JPH04263138A

JPH04263138A - 光ディスクの高速複製方法

Info

Publication number: JPH04263138A
Application number: JP2309991A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Miyamura; 宮村　芳徳; Shinkichi Horigome; 堀籠　信吉; Motoyasu Terao; 元康寺尾
Original assignee: Hitachi Ltd; Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Maxell Ltd
Priority date: 1991-02-18
Filing date: 1991-02-18
Publication date: 1992-09-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はＣＤ，ＣＤ−Ｉ，ＤＶＩ
，ＬＤ，ＣＤ−ＲＯＭ、においてＷ／Ｏ，可逆記録膜を
有するものなどの光ディスク装置に使用する光ディスク
円板の複製手段に関しており、特にスピーディーに大量
に安価な製品を製造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の光ディスク複製方法はニッケル製
スタンパを使い、その上に紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹
脂）を滴下し、光ディスクの基板となる透明なガラスま
たはプラスチック板を重ね、紫外線光を照射して、この
樹脂を硬化した後、基板とスタンパとを分離（剥離）す
ると表面に凹凸パターンを持つ基板が完成する。この手
法はいわゆる２Ｐ法と呼ばれている手法であり、簡単な
装置構成で光ディスクを複製できる特長を有している。

【０００３】また、他の方法としてはインジェクション
と呼ばれている手法がある。これはニッケル製スタンパ
のパターン面が内側になるように円形の型枠の一方にセ
ットし、高温に熱され流動化したプラスチックをその型
枠の中に流し込み、冷却して硬化した基板を取り出すと
光ディスク基板が得られる。現在レコードに替わって広
く一般に普及しているコンパクトディスクは、ポリカー
ボネート材料を使いこの方法で製作されている。こうし
て出来上がった光ディスク基板の上にＣＤ，ＬＤなどの
再生だけの場合はアルミの反射膜を、光磁気ディスクで
は磁性膜を、相変化ディスクではそれにあった膜をそれ
ぞれ蒸着またはスパッタリングなどの方法で形成して、
１枚の光ディスクとして完成させていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は高速で
大量の光ディスクを複製する点について配慮がされてお
らず、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスクを数１００万枚と
いう大量に作製する場合、膨大な時間がかかり問題であ
った。これを実際に従来技術で実現しようとすると、最
高速度で複製したとしても１枚１５秒程度必要であり、
１００万枚を供給しようとすると約１０日間必要となり
、１週間単位の光ディスク供給を考慮すると、従来技術
では不可能といわれていた。このことは、高密度大容量
記録媒体という光ディスクの特徴を生かした新しい応用
分野である出版市場に進出する場合問題であった。

【０００５】本発明の目的は１０時間以内で数１００万
枚という大量の光ディスク複製を製造する方法を提供す
ることにある。光ディスク上の反射膜あるいは記録膜形
成をトラッキング用案内溝及びアドレス等を表わすピッ
トやセクタ・マークあるいはこれらのうち一方をパター
ン作製とほぼ同時に実行することで、円板作製の時間効
率向上を図ることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、光ディスク基板材料及び反射膜または記録膜をあら
かじめロール状に作製しておき、その後トラッキング用
案内溝及びアドレス等を表わすピットやセクタ・マーク
あるいはこれらのうち一方のパターン形成と円板形状に
基板を成形する工程とを、連続的に実行するようにした
。

【０００７】

【作用】光ディスク作製工程において、反射膜または記
録膜形成は真空中での作業を主としており時間のかかる
工程であった。そこで案内溝などのパターン形成と連続
して、あらかじめ準備した記録膜を張り合わせることで
、光ディスク完成までの時間を短縮できる。さらに、ト
ラッキングパターンの形成を連続的に実行することで１
秒当たり数枚から数１０枚とレプリカ作製を高速にでき
る。

【０００８】

【実施例】以下、本発明の実施例を図１により説明する
。

【０００９】複製工程を始める前に、光ディスクのベー
スとなる基板ロール１及び記録膜ロール２をあらかじめ
作製しておく。基板ロール１の材質はＰＥＴ（ポリエチ
レンテレフタレート），ＰＣ（ポリカーボネート）など
の透明プラスチックを使用した。記録膜はカルコゲナイ
ドを主体とした相変化記録膜、あるいはテルビウム−鉄
−コバルトに代表される光磁気記録膜または色素応用記
録膜など何でもよく、ここでは一例として相変化記録膜
を使用した。または、アルミ，アルミ合金などの反射膜
を記録膜の代わりに使用しても良い。ここでは、一般的
な相変化記録膜をロール状のベース７（図２）の上にあ
らかじめ形成した。ベース材質はＰＥＴなどのプラスチ
ックあるいは金属箔などが使用できる。

【００１０】それには長尺状のベース７の上に反射膜あ
るいは記録膜，保護膜などの情報記録膜構成材料８を積
層して作る。これは例えば音楽テープ，画像テープ作製
と同様に連続的にでき、しかもオフラインであらかじめ
作製できる。基板ロール１から引き出された基板用シー
ト表面に凹凸パターンを持つスタンパを有するローラ４
により加熱圧着することで、表面にパターンを持つ光デ
ィスク基板を形成する。この時の加熱温度は基板材質の
軟化点温度程度に上昇させる必要がある。また前段の押
さえローラで予備加熱しておくことが可能である。

【００１１】その後、記録膜ロールから引き出された記
録膜８とベース７を、押さえローラ３で先のパターン付
きシート状基板に接着剤（図示省略）で接着する。こう
して記録膜を有する凹凸パターン付き光ディスクのシー
トが完成する。その後、光ディスクを円板形状に切りだ
すと光ディスクの製品ができあがるが、必要に応じ、光
ディスク用保護膜を形成しておくことも可能である。

【００１２】円板に切り出す時、中心穴とパターン中心
とを極力一致させる必要がある。その手法の一例を以下
に述べる。ほぼ同心円の案内溝パターン全面に光を照射
し、その回折光が円の中心に集まるという性質を利用し
てパターン中心を求め、これをもとに円形加工を行なう
ことで目的を達成することができる。その間１秒以下で
できた。こうして完成した光ディスクの断面構造を図３
に示す。

【００１３】パターンを有する基板１の上に接着剤９で
記録膜８が接着されている。ここで、パターンから信号
を得るには、接着剤９に使われている材料の屈折率と基
板１のそれとを異なるようにする必要がある。またパタ
ーンからトラッキング信号を取り出すためには、接着剤
層の厚さはできるだけ薄い方がよく、望ましくは５μｍ
以下が良い。

【００１４】以上説明した実施例以外の方法でのパター
ン形成方法として紫外線硬化樹脂１０を用いて行なうこ
ともできる。その場合、基板１とスタンパの間に樹脂１
０を流し込み、樹脂にスタンパを押し当てながら露光し
て樹脂を硬化させ、基板１の上に２Ｐ法で凹凸パターン
を形成するものである。この時のスタンパは透明である
ことが望ましく、ニッケル製とは異なるプラスチック製
などの透明なスタンパを使用し、ローラ越しに紫外線光
を照射し、樹脂１０を硬化する。その上に先に説明した
記録膜を形成しても良い。または基板１を通して露光し
、樹脂１０を硬化しても良い。図４はこうして製造した
光ディスクの断面を示す。

【００１５】また、他の実施例を図５により説明する。

【００１６】この場合も先の実施例と同様に基板ロール
１及び記録膜ロール２をあらかじめ作製しておくことは
第１の実施例と同様である。パターン形成を行なう際、
加熱したスタンパを平坦に保っているパターン成形機５
−１を、基板１に押しつけることでその表面にパターン
を転写した。その後、記録膜ロール２から引き出された
記録膜８とベース７を、押さえローラ３で先のパターン
付きシート状基板に接着剤９（本図では省略）で接着す
る。こうして記録膜を有する凹凸パターン付き光ディス
クのシートが完成する。その後、光ディスクを円板形状
に切りだすと光ディスクの最終製品ができあがる。

【００１７】以上述べた実施例では光ディスクの上には
記録膜を配置したが、アルミニウムなどの反射膜を使用
しても良い。また作製した基板にさらに、１ｍｍ以上の
厚板を接着して機械的強度を補い、高速回転に耐える光
ディスクとすることも、可能である。

【００１８】本発明によれば光ディスクに必要な案内溝
形成と、記録膜形成とがほぼ同時に実行できることから
、素早く、大量にしかも安価に光ディスクを供給する上
で効果がある。

【００１９】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、従来と比較して高速・大量に光ディスクの
複製ができるという効果がある。その結果安価な光ディ
スクを供給することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の高速光ディスク複製工程を示す断面図
である。

【図２】第１の実施例で使用した記録膜構造を示す断面
図である。

【図３】第１の実施例で作製した光ディスクの断面図で
ある。

【図４】紫外線硬化樹脂でパターンニングした光ディス
クの断面図である。

【図５】本発明の第２の実施例の高速光ディスク複製工
程を示す断面図である。

【符号の説明】

１…基板ロール、２…記録膜ロール、３…押さえローラ
、４…スタンパ付きローラ、５…打ち抜き機、５−１…
パターン成形機、６…完成した光ディスク円板、７…ベ
ース、８…情報記録膜構成材料または反射膜、９…接着
剤、１０…紫外線硬化樹脂。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シート状光ディスク用基板表面に光ヘッド
案内溝及びアドレス等を表わすピットやセクタ・マーク
あるいはこれらのうち一方を形成する工程と、シート上
に被着した反射膜あるいは記録膜とを張り合わせる工程
と、張り合わされ一体となり、パターンを転写した基板
を円板に打ち抜く工程とを連続的に行なうことを特徴と
する光ディスクの高速複製方法。
【請求項２】特許請求項１記載の光ディスクの高速複製
方法において、あらかじめ準備された光ディスク用基板
及び反射膜あるいは記録膜を付けたシートがロール状に
形成されていることを特徴とする光ディスクの高速複製
方法。
【請求項３】特許請求項１記載の光ディスクの高速複製
方法において、パターンを転写する母型としてローラー
の周囲に、表面が凹凸パターンになっているスタンパを
巻き付けたことを特徴とする光ディスクの高速複製方法
。
【請求項４】特許請求項１記載の光ディスクの高速複製
方法において、記録膜として相変化記録膜，光磁気記録
膜，色素利用記録膜を用いたことを特徴とする光ディス
クの高速複製方法。
【請求項５】特許請求項１記載の光ディスクの高速複製
方法において、反射膜として金，アルミ，アルミ合金を
用いたことを特徴とする光ディスクの高速複製方法。
【請求項６】特許請求項３記載の光ディスクの高速複製
方法において、スタンパとしてフォトレジスト付き原盤
から、ニッケルメッキにより作製されたスタンパを用い
たことを特徴とする光ディスクの高速複製方法。
【請求項７】特許請求項１記載の光ディスクの高速複製
方法において、シート状光ディスク用基板表面に光ヘッ
ド案内溝及びアドレス等を表わすピットやセクタ・マー
クあるいはこれらのうち一方を形成する工程として平坦
に支持されたスタンパを用いてパターンを転写すること
を特徴とする光ディスクの高速複製方法。
【請求項８】特許請求項７記載の光ディスクの高速複製
方法において、光ディスク用基板及び記録膜がロール状
に形成されていることを特徴とする光ディスクの高速複
製方法。
【請求項９】特許請求項７記載の光ディスクの高速複製
方法において、記録膜として相変化記録膜，光磁気記録
膜，色素利用記録膜を用いたことを特徴とする光ディス
クの高速複製方法。
【請求項１０】特許請求項７記載の光ディスクの高速複
製方法において、反射膜としてアルミ，アルミ合金を用
いたことを特徴とする光ディスクの高速複製方法。