JPS639929A - Ｘ線露光装置 - Google Patents
Ｘ線露光装置Info
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- JPS639929A JPS639929A JP61154389A JP15438986A JPS639929A JP S639929 A JPS639929 A JP S639929A JP 61154389 A JP61154389 A JP 61154389A JP 15438986 A JP15438986 A JP 15438986A JP S639929 A JPS639929 A JP S639929A
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- vibrating mirror
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- 230000035939 shock Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 14
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
-
- G—PHYSICS
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- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はシンクロトロン放射線源を用いたＸ線露光装置
に関する。
に関する。
近年、サブミクロン幅パターンの高速転写技術として、
高強度Ｘ線源であるシンクロトロン放射線源を用いたＸ
線露光技術が一段と脚光を浴びて、各所で精力的に研究
、開発が行われ始めた。シンクロトロン放射線源を用い
た露光装置の代表例として、例えば、 １９８４年に発
行された刊行物ニュークリア・インスツルメント・アン
ド・メソッド・イン・フイジイクス０リサーチ（Ｎｕｃ
ｌｅａｒ Ｉｎ５ｔｒｕ＋＊ｅｎｔｓ ａｎｄ Ｍｅｔ
ｈｏｄｓ ｉｎ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ）
第２２２巻、２９１〜３０１頁に示されたビームライン
、露光部構成図がある。第２図にその概略図を示す。す
なわち、シンクロトロン放射光源から放射された放射光
１がビームライン７に導入される。
高強度Ｘ線源であるシンクロトロン放射線源を用いたＸ
線露光技術が一段と脚光を浴びて、各所で精力的に研究
、開発が行われ始めた。シンクロトロン放射線源を用い
た露光装置の代表例として、例えば、 １９８４年に発
行された刊行物ニュークリア・インスツルメント・アン
ド・メソッド・イン・フイジイクス０リサーチ（Ｎｕｃ
ｌｅａｒ Ｉｎ５ｔｒｕ＋＊ｅｎｔｓ ａｎｄ Ｍｅｔ
ｈｏｄｓ ｉｎ Ｐｈｙｓｉｃｓ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ）
第２２２巻、２９１〜３０１頁に示されたビームライン
、露光部構成図がある。第２図にその概略図を示す。す
なわち、シンクロトロン放射光源から放射された放射光
１がビームライン７に導入される。
まず、真空バルブ２を通過した放射光１は、振動ミラー
３で垂直方向のビーム幅が拡大される。
３で垂直方向のビーム幅が拡大される。
さらに衝撃波遅延管４．放射線取出し用Ｂｅ窓５を通っ
た放射光１が、Ｘ線マスク及び露光ウェハーを設置した
露光部６に導入される。なお１通常ビームライン７は真
空に保たれ、特にシンクロトロン放射光源に近い真空バ
ルブ２より上流側は、超高真空に保たれる。
た放射光１が、Ｘ線マスク及び露光ウェハーを設置した
露光部６に導入される。なお１通常ビームライン７は真
空に保たれ、特にシンクロトロン放射光源に近い真空バ
ルブ２より上流側は、超高真空に保たれる。
ところで、衝撃波遅延管４の役割は重要である。
すなわち、放射光取出し用Ｂｅ窓５は通常数十−厚と極
めて薄いため、大気圧力等の衝撃によって破損しやすい
。そこで、Ｂｅ窓５の破損事故に備えて、衝撃波遅延管
４が設置されている。 Ｂｅ窓が破損したとき、流入す
る大気の流れを遅らせるために衝撃波遅延管４がある。
めて薄いため、大気圧力等の衝撃によって破損しやすい
。そこで、Ｂｅ窓５の破損事故に備えて、衝撃波遅延管
４が設置されている。 Ｂｅ窓が破損したとき、流入す
る大気の流れを遅らせるために衝撃波遅延管４がある。
流入する大気は一種の衝撃波である。衝撃波遅延管４の
構造は、スリットを有する仕切り板を一定間隔に多数枚
設けたものであり、前述の衝撃波の伝播を遅らせるもの
である。
構造は、スリットを有する仕切り板を一定間隔に多数枚
設けたものであり、前述の衝撃波の伝播を遅らせるもの
である。
この衝撃波の伝播が遅れている間に、より上流側にある
真空バルブ２を閉めて、シンクロトロン放射光源に対す
るリークを防ぐことができる。次に、振動ミラー３の役
割も重要である。シンクロトロン放射光源から発生する
放射光１は、水平方向には一様な強度分布を有している
が、垂直方向では一様な強度分布の得られる領域は極め
て狭い、−例として、垂直方向へのビームの広がりは発
光点において０．４ｍｒａｄ程度であるが、この場合１
０ｍ位の露光位置でも４ｗａにすぎない、露光ウェハー
の照射域は、少なくとも数１角が必要である。したがっ
て、水平方向は一様な強度分布が得られるので、垂直方
向に数１幅位に渡って一様なビーム強度分布を得るため
の手段を講じる必要がある。このため、ミラーを垂直方
向に振動させて、垂直方向の露光領域を拡大する機構と
して、振動ミラーを用いられているものである。振動ミ
ラーはシステム構成上のキーデバイスの一つである。
真空バルブ２を閉めて、シンクロトロン放射光源に対す
るリークを防ぐことができる。次に、振動ミラー３の役
割も重要である。シンクロトロン放射光源から発生する
放射光１は、水平方向には一様な強度分布を有している
が、垂直方向では一様な強度分布の得られる領域は極め
て狭い、−例として、垂直方向へのビームの広がりは発
光点において０．４ｍｒａｄ程度であるが、この場合１
０ｍ位の露光位置でも４ｗａにすぎない、露光ウェハー
の照射域は、少なくとも数１角が必要である。したがっ
て、水平方向は一様な強度分布が得られるので、垂直方
向に数１幅位に渡って一様なビーム強度分布を得るため
の手段を講じる必要がある。このため、ミラーを垂直方
向に振動させて、垂直方向の露光領域を拡大する機構と
して、振動ミラーを用いられているものである。振動ミ
ラーはシステム構成上のキーデバイスの一つである。
しかしながら、従来のビームライン構成において重大な
問題点がある。
問題点がある。
第２図の振動ミラーは、真空外部よりミラーを振動させ
る必要があるが、このため、真空外部のミラー駆動機構
と真空内部のミラーとの接続を行う機構部が必要である
が、この機構が真空保持に対して十分な性能を保有させ
ることが難しい、すなわち、この機構は常時運動を伴う
ような機構系となるために真空リークの可能性が増大す
る。仮に、第２図において、振動ミラ一部において真空
リークが生じた場合にはシンクロトロン放射光源へリー
クが伝わることになり、これは放射光源のダウンにつな
がり、ひいては全システムの長期的安定運転に対して大
きなダメージを与えることになる。
る必要があるが、このため、真空外部のミラー駆動機構
と真空内部のミラーとの接続を行う機構部が必要である
が、この機構が真空保持に対して十分な性能を保有させ
ることが難しい、すなわち、この機構は常時運動を伴う
ような機構系となるために真空リークの可能性が増大す
る。仮に、第２図において、振動ミラ一部において真空
リークが生じた場合にはシンクロトロン放射光源へリー
クが伝わることになり、これは放射光源のダウンにつな
がり、ひいては全システムの長期的安定運転に対して大
きなダメージを与えることになる。
本発明の目的は、このような従来の問題点を除去せしめ
て、ビームラインの真空リークに対して対処可能で、長
期的に安定運転を保証するＸ線露光装置を提供すること
にある。
て、ビームラインの真空リークに対して対処可能で、長
期的に安定運転を保証するＸ線露光装置を提供すること
にある。
本発明は、シンクロトロン放射光源と、振動ミラー、衝
撃波遅延管及び放射光取出し窓を主構成要素とするビー
ムラインと、Ｘ線マスク及びウェハーを設置した露光部
を有するＸ線露光装置において、前記振動ミラーの上流
側に、高速しゃ断バルブと衝撃波遅延管とを設置したこ
とを特徴とするＸ線露光装置である。
撃波遅延管及び放射光取出し窓を主構成要素とするビー
ムラインと、Ｘ線マスク及びウェハーを設置した露光部
を有するＸ線露光装置において、前記振動ミラーの上流
側に、高速しゃ断バルブと衝撃波遅延管とを設置したこ
とを特徴とするＸ線露光装置である。
以下本発明の実施例について１図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図に本発明の実施例を示す１本発明によるＸ線露光
装置は以下の主構成要素からなる。すなわち、ビームラ
イン７に沿って高速しゃ断バルブ８、衝撃波遅延管４、
振動ミラー３、放射光取出し用Ｂｅ窓５及びＸ線マスク
９と露光部６とを順に設置したものである。１０は露光
ウェハーを示している。放射光１は高速しゃ断バルブ８
の上流側から導入される。高速しゃ断バルブ８は、数＋
ｒｓｓｅｃ以下の短い時間でしゃ断できる性能を有して
おり。
装置は以下の主構成要素からなる。すなわち、ビームラ
イン７に沿って高速しゃ断バルブ８、衝撃波遅延管４、
振動ミラー３、放射光取出し用Ｂｅ窓５及びＸ線マスク
９と露光部６とを順に設置したものである。１０は露光
ウェハーを示している。放射光１は高速しゃ断バルブ８
の上流側から導入される。高速しゃ断バルブ８は、数＋
ｒｓｓｅｃ以下の短い時間でしゃ断できる性能を有して
おり。
真空リークの信号が伝わると数十■ｓｅｅ以下でバルブ
を閉として、より上流の真空悪化を防止することができ
る。第１図において本発明は振動ミラー３の上流側に衝
撃波遅延管４を、さらにその上流に高速しゃ断バルブ８
を設置した構成が重要である。本発明では、振動ミラー
３において真空リークが生じた場合、リークした空気が
衝撃波遅延管４まで伝わり、この管４の中をリークした
空気がより上流に向けて流入してゆくが、その速度が遅
くなる間に、高速しゃ断バルブ８を閉とすればより上流
の超高真空系へのリークによるダメージを防ぐことがで
きる。放射光取出し用Ｂｓ窓９の破損による真空リーク
の場合にも同様な効果を得ることができる。
を閉として、より上流の真空悪化を防止することができ
る。第１図において本発明は振動ミラー３の上流側に衝
撃波遅延管４を、さらにその上流に高速しゃ断バルブ８
を設置した構成が重要である。本発明では、振動ミラー
３において真空リークが生じた場合、リークした空気が
衝撃波遅延管４まで伝わり、この管４の中をリークした
空気がより上流に向けて流入してゆくが、その速度が遅
くなる間に、高速しゃ断バルブ８を閉とすればより上流
の超高真空系へのリークによるダメージを防ぐことがで
きる。放射光取出し用Ｂｓ窓９の破損による真空リーク
の場合にも同様な効果を得ることができる。
また、高速しゃ断バルブ８ ＋、 Ｊ 撃波遅延管４及
び振動ミラー３は、シンクロトロン放射線源を用いたＸ
線露光装置にとって重要な構成要素であることは述べた
通りであるが、これらをビームライン７の上流側に設装
置することによって、振動ミラー３より下流側のビーム
ラインの構成は設計上自由度が大きくなる。すなわち、
露光部６までの距離設定、ビームライン（振動ミラーよ
り下流）の傾き角度設定、また他の重要構成要素（例え
ば差動排気系）の設置等が容易にできるようになる。傾
き角度の意味は、ミラーにて反射された放射光が傾きを
有してくるため、露光部６に至るビームラインを傾ける
必要があるということである。
び振動ミラー３は、シンクロトロン放射線源を用いたＸ
線露光装置にとって重要な構成要素であることは述べた
通りであるが、これらをビームライン７の上流側に設装
置することによって、振動ミラー３より下流側のビーム
ラインの構成は設計上自由度が大きくなる。すなわち、
露光部６までの距離設定、ビームライン（振動ミラーよ
り下流）の傾き角度設定、また他の重要構成要素（例え
ば差動排気系）の設置等が容易にできるようになる。傾
き角度の意味は、ミラーにて反射された放射光が傾きを
有してくるため、露光部６に至るビームラインを傾ける
必要があるということである。
以上説明したように本発明によれば、シンクロトロン放
射光を通過させて露光部に導くビームラインの長期安定
稼動及び信頼性を向上し、シンクロトロン放射光を用い
たＸ線露光装置の実用化に大きく寄与できる効果を有す
る。
射光を通過させて露光部に導くビームラインの長期安定
稼動及び信頼性を向上し、シンクロトロン放射光を用い
たＸ線露光装置の実用化に大きく寄与できる効果を有す
る。
第１図は本発明の一実施例を示すビームライン構成図、
第２図は従来の代表的ビームライン構成図である。
第２図は従来の代表的ビームライン構成図である。
Claims (1)
- （１）シンクロトロン放射光源と、振動ミラー、衝撃波
遅延管及び放射光取出し窓を主構成要素とするビームラ
インと、Ｘ線マスク及びウェハーを設置した露光部とを
有するＸ線露光装置において、前記振動ミラーの上流側
に、高速しゃ断バルブと衝撃波遅延管とを設置したこと
を特徴とするＸ線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61154389A JPS639929A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | Ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61154389A JPS639929A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | Ｘ線露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS639929A true JPS639929A (ja) | 1988-01-16 |
| JPH058853B2 JPH058853B2 (ja) | 1993-02-03 |
Family
ID=15583067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61154389A Granted JPS639929A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | Ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS639929A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268919A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Canon Inc | Ｓｏｒ露光システム |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP61154389A patent/JPS639929A/ja active Granted
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| PROCEEDING OF SPIE-THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING=S58 * |
| REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS=1976 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0268919A (ja) * | 1988-09-05 | 1990-03-08 | Canon Inc | Ｓｏｒ露光システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH058853B2 (ja) | 1993-02-03 |
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