結合剤100 重量部に対して0.005
〜20重量部の範囲で添加される。これら分散剤の使
用方法は、強磁性微粉末や非磁性微粉末の表面に予め被
着させても良く、また分散途中で添加してもよい。
【0042】このほかに分散剤として好ましい化合物と
しては、カルボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフ
ッ素系界面活性剤フロラードFC95、FC129 、
FC430 、FC431 を用いる事ができる。
しては、カルボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフ
ッ素系界面活性剤フロラードFC95、FC129 、
FC430 、FC431 を用いる事ができる。
【0043】また、酸化防止剤としてはベンゾトリアジ
ン、ベンゾチアゾール、ベンゾジアジン、EDTA等の
複素環化合物、複素化合物を用いる事ができる。
ン、ベンゾチアゾール、ベンゾジアジン、EDTA等の
複素環化合物、複素化合物を用いる事ができる。
【0044】本発明に用いる帯電防止剤としてはグラフ
ァイト、カーボンブラック、カーボンブラックグラフト
ポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタ
ン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末;サポニ
ン等の天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価アル
コールエステル、アルキルフェノールEO付加体等のノ
ニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、環状アミン
、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミド
、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環
類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン
界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エス
テル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイ
ン型等の両性界面活性剤等が使用される。
ァイト、カーボンブラック、カーボンブラックグラフト
ポリマー、酸化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタ
ン−酸化錫−酸化アンチモン、等の導電性粉末;サポニ
ン等の天然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系、多価アルコール、多価アル
コールエステル、アルキルフェノールEO付加体等のノ
ニオン界面活性剤;高級アルキルアミン類、環状アミン
、ヒダントイン誘導体、アミドアミン、エステルアミド
、第四級アンモニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環
類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン
界面活性剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エス
テル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤;アミノ酸類;アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタイ
ン型等の両性界面活性剤等が使用される。
【0045】これらの界面活性剤は単独または混合して
添加しても良い。また、これらの界面活性剤は磁気記録
媒体の表面に1mg/m2 〜550mg/m2オーバ
ーコートしても良い。磁気記録媒体における、これらの
界面活性剤の使用量は、強磁性微粉末100 重量部当
たり0.01〜10重量部である。これらは帯電防止剤
として用いられるものであるが、時としてそのほかの目
的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤として適用される場合もある。
添加しても良い。また、これらの界面活性剤は磁気記録
媒体の表面に1mg/m2 〜550mg/m2オーバ
ーコートしても良い。磁気記録媒体における、これらの
界面活性剤の使用量は、強磁性微粉末100 重量部当
たり0.01〜10重量部である。これらは帯電防止剤
として用いられるものであるが、時としてそのほかの目
的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤として適用される場合もある。
【0046】潤滑剤としては、例えばジアルキルポリシ
ロキサン(アルキル基の炭素数は1〜5)、ジアルコキ
シポリシロキサン、モノアルキルモノアルコキシポリシ
ロキサン、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポ
リシロキサン等のシリコンオイル、グラファイト等の導
電性微粉末、二硫化モリブデン、二硫化タングステン等
の固体潤滑剤、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン−塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチ
レン等のプラスチック微粉末、炭素数12〜20の一塩
基性脂肪酸と炭素数3〜12の一価のアルコールから成
る脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が使用でき
る。
ロキサン(アルキル基の炭素数は1〜5)、ジアルコキ
シポリシロキサン、モノアルキルモノアルコキシポリシ
ロキサン、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポ
リシロキサン等のシリコンオイル、グラファイト等の導
電性微粉末、二硫化モリブデン、二硫化タングステン等
の固体潤滑剤、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレン−塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチ
レン等のプラスチック微粉末、炭素数12〜20の一塩
基性脂肪酸と炭素数3〜12の一価のアルコールから成
る脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が使用でき
る。
【0047】研磨剤としては、例えばアルミナ、炭化ケ
イ素、酸化クロム(Cr2 O3 )、コランダム、人
造コランダム、ダイアモンド、人造ダイアモンド、エメ
リー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等が使用される。
イ素、酸化クロム(Cr2 O3 )、コランダム、人
造コランダム、ダイアモンド、人造ダイアモンド、エメ
リー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)等が使用される。
【0048】帯電防止剤としては、例えばカーボンブラ
ック等の導電性微粉末、サポニンなどの天然界面活性剤
、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドー
ル系等のノニオン界面活性剤、高級アルキルアミン類、
第4級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、
ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン界面活性
剤、その他両性界面活性剤等が使用される。
ック等の導電性微粉末、サポニンなどの天然界面活性剤
、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドー
ル系等のノニオン界面活性剤、高級アルキルアミン類、
第4級アンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、
ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン界面活性
剤、その他両性界面活性剤等が使用される。
【0049】本発明に使用されるカーボンブラックはゴ
ム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、
アセチレンブラック等を用いる事ができる。これらカー
ボンブラックの米国における略称の具体例をしめすとS
AF、ISAF、IISAF、T、HAT、SPA、F
F、FEF、HMF、GPF、APF、SRF、MPF
、ECF、SCF、CF、FT、MT、HCC、HCF
、MCF、LFF、RCF等があり、米国のASTM規
格のD−1765−82aに分類されているものを使用
することができる。本発明に使用されるこれらカーボン
ブラックの平均粒子サイズは、5〜1000ミリミクロ
ン(電子顕微鏡)、窒素吸着法比表面積は1〜1500
m2/g、pHは2〜13(JIS規格K−6221−
1982法)、ジブチルフタレート(DBP)吸油量、
5〜2000ml/100g (JIS規格K−622
1−1982法)である。本発明に使用されるこれらカ
ーボンブラックの含水率は、0.00〜20wt%であ
る。 本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、塗布
膜の表面電気抵抗を下げる目的で、5〜100 ミリミ
クロンのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御
するときに50〜1000ミリミクロンのカーボンブラ
ックをもちいる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的
でスペーシングロス減少のための平滑化のためにより微
粒子のカーボンブラック(100 ミリミクロン以下)
を、粗面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボ
ンブラック(50ミリミクロン以上)をもちいる。この
ようにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体
に要求される目的に応じて使い分けられる。
ム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、
アセチレンブラック等を用いる事ができる。これらカー
ボンブラックの米国における略称の具体例をしめすとS
AF、ISAF、IISAF、T、HAT、SPA、F
F、FEF、HMF、GPF、APF、SRF、MPF
、ECF、SCF、CF、FT、MT、HCC、HCF
、MCF、LFF、RCF等があり、米国のASTM規
格のD−1765−82aに分類されているものを使用
することができる。本発明に使用されるこれらカーボン
ブラックの平均粒子サイズは、5〜1000ミリミクロ
ン(電子顕微鏡)、窒素吸着法比表面積は1〜1500
m2/g、pHは2〜13(JIS規格K−6221−
1982法)、ジブチルフタレート(DBP)吸油量、
5〜2000ml/100g (JIS規格K−622
1−1982法)である。本発明に使用されるこれらカ
ーボンブラックの含水率は、0.00〜20wt%であ
る。 本発明に使用されるカーボンブラックのサイズは、塗布
膜の表面電気抵抗を下げる目的で、5〜100 ミリミ
クロンのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制御
するときに50〜1000ミリミクロンのカーボンブラ
ックをもちいる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的
でスペーシングロス減少のための平滑化のためにより微
粒子のカーボンブラック(100 ミリミクロン以下)
を、粗面化して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボ
ンブラック(50ミリミクロン以上)をもちいる。この
ようにカーボンブラックの種類と添加量は磁気記録媒体
に要求される目的に応じて使い分けられる。
【0050】また、これらのカーボンブラックを、後述
の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して
使用してもよい。また、カーボンブラックを製造すると
きの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部を
グラファイト化したものも使用できる。また、特殊なカ
ーボンブラックとしては中空カーボンブラックを使用す
ることもできる。
の分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して
使用してもよい。また、カーボンブラックを製造すると
きの炉の温度を2000℃以上で処理して表面の一部を
グラファイト化したものも使用できる。また、特殊なカ
ーボンブラックとしては中空カーボンブラックを使用す
ることもできる。
【0051】これらのカーボンブラックは磁性層の場合
強磁性微粉末100 重量部に対して0.1 〜20重
量部で用いることが望ましい。本発明に使用出来るカー
ボンブラック及びカーボンブラックの物性値は例えば「
カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協会編、(
昭和46年発行)を参考にすることが出来る。
強磁性微粉末100 重量部に対して0.1 〜20重
量部で用いることが望ましい。本発明に使用出来るカー
ボンブラック及びカーボンブラックの物性値は例えば「
カーボンブラック便覧」、カーボンブラック協会編、(
昭和46年発行)を参考にすることが出来る。
【0052】防錆剤としては、例えばリン酸、スルファ
ミド、グアニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンクク
ロメート、カルシウムクロメート、ストロンチウムクロ
メート、ジンクロヘキシルアミンナイトライト等の気化
性防錆剤(アミン、アミド又はイミドの無機酸塩又は有
機酸塩)がある。防黴剤としては、例えばサルチルアニ
ライド、酸化ビス(トリブチルスズ)、フェニルオレイ
ン酸水銀、ジヒドロアセト酸等がある。
ミド、グアニジン、ピリジン、アミン、尿素、ジンクク
ロメート、カルシウムクロメート、ストロンチウムクロ
メート、ジンクロヘキシルアミンナイトライト等の気化
性防錆剤(アミン、アミド又はイミドの無機酸塩又は有
機酸塩)がある。防黴剤としては、例えばサルチルアニ
ライド、酸化ビス(トリブチルスズ)、フェニルオレイ
ン酸水銀、ジヒドロアセト酸等がある。
【0053】磁性塗料に使用する有機溶媒としては、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエ
チルエーテル等のエステル系、エーテル、グリコールジ
メチルエーテル等のグリコールエーテル系、ベンゼン、
トルエン、キシレン等のタール系(芳香族炭化水素)、
メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素
、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベ
ンゼン等の塩素化炭化水素等がある。
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、シクロヘキサノン等のケトン系、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエ
チルエーテル等のエステル系、エーテル、グリコールジ
メチルエーテル等のグリコールエーテル系、ベンゼン、
トルエン、キシレン等のタール系(芳香族炭化水素)、
メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素
、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベ
ンゼン等の塩素化炭化水素等がある。
【0054】そして、これら磁性粉、バインダ、分散剤
、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤、溶剤
等の混合物に対して、例えば2本ロールミル、3本ロー
ルミル、ボールミル等を用いて磁性塗料とし、非磁性支
持体上にエアードクターコート、ブレードコート、エア
ナイフコート、スクイズコート、リバースロールコート
、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キス
コート、キャストコート、スピンコート等を利用して塗
布され、必要により磁性粉末を配向処理した後、乾燥す
る。
、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、防黴剤、溶剤
等の混合物に対して、例えば2本ロールミル、3本ロー
ルミル、ボールミル等を用いて磁性塗料とし、非磁性支
持体上にエアードクターコート、ブレードコート、エア
ナイフコート、スクイズコート、リバースロールコート
、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キス
コート、キャストコート、スピンコート等を利用して塗
布され、必要により磁性粉末を配向処理した後、乾燥す
る。
【0055】本発明の磁気記録媒体は、例えば図1に示
すように、非磁性支持体1の片面に磁性層2と、必要が
あれば裏面にバックコート層3が積層されているもので
ある。
すように、非磁性支持体1の片面に磁性層2と、必要が
あれば裏面にバックコート層3が積層されているもので
ある。
【0056】磁性層2は、単一層であっても、あるいは
二層以上の重層であっても良く、必要があればさらにオ
ーバーコート層(図示せず)、あるいは非磁性支持体1
との間に下引き層(図示せず)を設けても良い。重層を
使用する場合、本発明に係る磁性層は最外層又は他の一
層のみとし、他の層は一般的な磁性層として良い。また
、磁性層2との接着性を向上させるために、非磁性支持
体1にコロナ放電処理を施しても良い。
二層以上の重層であっても良く、必要があればさらにオ
ーバーコート層(図示せず)、あるいは非磁性支持体1
との間に下引き層(図示せず)を設けても良い。重層を
使用する場合、本発明に係る磁性層は最外層又は他の一
層のみとし、他の層は一般的な磁性層として良い。また
、磁性層2との接着性を向上させるために、非磁性支持
体1にコロナ放電処理を施しても良い。
【0057】次に、本発明に係る磁性粉及びバインダ樹
脂の調製例を示す。
脂の調製例を示す。
【0058】磁性粉調製例
磁性粉の裏面のSiO2 、Al2 O3 、水分、C
oの各量を調整して表3の磁性粉(I)〜(XIII)
を作成した。表中、(I)、(II)、(VI)、(V
III)、(X)、(XI)、及び(XIII)は本発
明の範囲の表面自由エネルギーを有するものであり、残
りのものは比較用の磁性粉である。
oの各量を調整して表3の磁性粉(I)〜(XIII)
を作成した。表中、(I)、(II)、(VI)、(V
III)、(X)、(XI)、及び(XIII)は本発
明の範囲の表面自由エネルギーを有するものであり、残
りのものは比較用の磁性粉である。
【0059】
*磁性粉として、I〜VはCo含有γ−Fe2 O
3 、VI、VII 、XII はCo−Ti置換バリ
ウムフェライト、VIII、IX、XIIIは金属磁性
粉(Fe、Ni)、X、XIはCo含有γ−Fe3 O
4 を使用した。 *SiO2 量中、1.5/2.0 等となっている後
側の数字はAl2 O3 量を表す。
3 、VI、VII 、XII はCo−Ti置換バリ
ウムフェライト、VIII、IX、XIIIは金属磁性
粉(Fe、Ni)、X、XIはCo含有γ−Fe3 O
4 を使用した。 *SiO2 量中、1.5/2.0 等となっている後
側の数字はAl2 O3 量を表す。
【0060】バインダ樹脂調製例
(1).4,4′ジフェニルメタンジイソシアネート(
MDI)、1,6ヘキサンジオール(1,6HG)、ネ
オペンタンジオール(NPG)、アジピン酸(ADA)
からなるスルホン酸基0.07m mol/g 含有。 表面自由エネルギー(γs)A法34dyne/cm
、B法34dyne/cm 。 (2).(1)と同一組成でスルホン酸基0.05m
mol/g 含有。γs:A法47、B法46dyne
/cm 。 (3).(1)と同一組成でスルホン酸基0.01m
mol/g 含有。γs:A法30、B法33dyne
/cm 。 (4).トリレンジイソシアネート(TDI)、1,6
HG、NPG、ADAからなる組成でスルホン酸基0.
05m mol/g 含有。γs:A法21、B法26
dyne/cm 。 (5).(4)と同一組成で陰性官能基含有せず。γs
:A法23、B法28dyne/cm 。 (6).(4)と同一組成でスルホン酸基0.02m
mol/g 含有。γs:A法43、B法43dyne
/cm 。 (7).IPDI、1.6 HGイソフタル酸からなる
組成でカルボン酸基0.04m mol/g 含有。γ
s:A法25、B法30dyne/cm 。 (8).IPDI.NPG.イソフタル酸からなる組成
でリン酸基0.03mmol/g 含有。γs:A法4
5、B法45dyne/cm 。上記のバインダ樹脂の
うち、(1)、(3)、(6)、(7)及び(8)は本
発明の範囲の表面自由エネルギーを有するものであり、
(2)、(4)及び(5)は比較用である。
MDI)、1,6ヘキサンジオール(1,6HG)、ネ
オペンタンジオール(NPG)、アジピン酸(ADA)
からなるスルホン酸基0.07m mol/g 含有。 表面自由エネルギー(γs)A法34dyne/cm
、B法34dyne/cm 。 (2).(1)と同一組成でスルホン酸基0.05m
mol/g 含有。γs:A法47、B法46dyne
/cm 。 (3).(1)と同一組成でスルホン酸基0.01m
mol/g 含有。γs:A法30、B法33dyne
/cm 。 (4).トリレンジイソシアネート(TDI)、1,6
HG、NPG、ADAからなる組成でスルホン酸基0.
05m mol/g 含有。γs:A法21、B法26
dyne/cm 。 (5).(4)と同一組成で陰性官能基含有せず。γs
:A法23、B法28dyne/cm 。 (6).(4)と同一組成でスルホン酸基0.02m
mol/g 含有。γs:A法43、B法43dyne
/cm 。 (7).IPDI、1.6 HGイソフタル酸からなる
組成でカルボン酸基0.04m mol/g 含有。γ
s:A法25、B法30dyne/cm 。 (8).IPDI.NPG.イソフタル酸からなる組成
でリン酸基0.03mmol/g 含有。γs:A法4
5、B法45dyne/cm 。上記のバインダ樹脂の
うち、(1)、(3)、(6)、(7)及び(8)は本
発明の範囲の表面自由エネルギーを有するものであり、
(2)、(4)及び(5)は比較用である。
【0061】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例とともに説明
する。成分、割合、操作順序等は、本発明の精神から逸
脱しない範囲において種々変更しうる。なお、下記の例
において「部」はすべて重量部である。
する。成分、割合、操作順序等は、本発明の精神から逸
脱しない範囲において種々変更しうる。なお、下記の例
において「部」はすべて重量部である。
【0062】実施例1
〈磁性層用塗料〉
磁性粉II Co含有γ−Fe2 O3
100部 (BET値50m2/g、
表面自由エネルギー:A法33、B法36dyne/c
m ) 樹脂(1) ポリウレタン樹脂(1)
15部 (表面自由エネルギー:
A法、B法とも34dyne/cm ) 樹脂(2) 塩化ビニル系共重合体(1)
10部 (スルホン酸基含有、表面自
由エネルギー:A法B法とも35dyne/cm )
パルミチン酸ブチル
1部 ミリスチン酸
2部
アルミナ
4部 カーボンブラ
ック
1部 レシチン
3部 シクロ
ヘキサノン
50部 メチルエチルケトン
100部 トルエ
ン
100部
100部 (BET値50m2/g、
表面自由エネルギー:A法33、B法36dyne/c
m ) 樹脂(1) ポリウレタン樹脂(1)
15部 (表面自由エネルギー:
A法、B法とも34dyne/cm ) 樹脂(2) 塩化ビニル系共重合体(1)
10部 (スルホン酸基含有、表面自
由エネルギー:A法B法とも35dyne/cm )
パルミチン酸ブチル
1部 ミリスチン酸
2部
アルミナ
4部 カーボンブラ
ック
1部 レシチン
3部 シクロ
ヘキサノン
50部 メチルエチルケトン
100部 トルエ
ン
100部
【0063】これらの組成物をボ
ールミルで充分に攪拌混合し、さらに多官能イソシアネ
ート(日本ポリウレタン工業社製のコロネートL)を5
部添加後、平均孔径1μmのフィルターで濾過した。
ールミルで充分に攪拌混合し、さらに多官能イソシアネ
ート(日本ポリウレタン工業社製のコロネートL)を5
部添加後、平均孔径1μmのフィルターで濾過した。
【0064】このようにして得た磁性塗料を厚さ14μ
mのポリエチレンテレフタレートベースの表面に乾燥厚
さが4μmとなるように塗布し、加熱乾燥した後スーパ
ーカレンダーロールで磁性層を表面処理し、所定の厚さ
の磁性層を有する幅広の磁性フィルムを得、これを1/
2 インチ幅にスリットしてビデオ用の磁気テープを作
製した。上記のようにして得られた磁気テープの走行性
及び耐久性について試験を行い、その結果を表5に示す
。
mのポリエチレンテレフタレートベースの表面に乾燥厚
さが4μmとなるように塗布し、加熱乾燥した後スーパ
ーカレンダーロールで磁性層を表面処理し、所定の厚さ
の磁性層を有する幅広の磁性フィルムを得、これを1/
2 インチ幅にスリットしてビデオ用の磁気テープを作
製した。上記のようにして得られた磁気テープの走行性
及び耐久性について試験を行い、その結果を表5に示す
。
【0065】〈測定方法〉(1).ルミSN、RF出力
、クロマ出力;HR−S7000(日本ビクター製)の
記録再生装置及びシバソクノイズメータ(9250)を
使用して測定した。出力単位……dB。 (2).ドロップアウト(D/O);HR−S7000
の記録再生装置を使用して、1分間における15μs、
−12dB以上の欠落の数をカウントした。 (3).角型比;振動試料型磁束計(東英工業製)を用
いて、Hmが5KOe でのBr/Bm 値を測定した
。 (4).400 パス走行耐久性;20℃、65%RH
下に400 回走行繰り返し後の磁気テープの状態を調
べた。表5中、*印は「削れあり」、※印は「エッジダ
メージあり」を示す。
、クロマ出力;HR−S7000(日本ビクター製)の
記録再生装置及びシバソクノイズメータ(9250)を
使用して測定した。出力単位……dB。 (2).ドロップアウト(D/O);HR−S7000
の記録再生装置を使用して、1分間における15μs、
−12dB以上の欠落の数をカウントした。 (3).角型比;振動試料型磁束計(東英工業製)を用
いて、Hmが5KOe でのBr/Bm 値を測定した
。 (4).400 パス走行耐久性;20℃、65%RH
下に400 回走行繰り返し後の磁気テープの状態を調
べた。表5中、*印は「削れあり」、※印は「エッジダ
メージあり」を示す。
【0066】実施例2〜12、比較例1〜15磁性粉及
びポリウレタン樹脂の種類、組合せを変えた以外は実施
例1と同様にしてビデオ用磁気テープを作成した(ただ
し、実施例2、3、5及び比較例6では塩化ビニル系共
重合体(1)に代えてリン酸基含有ポリメチルメタクリ
レート、比較例12〜14は塩化ビニル系共重合体(2
)(陰性官能基含有せず、表面自由エネルギーA法24
dyne/cm 、B法25dyne/cm )を使用
した)。これらの組合せ内容を表4に示し、また、得ら
れた各磁気テープの走行性及び耐久性を調べ、その結果
を表5に示した。
びポリウレタン樹脂の種類、組合せを変えた以外は実施
例1と同様にしてビデオ用磁気テープを作成した(ただ
し、実施例2、3、5及び比較例6では塩化ビニル系共
重合体(1)に代えてリン酸基含有ポリメチルメタクリ
レート、比較例12〜14は塩化ビニル系共重合体(2
)(陰性官能基含有せず、表面自由エネルギーA法24
dyne/cm 、B法25dyne/cm )を使用
した)。これらの組合せ内容を表4に示し、また、得ら
れた各磁気テープの走行性及び耐久性を調べ、その結果
を表5に示した。
【0067】
*バインダ樹脂添加量は、磁性粉 100部当たりの部
を示す。
を示す。
【0068】
【0069】
【0070】
【0071】以上の結果から明白なように、本発明に基
づく磁気記録媒体は、出力及び角型比が高く、ドロップ
アウトも殆どなく、かつ、走行耐久性が優秀である。
づく磁気記録媒体は、出力及び角型比が高く、ドロップ
アウトも殆どなく、かつ、走行耐久性が優秀である。
【図1】A法(Zismanプロット)の一例である。
【図2】B法(γL /γL ・COS θプロット)
の一例である。
の一例である。
【図3】磁気テープの断面図の一例である。
1 非磁性支持体
2 磁性層
3 バックコート層
Claims (3)
- 【請求項1】 表面自由エネルギーが23〜45dy
ne/cm の磁性粉と、陰性官能基を有しかつ、表面
自由エネルギーが25〜45dyne/cm の樹脂と
を含有する磁性層が非磁性支持体上に設けられてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 磁性粉の表面自由エネルギーが、ジス
マン(Zisman)プロットから求めた値、23〜4
0dyne/cm であり、陰性官能基を有する樹脂の
表面自由エネルギーが、同様にして求めた値、25〜4
5dyne/cm である請求項1に記載の磁気記録媒
体。 - 【請求項3】 磁性粉の表面自由エネルギーが、γL
/γL ・COS θ(γL :液体の表面張力、C
OS θ:液体に対する対象物の接触角)plotから
求めた値、30〜45dyne/cm であり、陰性官
能基を有する樹脂の表面自由エネルギーが、同様にして
求めた値、30〜45dyne/cm である請求項1
に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4576091A JPH04263114A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4576091A JPH04263114A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04263114A true JPH04263114A (ja) | 1992-09-18 |
Family
ID=12728255
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4576091A Pending JPH04263114A (ja) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04263114A (ja) |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP4576091A patent/JPH04263114A/ja active Pending
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