JPH0737699A - 粒子加速器 - Google Patents
粒子加速器Info
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- JPH0737699A JPH0737699A JP17836793A JP17836793A JPH0737699A JP H0737699 A JPH0737699 A JP H0737699A JP 17836793 A JP17836793 A JP 17836793A JP 17836793 A JP17836793 A JP 17836793A JP H0737699 A JPH0737699 A JP H0737699A
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- Japan
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- incident path
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- incident
- particle accelerator
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000007479 molecular analysis Methods 0.000 description 1
- 238000012916 structural analysis Methods 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビームラインと入射路との干渉を防ぎ、小型
であっても多数のビームラインを設置し得る粒子加速器
を提供する。 【構成】 蓄積リング６に荷電粒子を入射させるための
入射路４と、蓄積リングから放射光を取り出すためのビ
ームライン１０とを同一平面内に設置するとともに、そ
れらを交差させて互いに連通状態に連結する。それらの
連結部の周囲には、入射路およびビームラインを真空保
持可能に遮断するための遮断弁２１，２１，２２，２２
をそれぞれ設けて、それら遮断弁を選択的に開閉操作す
ることにより連結部を入射路の一部もしくはビームライ
ンの一部として選択的に使用する。
であっても多数のビームラインを設置し得る粒子加速器
を提供する。 【構成】 蓄積リング６に荷電粒子を入射させるための
入射路４と、蓄積リングから放射光を取り出すためのビ
ームライン１０とを同一平面内に設置するとともに、そ
れらを交差させて互いに連通状態に連結する。それらの
連結部の周囲には、入射路およびビームラインを真空保
持可能に遮断するための遮断弁２１，２１，２２，２２
をそれぞれ設けて、それら遮断弁を選択的に開閉操作す
ることにより連結部を入射路の一部もしくはビームライ
ンの一部として選択的に使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＳＯＲ光利用のための
粒子加速器に関する。
粒子加速器に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、シンクロトロン等の粒子加速器か
ら放射されるＳＯＲ光（シンクロトロン放射光）を取り
出し、それを光源としてたとえば超ＬＳＩの製造、医療
分野における診断、分子解析、構造解析等といった様々
な分野において利用しようとする機運があり、そのため
の施設が開発されつつある。
ら放射されるＳＯＲ光（シンクロトロン放射光）を取り
出し、それを光源としてたとえば超ＬＳＩの製造、医療
分野における診断、分子解析、構造解析等といった様々
な分野において利用しようとする機運があり、そのため
の施設が開発されつつある。
【０００３】図３はＳＯＲ光利用のための小型シンクロ
トロンの概要を示すものである。このシンクロトロンで
は、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電子を直線
加速器（ライナック）２で光速近くに加速し、偏向電磁
石３で偏向させて入射路４によりインフレクタ５を介し
て蓄積リング６に入射する。蓄積リング６に入射した電
子は高周波加速空洞７によりエネルギを与えられながら
収束電磁石８で収束され、偏向電磁石９で偏向されて蓄
積リング６内を周回し続ける。そして、偏向電磁石９で
偏向される際にその接線方向にＳＯＲ光が放射され、そ
れが光取り出しラインであるビームライン１０を介して
たとえば露光装置１１に出射されて利用されるのであ
る。
トロンの概要を示すものである。このシンクロトロンで
は、電子銃等の電子発生装置１で発生させた電子を直線
加速器（ライナック）２で光速近くに加速し、偏向電磁
石３で偏向させて入射路４によりインフレクタ５を介し
て蓄積リング６に入射する。蓄積リング６に入射した電
子は高周波加速空洞７によりエネルギを与えられながら
収束電磁石８で収束され、偏向電磁石９で偏向されて蓄
積リング６内を周回し続ける。そして、偏向電磁石９で
偏向される際にその接線方向にＳＯＲ光が放射され、そ
れが光取り出しラインであるビームライン１０を介して
たとえば露光装置１１に出射されて利用されるのであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ＳＯＲ光は
電子の周回軌道の接線方向に放射されることから、図３
に鎖線で示すように各偏向磁石９の位置に多数のビーム
ライン１０を接続すればそれらビームライン１０を通し
て多くのＳＯＲ光を同時に取り出すことができるもので
あり、できるだけ多くのビームライン１０を設置するこ
とが検討されている。しかしながら、図３に示したよう
な小型シンクロトロンの場合には、たとえば直線加速器
２や入射路４等の他の機器類が邪魔になって多数のビー
ムライン１０を設置するスペースが確保し難く、特にイ
ンフレクタ５の上流側の偏向部に対しては入射路４と干
渉してしまうことからビームラインを設置することがで
きないものである。したがって従来の小型シンクロトロ
ンにおいてはビームラインの設置可能本数には自ずと限
界があり、さほど多くのビームライン１０を設置するこ
とができないものであった。
電子の周回軌道の接線方向に放射されることから、図３
に鎖線で示すように各偏向磁石９の位置に多数のビーム
ライン１０を接続すればそれらビームライン１０を通し
て多くのＳＯＲ光を同時に取り出すことができるもので
あり、できるだけ多くのビームライン１０を設置するこ
とが検討されている。しかしながら、図３に示したよう
な小型シンクロトロンの場合には、たとえば直線加速器
２や入射路４等の他の機器類が邪魔になって多数のビー
ムライン１０を設置するスペースが確保し難く、特にイ
ンフレクタ５の上流側の偏向部に対しては入射路４と干
渉してしまうことからビームラインを設置することがで
きないものである。したがって従来の小型シンクロトロ
ンにおいてはビームラインの設置可能本数には自ずと限
界があり、さほど多くのビームライン１０を設置するこ
とができないものであった。
【０００５】なお、従来においては蓄積リング６や直線
加速器２、入射路４、ビームライン１０等の全てを同一
水平面内に設置することが通常であるが、たとえば入射
路４を水平面に対して傾斜させて設けることによって入
射路４とビームライン１０とを上下方向に離間させて配
置し、それによってそれらの干渉を避けることも考えら
れてはいるが、そのように立体的（三次元的）に構成す
ることは上下方向の所要空間が拡大してしまうとともに
各部の構成が徒に複雑化してしまい、好ましくない。
加速器２、入射路４、ビームライン１０等の全てを同一
水平面内に設置することが通常であるが、たとえば入射
路４を水平面に対して傾斜させて設けることによって入
射路４とビームライン１０とを上下方向に離間させて配
置し、それによってそれらの干渉を避けることも考えら
れてはいるが、そのように立体的（三次元的）に構成す
ることは上下方向の所要空間が拡大してしまうとともに
各部の構成が徒に複雑化してしまい、好ましくない。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、特に入射路とビームラインとの干渉を避け得て小型
であっても多くのビームラインを設置し得る粒子加速器
を提供することを目的とする。
で、特に入射路とビームラインとの干渉を避け得て小型
であっても多くのビームラインを設置し得る粒子加速器
を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、入射路を通し
て蓄積リングに入射させた荷電粒子を蓄積リング内にお
いて周回させ、その周回軌道の偏向部において接線方向
に放射される放射光をビームラインを通して取り出すよ
うにした粒子加速器であって、前記入射路と前記ビーム
ラインとを同一平面内に設置するとともにそれらを交差
させて互いに連通状態に連結し、かつ、それらの連結部
の周囲には、前記入射路およびビームラインを真空保持
可能に遮断するための遮断弁をそれぞれ設けてなること
を特徴とするものである。
て蓄積リングに入射させた荷電粒子を蓄積リング内にお
いて周回させ、その周回軌道の偏向部において接線方向
に放射される放射光をビームラインを通して取り出すよ
うにした粒子加速器であって、前記入射路と前記ビーム
ラインとを同一平面内に設置するとともにそれらを交差
させて互いに連通状態に連結し、かつ、それらの連結部
の周囲には、前記入射路およびビームラインを真空保持
可能に遮断するための遮断弁をそれぞれ設けてなること
を特徴とするものである。
【０００８】
【作用】本発明は、粒子加速器における入射路とビーム
ラインとは同時に使用することがないことに着目して、
それら入射路とビームラインとを交差させて連通状態に
連結するとともに、連結部の周囲に設けた遮断弁を選択
的に開閉することで連結部を入射路の一部もしくはビー
ムラインの一部として選択的に使用するようにしたもの
である。すなわち、蓄積リングに対して荷電粒子の入射
を行う際には、入射路を開いてビームラインを閉じるべ
く、入射路に設置されている遮断弁を開いてビームライ
ンに設置されている遮断弁は閉じる。また、蓄積リング
から放射光の取り出しを行う際には、ビームラインを開
いて入射路を閉じるべく、ビームラインに設置されてい
る遮断弁を開いて入射路に設置されている遮断弁は閉じ
る。これにより、荷電粒子の入射と放射光の取り出しの
いずれも支障なく行うことができ、かつ、使用時以外は
遮断弁を閉じておくことにより入射路およびビームライ
ンの双方をそれぞれ所望の真空度に維持し得る。
ラインとは同時に使用することがないことに着目して、
それら入射路とビームラインとを交差させて連通状態に
連結するとともに、連結部の周囲に設けた遮断弁を選択
的に開閉することで連結部を入射路の一部もしくはビー
ムラインの一部として選択的に使用するようにしたもの
である。すなわち、蓄積リングに対して荷電粒子の入射
を行う際には、入射路を開いてビームラインを閉じるべ
く、入射路に設置されている遮断弁を開いてビームライ
ンに設置されている遮断弁は閉じる。また、蓄積リング
から放射光の取り出しを行う際には、ビームラインを開
いて入射路を閉じるべく、ビームラインに設置されてい
る遮断弁を開いて入射路に設置されている遮断弁は閉じ
る。これにより、荷電粒子の入射と放射光の取り出しの
いずれも支障なく行うことができ、かつ、使用時以外は
遮断弁を閉じておくことにより入射路およびビームライ
ンの双方をそれぞれ所望の真空度に維持し得る。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の実施例である小型シンクロトロン
の概要を示す平面図であるが、このシンクロトロンは図
３に示した従来のものを基本とするものであるので、両
者の共通部分には同一符号を付してある。
する。図１は本発明の実施例である小型シンクロトロン
の概要を示す平面図であるが、このシンクロトロンは図
３に示した従来のものを基本とするものであるので、両
者の共通部分には同一符号を付してある。
【００１０】本実施例のシンクロトロンは、従来のもの
と同様に入射路４を通して電子を蓄積リング６に入射
し、蓄積リング６を周回する電子が偏向電磁石９により
偏向される際に接線方向に放射されるＳＯＲ光をビーム
ライン１０を通して取り出すようにしたものである。そ
して、本実施例においては、同時に多数のＳＯＲ光を取
り出すべく、各偏向部つまり各偏向電磁石９の位置にそ
れぞれ複数のビームライン１０を設置するようにしてい
る。この場合、上述したように従来においてはインフレ
クタ５の上流側の偏向部に対しては入射路４と干渉して
しまうことからビームライン１０を設置することができ
なかったのであるが、本実施例においては入射路４とビ
ームライン１０とを交差させて連結することでその位置
にもビームライン１０を設置することを可能ならしめて
いる。
と同様に入射路４を通して電子を蓄積リング６に入射
し、蓄積リング６を周回する電子が偏向電磁石９により
偏向される際に接線方向に放射されるＳＯＲ光をビーム
ライン１０を通して取り出すようにしたものである。そ
して、本実施例においては、同時に多数のＳＯＲ光を取
り出すべく、各偏向部つまり各偏向電磁石９の位置にそ
れぞれ複数のビームライン１０を設置するようにしてい
る。この場合、上述したように従来においてはインフレ
クタ５の上流側の偏向部に対しては入射路４と干渉して
しまうことからビームライン１０を設置することができ
なかったのであるが、本実施例においては入射路４とビ
ームライン１０とを交差させて連結することでその位置
にもビームライン１０を設置することを可能ならしめて
いる。
【００１１】すなわち、本実施例のシンクロトロンにお
いては、図１に示すようにインフレクタ５の上流側の偏
向部に複数（本実施例においては３本）のビームライン
１０を接続するとともに、それら各ビームライン１０を
それぞれ入射路４に対して交差させて互いに連通させた
状態で連結してしまうようにしている（図１においては
１本のビームライン１０と入射路４との接続状態を図示
し、他の２本のビームライン１０，１０についての連結
状態の図示は省略している）。そして、ビームライン１
０と入射路４との連結部の周囲には図２に示すように４
つの遮断弁すなわち入射路４を真空保持可能に遮断する
ための遮断弁２１，２１と、ビームライン１０を真空保
持可能に遮断するための遮断弁２２，２２とをそれぞれ
設置した構成とされている。
いては、図１に示すようにインフレクタ５の上流側の偏
向部に複数（本実施例においては３本）のビームライン
１０を接続するとともに、それら各ビームライン１０を
それぞれ入射路４に対して交差させて互いに連通させた
状態で連結してしまうようにしている（図１においては
１本のビームライン１０と入射路４との接続状態を図示
し、他の２本のビームライン１０，１０についての連結
状態の図示は省略している）。そして、ビームライン１
０と入射路４との連結部の周囲には図２に示すように４
つの遮断弁すなわち入射路４を真空保持可能に遮断する
ための遮断弁２１，２１と、ビームライン１０を真空保
持可能に遮断するための遮断弁２２，２２とをそれぞれ
設置した構成とされている。
【００１２】なお、本実施例においては、入射路４の一
部となる真空チャンバー２３とビームライン１０の一部
となる真空チャンバー２４とを交差させて一体化すると
ともに上記４つの遮断弁２１，２１，２２，２２を予め
組み込んだ形態の真空チャンバーユニット２５が連結部
に用いられている。この場合、真空チャンバー２３と真
空チャンバー２４の交差角度は、入射路４とビームライ
ン１０の交差角度に対応させて設定されている。
部となる真空チャンバー２３とビームライン１０の一部
となる真空チャンバー２４とを交差させて一体化すると
ともに上記４つの遮断弁２１，２１，２２，２２を予め
組み込んだ形態の真空チャンバーユニット２５が連結部
に用いられている。この場合、真空チャンバー２３と真
空チャンバー２４の交差角度は、入射路４とビームライ
ン１０の交差角度に対応させて設定されている。
【００１３】上記構成のシンクロトロンにおいては、遮
断弁２１，２１，２２，２２を選択的に開閉操作するこ
とによって連結部を入射路４の一部として使用するか、
もしくはビームライン１０の一部として使用することと
し、それによって電子の入射およびＳＯＲ光の取り出し
を支障なく行い得るものである。
断弁２１，２１，２２，２２を選択的に開閉操作するこ
とによって連結部を入射路４の一部として使用するか、
もしくはビームライン１０の一部として使用することと
し、それによって電子の入射およびＳＯＲ光の取り出し
を支障なく行い得るものである。
【００１４】すなわち、この種のシンクロトロンにおい
ては蓄積リング６への電子の入射と蓄積リング６からの
ＳＯＲ光の取り出しとは同時に行われることはなく、通
常は１分間程度のごく短時間で入射を行い、入射後には
数時間程度の蓄積を行ってその間にＳＯＲ光の取り出し
を随時行う、という運転パターンがとられることが通常
である。
ては蓄積リング６への電子の入射と蓄積リング６からの
ＳＯＲ光の取り出しとは同時に行われることはなく、通
常は１分間程度のごく短時間で入射を行い、入射後には
数時間程度の蓄積を行ってその間にＳＯＲ光の取り出し
を随時行う、という運転パターンがとられることが通常
である。
【００１５】したがって、上記のシンクロトロンにおい
ては、運転時間の大半は遮断弁２２，２２を開いてビー
ムライン１０を開いておくとともに遮断弁２１，２１を
閉じて入射路４は閉じておくことにより、ビームライン
１０を通してＳＯＲ光の取り出しを支障なく行い得ると
ともに、この状態ではビームライン１０に要求される高
真空度も維持することができる。そして、入射を行うと
きのみは、遮断弁２２，２２を閉じてビームライン１０
を閉じるとともに遮断弁２１，２１を開いて入射路４を
開くことにより、入射路４を通して電子の入射を支障な
く行い得るとともに、入射後には速やかに元の状態に戻
すことによって引続いてのＳＯＲ光の取り出しを支障な
く行い得る。
ては、運転時間の大半は遮断弁２２，２２を開いてビー
ムライン１０を開いておくとともに遮断弁２１，２１を
閉じて入射路４は閉じておくことにより、ビームライン
１０を通してＳＯＲ光の取り出しを支障なく行い得ると
ともに、この状態ではビームライン１０に要求される高
真空度も維持することができる。そして、入射を行うと
きのみは、遮断弁２２，２２を閉じてビームライン１０
を閉じるとともに遮断弁２１，２１を開いて入射路４を
開くことにより、入射路４を通して電子の入射を支障な
く行い得るとともに、入射後には速やかに元の状態に戻
すことによって引続いてのＳＯＲ光の取り出しを支障な
く行い得る。
【００１６】なお、入射路４の真空度はビームライン１
０や蓄積リング６の真空度に比して低く設定されるの
で、入射に際して遮断弁２１，２１を一時的に開くこと
により連結部における真空度は一時的に低下してしまう
ことになるが、連結部の内容積はさほど大きなものでは
ないので、遮断弁２１，２１を開くに先立って遮断弁２
２，２２を閉じることによりビームライン１０全体の真
空度が大きく低下しまうことはないし、入射が完了した
後はビームライン１０を通して連結部からも真空引きが
なされるから自ずと速やかに高真空度に復帰させ得る。
０や蓄積リング６の真空度に比して低く設定されるの
で、入射に際して遮断弁２１，２１を一時的に開くこと
により連結部における真空度は一時的に低下してしまう
ことになるが、連結部の内容積はさほど大きなものでは
ないので、遮断弁２１，２１を開くに先立って遮断弁２
２，２２を閉じることによりビームライン１０全体の真
空度が大きく低下しまうことはないし、入射が完了した
後はビームライン１０を通して連結部からも真空引きが
なされるから自ずと速やかに高真空度に復帰させ得る。
【００１７】上記のように、ビームライン１０と入射路
４とを交差させて連結させるとともに、連結部の周囲に
設けた遮断弁２１，２１，２２，２２を選択的に開閉操
作することにより連結部を入射路４の一部もしくはビー
ムライン１０の一部として選択的に使用するように構成
したことにより、従来においては入射路４と干渉してし
まうことから設置が困難であったインフレクタ５の上流
側の偏向部に対してもビームライン１０を設置すること
が可能となり、したがって小型シンクロトロンといえど
も多数のビームライン１０を設置することが可能とな
る。勿論、入射路４を水平に対して傾斜させることで入
射路４に対する干渉を避ける場合のように、上下方向の
設置スペースが拡大してしまったり装置全体が徒に複雑
化してしまうようなこともない。
４とを交差させて連結させるとともに、連結部の周囲に
設けた遮断弁２１，２１，２２，２２を選択的に開閉操
作することにより連結部を入射路４の一部もしくはビー
ムライン１０の一部として選択的に使用するように構成
したことにより、従来においては入射路４と干渉してし
まうことから設置が困難であったインフレクタ５の上流
側の偏向部に対してもビームライン１０を設置すること
が可能となり、したがって小型シンクロトロンといえど
も多数のビームライン１０を設置することが可能とな
る。勿論、入射路４を水平に対して傾斜させることで入
射路４に対する干渉を避ける場合のように、上下方向の
設置スペースが拡大してしまったり装置全体が徒に複雑
化してしまうようなこともない。
【００１８】
【発明の効果】以上で説明したように、本発明の粒子加
速器は、ビームラインと入射路とを同一平面内に設置す
るとともにそれらを交差させて連通状態に連結し、連結
部の周囲にはビームラインおよび入射路を真空保持可能
に遮断する遮断弁を設けた構成であるので、遮断弁を選
択的に開閉操作することによって連結部を入射路の一部
もしくはビームラインの一部として選択的に使用するこ
とで荷電粒子の入射と放射光の取り出しを支障なく行い
得ることはもとより、ビームラインに要求される高真空
度を維持できるという効果を奏するものである。したが
って、従来においては入射路と干渉してしまうことから
設置が困難であったビームラインをも設置することが可
能となり、その結果、小型の粒子加速器であっても多数
のビームラインを設置することが可能となる。
速器は、ビームラインと入射路とを同一平面内に設置す
るとともにそれらを交差させて連通状態に連結し、連結
部の周囲にはビームラインおよび入射路を真空保持可能
に遮断する遮断弁を設けた構成であるので、遮断弁を選
択的に開閉操作することによって連結部を入射路の一部
もしくはビームラインの一部として選択的に使用するこ
とで荷電粒子の入射と放射光の取り出しを支障なく行い
得ることはもとより、ビームラインに要求される高真空
度を維持できるという効果を奏するものである。したが
って、従来においては入射路と干渉してしまうことから
設置が困難であったビームラインをも設置することが可
能となり、その結果、小型の粒子加速器であっても多数
のビームラインを設置することが可能となる。
【図１】本発明の実施例である粒子加速器の概要を示す
平面図である。
平面図である。
【図２】同粒子加速器の要部詳細図である。
【図３】小型シンクロトロンの概要を示す平面図であ
る。
る。
４ 入射路 ６ 蓄積リング １０ ビームライン ２１，２２ 遮断弁 ２３，２４ 真空チャンバー ２５ 真空チャンバーユニット。
Claims (1)
- 【請求項１】 入射路を通して蓄積リングに入射させた
荷電粒子を蓄積リング内において周回させ、その周回軌
道の偏向部において接線方向に放射される放射光をビー
ムラインを通して取り出すようにした粒子加速器であっ
て、前記入射路と前記ビームラインとを同一平面内に設
置するとともにそれらを交差させて互いに連通状態に連
結し、かつ、それらの連結部の周囲には、前記入射路お
よびビームラインを真空保持可能に遮断するための遮断
弁をそれぞれ設けてなることを特徴とする粒子加速器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17836793A JPH0737699A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 粒子加速器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17836793A JPH0737699A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 粒子加速器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0737699A true JPH0737699A (ja) | 1995-02-07 |
Family
ID=16047260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17836793A Pending JPH0737699A (ja) | 1993-07-19 | 1993-07-19 | 粒子加速器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0737699A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7640770B2 (en) | 2005-05-26 | 2010-01-05 | Shima Seiki Manufacturing Limited | Fabric knitting method and knitted product |
-
1993
- 1993-07-19 JP JP17836793A patent/JPH0737699A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7640770B2 (en) | 2005-05-26 | 2010-01-05 | Shima Seiki Manufacturing Limited | Fabric knitting method and knitted product |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20011204 |