JPH04264399A - Ｓｏｒ光取出部のシールド壁構造 - Google Patents
Ｓｏｒ光取出部のシールド壁構造Info
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- JPH04264399A JPH04264399A JP4562891A JP4562891A JPH04264399A JP H04264399 A JPH04264399 A JP H04264399A JP 4562891 A JP4562891 A JP 4562891A JP 4562891 A JP4562891 A JP 4562891A JP H04264399 A JPH04264399 A JP H04264399A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ＳＯＲ光（シンクロ
トロン放射光）装置からＳＯＲ光を取出すビームチャン
ネルの放射線シールド用のシールド壁構造に関し、建物
に合わせること無く、ビームチャンネルに合わせてシー
ルド壁を配置し、同一長さのビームチャンネルを複数使
用してシールド壁の外側で同一条件のＸ線リソグラフィ
等を可能とするものである。
トロン放射光）装置からＳＯＲ光を取出すビームチャン
ネルの放射線シールド用のシールド壁構造に関し、建物
に合わせること無く、ビームチャンネルに合わせてシー
ルド壁を配置し、同一長さのビームチャンネルを複数使
用してシールド壁の外側で同一条件のＸ線リソグラフィ
等を可能とするものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、直径が１０ｍ以下の比較的小型の
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
シンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）を利用してＸ線リソ
グラフィによって超々ＬＳＩ回路等の作成を行う技術が
開発されつつある。
粒子加速器としてシンクロトロンが開発されつつあり、
シンクロトロン放射光（ＳＯＲ光）を利用してＸ線リソ
グラフィによって超々ＬＳＩ回路等の作成を行う技術が
開発されつつある。
【０００３】このＳＯＲ光装置の概要は、例えば図７に
示すように、電子発生装置（電子銃等）１０で発生した
電子ビームが直線加速器（ライナック）１２で光速近く
に加速され、ビーム輸送部１４の偏向電磁石１６で偏向
されて、インフレクタ１８を介してシンクロトロン２０
の蓄積リング２２内に入射される。蓄積リング２２に入
射された電子ビームは高周波加速空洞２１でエネルギを
与えられながら収束電磁石２３で収束され、偏向電磁石
２４で偏向されて真空ダクトで構成された蓄積リング２
２内を周回し続ける。そして、蓄積リング２２の偏向電
磁石２４で偏向される時に発生するＳＯＲ光２９は光取
り出しラインを構成するビームチャンネル２６を通して
取出される。
示すように、電子発生装置（電子銃等）１０で発生した
電子ビームが直線加速器（ライナック）１２で光速近く
に加速され、ビーム輸送部１４の偏向電磁石１６で偏向
されて、インフレクタ１８を介してシンクロトロン２０
の蓄積リング２２内に入射される。蓄積リング２２に入
射された電子ビームは高周波加速空洞２１でエネルギを
与えられながら収束電磁石２３で収束され、偏向電磁石
２４で偏向されて真空ダクトで構成された蓄積リング２
２内を周回し続ける。そして、蓄積リング２２の偏向電
磁石２４で偏向される時に発生するＳＯＲ光２９は光取
り出しラインを構成するビームチャンネル２６を通して
取出される。
【０００４】こうして取出されたＳＯＲ光２９は、例え
ばＸ線リソグラフィ用の露光装置２８に送られて超々Ｌ
ＳＩ回路作成用の光源等として利用される。
ばＸ線リソグラフィ用の露光装置２８に送られて超々Ｌ
ＳＩ回路作成用の光源等として利用される。
【０００５】このようなＸ線リソグラフィを行う場合、
図８に示すように、ＳＯＲ光２９の取出しにともなう電
子の衝突によって放射線が発生するため、ＳＯＲ光装置
１では、これを遮蔽するため厚さ１〜２ｍ程度のコンク
リート製のシールド壁２をＳＯＲ光装置１の周囲に設置
する必要がある。従来、この放射線シールドのためのシ
ールド壁２は、ＳＯＲ光装置１が設置される矩形の建物
３の形状に合わせて平断面形状を矩形として建物３内部
に設置しており、このシールド壁２を貫通させてビーム
チャンネル２６を設置し、その先の建物３内に露光装置
２８を配置してＳＯＲ光２９によるＸ線リソグラフィを
行うようにしている。このようにしてＳＯＲ光２９によ
るＸ線リソグラフィを行う場合には、蓄積リング２２に
多数のビームチャンネル２６を設けて同時に多数の露光
ができるようにし、超々ＬＳＩを量産できるようにする
必要がある。
図８に示すように、ＳＯＲ光２９の取出しにともなう電
子の衝突によって放射線が発生するため、ＳＯＲ光装置
１では、これを遮蔽するため厚さ１〜２ｍ程度のコンク
リート製のシールド壁２をＳＯＲ光装置１の周囲に設置
する必要がある。従来、この放射線シールドのためのシ
ールド壁２は、ＳＯＲ光装置１が設置される矩形の建物
３の形状に合わせて平断面形状を矩形として建物３内部
に設置しており、このシールド壁２を貫通させてビーム
チャンネル２６を設置し、その先の建物３内に露光装置
２８を配置してＳＯＲ光２９によるＸ線リソグラフィを
行うようにしている。このようにしてＳＯＲ光２９によ
るＸ線リソグラフィを行う場合には、蓄積リング２２に
多数のビームチャンネル２６を設けて同時に多数の露光
ができるようにし、超々ＬＳＩを量産できるようにする
必要がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、多数のビーム
チャンネル２６をシールド壁２を貫通して設けるように
すると、蓄積リング２２の偏向電磁石２４からシールド
壁２までの距離が異なるため、それぞれのビームチャン
ネル２６の長さＬ１ 〜ＬＮ も異なり、取出されるＳ
ＯＲ光２９の強度も変化するため、露光時間などを各露
光装置２８で変えるようにしなければならないという問
題がある。一方、図８の場合のシールド壁２を建物３の
外壁に接近させるようにして多数のビームチャンネル２
６および露光装置２８をシールド壁２の内部に設けるよ
うにすると、多数のビームチャンネル２６の長さＬ１
〜ＬＮ を一定にすることは出来ても、ビーム入射中に
は放射線が発生するためシールド壁２内に作業者が入る
ことが出来ず、Ｘ線リソグラフィなどの作業上不都合と
なるという問題がある。
チャンネル２６をシールド壁２を貫通して設けるように
すると、蓄積リング２２の偏向電磁石２４からシールド
壁２までの距離が異なるため、それぞれのビームチャン
ネル２６の長さＬ１ 〜ＬＮ も異なり、取出されるＳ
ＯＲ光２９の強度も変化するため、露光時間などを各露
光装置２８で変えるようにしなければならないという問
題がある。一方、図８の場合のシールド壁２を建物３の
外壁に接近させるようにして多数のビームチャンネル２
６および露光装置２８をシールド壁２の内部に設けるよ
うにすると、多数のビームチャンネル２６の長さＬ１
〜ＬＮ を一定にすることは出来ても、ビーム入射中に
は放射線が発生するためシールド壁２内に作業者が入る
ことが出来ず、Ｘ線リソグラフィなどの作業上不都合と
なるという問題がある。
【０００７】このようなビームチャンネル２６とシール
ド壁２の問題は、図７及び図８に示した４角形の蓄積リ
ング２２だけでなく、他の形状の蓄積リング、例えばレ
ーストラック型リング（図３参照）、３角形リング（図
４参照）、円形リング（図５参照）等いずれの場合にも
同様である。
ド壁２の問題は、図７及び図８に示した４角形の蓄積リ
ング２２だけでなく、他の形状の蓄積リング、例えばレ
ーストラック型リング（図３参照）、３角形リング（図
４参照）、円形リング（図５参照）等いずれの場合にも
同様である。
【０００８】この発明は、前記従来の技術における欠点
を解決して、シールド壁の外側で同一条件で露光ができ
る同一長さのビームチャンネルを複数使用することがで
きるＳＯＲ光取出部のシールド壁構造を提供しようとす
るものである。
を解決して、シールド壁の外側で同一条件で露光ができ
る同一長さのビームチャンネルを複数使用することがで
きるＳＯＲ光取出部のシールド壁構造を提供しようとす
るものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明のＳＯＲ光取出
部のシールド壁構造は、蓄積リングの偏向磁石の接線方
向に同一長さのＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを複
数設け、これらビームチャンネルを貫通させてその途中
に放射線シールド用のシールド壁を連続して形成したこ
とを特徴とするものである。また、この発明のＳＯＲ光
取出部のシールド壁構造は、前記シールド壁を前記偏向
磁石の曲率中心を中心とする同心円上に配置するととも
に、このシールド壁貫通部に衝撃波遅延管を配置したこ
とを特徴とするものである。
部のシールド壁構造は、蓄積リングの偏向磁石の接線方
向に同一長さのＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを複
数設け、これらビームチャンネルを貫通させてその途中
に放射線シールド用のシールド壁を連続して形成したこ
とを特徴とするものである。また、この発明のＳＯＲ光
取出部のシールド壁構造は、前記シールド壁を前記偏向
磁石の曲率中心を中心とする同心円上に配置するととも
に、このシールド壁貫通部に衝撃波遅延管を配置したこ
とを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造に
よれば、蓄積リングの偏向磁石の接線方向に複数設ける
ＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを同一長さにして、
これらビームチャンネルの途中に放射線シールド用のシ
ールド壁を貫通させて連続して形成するようにしており
、建物の形状に合せること無く、ビームチャンネルの長
さに合わせてシールド壁を設置するようにし、シールド
壁の外側で全てのビームチャンネルで同じ条件で露光な
どが出来るようにしている。また、シールド壁を偏向磁
石の曲率中心を中心とする同心円上に配置し、しかもシ
ールド壁の貫通部に衝撃波遅延管を配置するようにすれ
ば、シールド壁外側での同一条件での露光に加え、ビー
ムチャンネルのメンテナンスに支障をきたすこと無く、
スペースを有効に利用できるシールド壁とすることがで
きる。
よれば、蓄積リングの偏向磁石の接線方向に複数設ける
ＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを同一長さにして、
これらビームチャンネルの途中に放射線シールド用のシ
ールド壁を貫通させて連続して形成するようにしており
、建物の形状に合せること無く、ビームチャンネルの長
さに合わせてシールド壁を設置するようにし、シールド
壁の外側で全てのビームチャンネルで同じ条件で露光な
どが出来るようにしている。また、シールド壁を偏向磁
石の曲率中心を中心とする同心円上に配置し、しかもシ
ールド壁の貫通部に衝撃波遅延管を配置するようにすれ
ば、シールド壁外側での同一条件での露光に加え、ビー
ムチャンネルのメンテナンスに支障をきたすこと無く、
スペースを有効に利用できるシールド壁とすることがで
きる。
【００１１】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図面に基づき詳
細に説明する。図１および図２はこの発明のＳＯＲ光取
出部のシールド壁構造の一実施例にかかる平断面図及び
一部分の拡大断面図である。このＳＯＲ光取出部のシー
ルド壁構造３０では、ＳＯＲ光装置１の４角形の蓄積リ
ング２２の４箇所の偏向電磁石２４に、その接線方向に
複数のビームチャンネル３１が設置されており、全ての
ビームチャンネル３１が同一長さ、同一仕様とされ、各
ビームチャンネル３１で同一条件のＳＯＲ光を取出すこ
とができるようになっている。
細に説明する。図１および図２はこの発明のＳＯＲ光取
出部のシールド壁構造の一実施例にかかる平断面図及び
一部分の拡大断面図である。このＳＯＲ光取出部のシー
ルド壁構造３０では、ＳＯＲ光装置１の４角形の蓄積リ
ング２２の４箇所の偏向電磁石２４に、その接線方向に
複数のビームチャンネル３１が設置されており、全ての
ビームチャンネル３１が同一長さ、同一仕様とされ、各
ビームチャンネル３１で同一条件のＳＯＲ光を取出すこ
とができるようになっている。
【００１２】このような複数のビームチャンネル３１が
設けられたＳＯＲ光装置１の放射線をシールドし、シー
ルドされた状態でＸ線リソグラフィなどを行なうための
シールド壁３２は、ビームチャンネル３１の途中に設置
されて、このシールド壁３２をビームチャンネル３１が
貫通するように配置される。このシールド壁３２は、例
えば１〜２ｍ程度の厚さのコンクリートなどで作られた
ものが用いられ、放射線のシールドのためには、ビーム
チャンネル３１の途中の任意の位置に設置するようにす
れば良い。
設けられたＳＯＲ光装置１の放射線をシールドし、シー
ルドされた状態でＸ線リソグラフィなどを行なうための
シールド壁３２は、ビームチャンネル３１の途中に設置
されて、このシールド壁３２をビームチャンネル３１が
貫通するように配置される。このシールド壁３２は、例
えば１〜２ｍ程度の厚さのコンクリートなどで作られた
ものが用いられ、放射線のシールドのためには、ビーム
チャンネル３１の途中の任意の位置に設置するようにす
れば良い。
【００１３】しかし、シールド壁３２を貫通して設置さ
れるビームチャンネル３１には、図示省略したが、通常
、内部の高真空状態が破壊された場合の影響を極力減ら
すための真空遮断部としてビームシャッター、封止バル
ブ、速断バルブや衝撃波遅延管等が設けられるとともに
、Ｘ線リソグラフィにおける露光面積を拡大するためＳ
ＯＲ光を垂直方向に拡大する露光面積拡大機構として斜
入射ミラー及びミラー揺動機構等が設けられる。このた
めビームチャンネル３１の途中に設置されるシールド壁
３２の位置によっては、これら真空遮断部や露光面積拡
大機構などのメンテナンスに支障をきたすことになった
り、シールド壁３２が蓄積リング２２に接近して設置さ
れると、蓄積リング２２自体のメンテナンスに支障をき
たすことになる。
れるビームチャンネル３１には、図示省略したが、通常
、内部の高真空状態が破壊された場合の影響を極力減ら
すための真空遮断部としてビームシャッター、封止バル
ブ、速断バルブや衝撃波遅延管等が設けられるとともに
、Ｘ線リソグラフィにおける露光面積を拡大するためＳ
ＯＲ光を垂直方向に拡大する露光面積拡大機構として斜
入射ミラー及びミラー揺動機構等が設けられる。このた
めビームチャンネル３１の途中に設置されるシールド壁
３２の位置によっては、これら真空遮断部や露光面積拡
大機構などのメンテナンスに支障をきたすことになった
り、シールド壁３２が蓄積リング２２に接近して設置さ
れると、蓄積リング２２自体のメンテナンスに支障をき
たすことになる。
【００１４】そこで、このシールド壁３２を、図１に示
すように、ビームチャンネル３１が貫通する部分につい
ては、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中心とする同心円
の一部となる円弧状シールド壁３２ａとし、４つの円弧
状シールド壁３２ａの内側にメンテナンスに必要な空間
を確保した状態で配置するとともに、蓄積リング２２の
直線部分をシールドする部分については、蓄積リング２
２のメンテナンスなどの作業に支障がないような位置に
４つの直線状シールド壁３２ｂを配置して構成する。こ
のような４つの円弧状シールド壁３２ａによってビーム
チャンネル３１は、その同一位置がシールド壁３２を貫
通するようになるので、図２に拡大して示すように、ビ
ームチャンネル３１の途中に設けられる真空遮断部及び
露光面積拡大機構などの中で可動部分がなく、メンテナ
ンスの必要がほとんど無い真空遮断部の衝撃波遅延管３
３を４つの円弧状シールド壁３２ａ内に配置してビーム
チャンネル３１を貫通させるようにする。
すように、ビームチャンネル３１が貫通する部分につい
ては、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中心とする同心円
の一部となる円弧状シールド壁３２ａとし、４つの円弧
状シールド壁３２ａの内側にメンテナンスに必要な空間
を確保した状態で配置するとともに、蓄積リング２２の
直線部分をシールドする部分については、蓄積リング２
２のメンテナンスなどの作業に支障がないような位置に
４つの直線状シールド壁３２ｂを配置して構成する。こ
のような４つの円弧状シールド壁３２ａによってビーム
チャンネル３１は、その同一位置がシールド壁３２を貫
通するようになるので、図２に拡大して示すように、ビ
ームチャンネル３１の途中に設けられる真空遮断部及び
露光面積拡大機構などの中で可動部分がなく、メンテナ
ンスの必要がほとんど無い真空遮断部の衝撃波遅延管３
３を４つの円弧状シールド壁３２ａ内に配置してビーム
チャンネル３１を貫通させるようにする。
【００１５】このような４つの円弧状シールド壁３２ａ
と４つの直線状シールド壁３２ｂを組合わせたシールド
壁３２とすることで、全てのビームチャンネル３１を同
一長さ、同一仕様にできるとともに、衝撃波遅延管３３
をシールド壁３２内に位置させることで、メンテナンス
に必要な作業空間を確保でき、無用なスペースを無くす
ことができる。したがって、放射線をシールドしたシー
ルド壁３２の外側で、Ｘ線リソグラフィにおける各ビー
ムチャンネル３１から取出されるＳＯＲ光を同一条件に
でき、超々ＬＳＩ回路の量産が簡単にできる。
と４つの直線状シールド壁３２ｂを組合わせたシールド
壁３２とすることで、全てのビームチャンネル３１を同
一長さ、同一仕様にできるとともに、衝撃波遅延管３３
をシールド壁３２内に位置させることで、メンテナンス
に必要な作業空間を確保でき、無用なスペースを無くす
ことができる。したがって、放射線をシールドしたシー
ルド壁３２の外側で、Ｘ線リソグラフィにおける各ビー
ムチャンネル３１から取出されるＳＯＲ光を同一条件に
でき、超々ＬＳＩ回路の量産が簡単にできる。
【００１６】次に、図３により蓄積リング２２がレース
トラック型の場合のシールド壁３２について説明する。 この場合にも、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中心とす
る２つの円弧状シールド壁３２ａと２つの直線状シール
ド壁３２ｂを組合わせてシールド壁３２を形成するよう
にすれば、全てのビームチャンネル３１を同一長さ、同
一仕様にでき、シールド壁３２の外側でＳＯＲ光を同一
条件にして超々ＬＳＩ回路の量産が簡単にできるととも
に、衝撃波遅延管３３をシールド壁３２内に位置させる
ことで、メンテナンスに必要な作業空間を確保でき、無
用なスペースを無くすことができる。
トラック型の場合のシールド壁３２について説明する。 この場合にも、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中心とす
る２つの円弧状シールド壁３２ａと２つの直線状シール
ド壁３２ｂを組合わせてシールド壁３２を形成するよう
にすれば、全てのビームチャンネル３１を同一長さ、同
一仕様にでき、シールド壁３２の外側でＳＯＲ光を同一
条件にして超々ＬＳＩ回路の量産が簡単にできるととも
に、衝撃波遅延管３３をシールド壁３２内に位置させる
ことで、メンテナンスに必要な作業空間を確保でき、無
用なスペースを無くすことができる。
【００１７】また、図４に示す３角形の蓄積リング２２
の場合にも、同様に、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中
心とする３つの円弧状シールド壁３２ａと３つの直線状
シールド壁３２ｂを組合わせてシールド壁３２を形成す
るようにすれば、全てのビームチャンネル３１を同一長
さ、同一仕様にでき、シールド壁３２の外側でＳＯＲ光
を同一条件にして超々ＬＳＩ回路の量産が簡単にできる
とともに、衝撃波遅延管３３をシールド壁３２内に位置
させることで、メンテナンスに必要な作業空間を確保で
き、無用なスペースを無くすことができる。
の場合にも、同様に、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中
心とする３つの円弧状シールド壁３２ａと３つの直線状
シールド壁３２ｂを組合わせてシールド壁３２を形成す
るようにすれば、全てのビームチャンネル３１を同一長
さ、同一仕様にでき、シールド壁３２の外側でＳＯＲ光
を同一条件にして超々ＬＳＩ回路の量産が簡単にできる
とともに、衝撃波遅延管３３をシールド壁３２内に位置
させることで、メンテナンスに必要な作業空間を確保で
き、無用なスペースを無くすことができる。
【００１８】さらに、図５に示す円形の蓄積リング２２
の場合にも、同様に、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中
心とする円弧状シールド壁３２ａだけでシールド壁３２
を形成するようにすれば、全てのビームチャンネル３１
を同一長さ、同一仕様にでき、シールド壁３２の外側で
ＳＯＲ光を同一条件にして超々ＬＳＩ回路の量産が簡単
にできるとともに、衝撃波遅延管３３をシールド壁３２
内に位置させることで、メンテナンスに必要な作業空間
を確保でき、無用なスペースを無くすことができる。
の場合にも、同様に、偏向電磁石２４の曲率中心Ｏを中
心とする円弧状シールド壁３２ａだけでシールド壁３２
を形成するようにすれば、全てのビームチャンネル３１
を同一長さ、同一仕様にでき、シールド壁３２の外側で
ＳＯＲ光を同一条件にして超々ＬＳＩ回路の量産が簡単
にできるとともに、衝撃波遅延管３３をシールド壁３２
内に位置させることで、メンテナンスに必要な作業空間
を確保でき、無用なスペースを無くすことができる。
【００１９】以上の図１及び図３〜図５で説明したシー
ルド壁構造３０では、ビームチャンネル３１が貫通する
部分のシールド壁３２を円弧状シールド壁３２ａで構成
するようにしたが、必ずしも円弧状にする必要はなく、
図６に４角形の蓄積リング２２の場合を示すように、ビ
ームチャンネル３１の途中、好ましくはほぼ同一部分、
さらに好ましくは衝撃波遅延管３３部分に多角形状のシ
ールド壁３２ｃを形成するようにしても良く、この多角
形状シールド壁３２ｃを直線状シールド壁３２ｂと組合
わせた場合にも上記の場合と同様の効果を奏することが
できる。
ルド壁構造３０では、ビームチャンネル３１が貫通する
部分のシールド壁３２を円弧状シールド壁３２ａで構成
するようにしたが、必ずしも円弧状にする必要はなく、
図６に４角形の蓄積リング２２の場合を示すように、ビ
ームチャンネル３１の途中、好ましくはほぼ同一部分、
さらに好ましくは衝撃波遅延管３３部分に多角形状のシ
ールド壁３２ｃを形成するようにしても良く、この多角
形状シールド壁３２ｃを直線状シールド壁３２ｂと組合
わせた場合にも上記の場合と同様の効果を奏することが
できる。
【００２０】なお、このようなシールド壁３２の外側に
設置される建物の形状は、従来同様矩形であったり、他
の形状など任意の形状で良く、ＳＯＲ光装置１などＸ線
リソグラフィに必要な装置などが内部に設置できるもの
であれば良い。
設置される建物の形状は、従来同様矩形であったり、他
の形状など任意の形状で良く、ＳＯＲ光装置１などＸ線
リソグラフィに必要な装置などが内部に設置できるもの
であれば良い。
【００２１】
【発明の効果】以上、実施例とともに具体的に説明した
ように、この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造に
よれば、蓄積リングの偏向磁石の接線方向に複数設ける
ＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを同一長さにして、
これらビームチャンネルの途中に放射線シールド用のシ
ールド壁を貫通させて連続して形成するようにしたので
、建物の形状に合せること無く、ビームチャンネルの長
さに合わせてシールド壁を設置してその外側で作業する
ことができ、全てのビームチャンネルで同一条件のＳＯ
Ｒ光によって露光などを行うことができる。また、シー
ルド壁を偏向磁石の曲率中心を中心とする同心円上に配
置し、しかもシールド壁の貫通部に衝撃波遅延管を配置
するようにしたので、シールド壁の外側で作業ができる
とともに、同一条件の露光ができ、しかもビームチャン
ネルのメンテナンスに支障をきたすこと無く、スペース
を有効に利用できるシールド壁とすることができる。
ように、この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造に
よれば、蓄積リングの偏向磁石の接線方向に複数設ける
ＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを同一長さにして、
これらビームチャンネルの途中に放射線シールド用のシ
ールド壁を貫通させて連続して形成するようにしたので
、建物の形状に合せること無く、ビームチャンネルの長
さに合わせてシールド壁を設置してその外側で作業する
ことができ、全てのビームチャンネルで同一条件のＳＯ
Ｒ光によって露光などを行うことができる。また、シー
ルド壁を偏向磁石の曲率中心を中心とする同心円上に配
置し、しかもシールド壁の貫通部に衝撃波遅延管を配置
するようにしたので、シールド壁の外側で作業ができる
とともに、同一条件の露光ができ、しかもビームチャン
ネルのメンテナンスに支障をきたすこと無く、スペース
を有効に利用できるシールド壁とすることができる。
【図１】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の
一実施例にかかる平断面図である。
一実施例にかかる平断面図である。
【図２】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の
一実施例にかかる一部分の拡大断面図である。
一実施例にかかる一部分の拡大断面図である。
【図３】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の
他の一実施例にかかる平断面図である。
他の一実施例にかかる平断面図である。
【図４】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の
他の一実施例にかかる平断面図である。
他の一実施例にかかる平断面図である。
【図５】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の
他の一実施例にかかる平断面図である。
他の一実施例にかかる平断面図である。
【図６】この発明のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の
他の一実施例にかかる平断面図である。
他の一実施例にかかる平断面図である。
【図７】ＳＯＲ光装置の概略構成図である。
【図８】従来のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造の平断
面図である。
面図である。
２２ 蓄積リング
２４ 偏向電磁石
３０ ＳＯＲ光取出部のシールド壁構造３１ ビー
ムチャンネル ３２ シールド壁 ３２ａ 円弧状シールド壁 ３２ｂ 直線状シールド壁 ３３ 衝撃波遅延管 Ｏ 偏向電磁石の曲率中心
ムチャンネル ３２ シールド壁 ３２ａ 円弧状シールド壁 ３２ｂ 直線状シールド壁 ３３ 衝撃波遅延管 Ｏ 偏向電磁石の曲率中心
Claims (2)
- 【請求項１】 蓄積リングの偏向磁石の接線方向に同
一長さのＳＯＲ光取出用のビームチャンネルを複数設け
、これらビームチャンネルを貫通させてその途中に放射
線シールド用のシールド壁を連続して形成したことを特
徴とするＳＯＲ光取出部のシールド壁構造。 - 【請求項２】 前記シールド壁を前記偏向磁石の曲率
中心を中心とする同心円上に配置するとともに、このシ
ールド壁貫通部に衝撃波遅延管を配置したことを特徴と
する請求項１記載のＳＯＲ光取出部のシールド壁構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4562891A JPH04264399A (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | Ｓｏｒ光取出部のシールド壁構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4562891A JPH04264399A (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | Ｓｏｒ光取出部のシールド壁構造 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04264399A true JPH04264399A (ja) | 1992-09-21 |
Family
ID=12724638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4562891A Pending JPH04264399A (ja) | 1991-02-20 | 1991-02-20 | Ｓｏｒ光取出部のシールド壁構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04264399A (ja) |
-
1991
- 1991-02-20 JP JP4562891A patent/JPH04264399A/ja active Pending
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