JPH0426683A - 含窒素6員環化合物の製造方法 - Google Patents
含窒素6員環化合物の製造方法Info
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- JPH0426683A JPH0426683A JP2131758A JP13175890A JPH0426683A JP H0426683 A JPH0426683 A JP H0426683A JP 2131758 A JP2131758 A JP 2131758A JP 13175890 A JP13175890 A JP 13175890A JP H0426683 A JPH0426683 A JP H0426683A
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- formula
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は含窒素6員環化合物の製造方法に関する。
[発明の背景J
含窒素6員環化合物は酸化防止剤等に用いられ、また、
種々の有用な化合物を製造するための中間体として用い
られている。
種々の有用な化合物を製造するための中間体として用い
られている。
含窒素6員環化合物の一般的な合成方法として、従来、
下記の方法が知られていた。
下記の方法が知られていた。
a)
R:置換基
H++l:ハロゲン原子
しかしながら、上記の合成方法a)及びb)は収率よく
含窒素6員環化合物が得られる反面、ジビニル体および
ハロゲン化物の入手が困難であり、低コストで製造する
方法としては好ましくない。また、ジビニル体およびハ
ロゲン化物は毒性が非常に高く、出発原料として用いる
場合、作業の安全上好ましくない。
含窒素6員環化合物が得られる反面、ジビニル体および
ハロゲン化物の入手が困難であり、低コストで製造する
方法としては好ましくない。また、ジビニル体およびハ
ロゲン化物は毒性が非常に高く、出発原料として用いる
場合、作業の安全上好ましくない。
[発明の目的]
したがって本発明の目的は、作業安全性に問題がなく、
低コスト、高収率で純度の高い含窒素6員環化合物を製
造することができる含窒素6員環化合物の製造方法を提
供することにある。
低コスト、高収率で純度の高い含窒素6員環化合物を製
造することができる含窒素6員環化合物の製造方法を提
供することにある。
[発明の構成]
本発明の」二足目的は以下によって達成された。
−形式[’l]で表される化合物を出発原料とし、得ら
れる中間体を単離することなく、該中間体と一般式[U
]で表される化合物とを反応させることを特徴とする一
般式[IIT ]で表される含窒素6員環化合物の製造
方法。
れる中間体を単離することなく、該中間体と一般式[U
]で表される化合物とを反応させることを特徴とする一
般式[IIT ]で表される含窒素6員環化合物の製造
方法。
一般式[Iコ
一般式[II]
R、−N I−12
一般式[III ]
式中、R,−Rsは水素原子、アルキル基、またはアリ
ール基を表わす。Xは−N−−3−IO 基またはアリール基を表わす。
ール基を表わす。Xは−N−−3−IO 基またはアリール基を表わす。
以下、本発明の詳細な説明する。
一般式[I]、−形式[I1]及び−形式[■コにおい
て、R1−R1゜で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜24の直鎖又は分岐のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、2−エ
チルヘキシル基、ドデシル基、t−オクチル基、ベンジ
ル基)が好ましい。
て、R1−R1゜で表されるアルキル基としては、炭素
数1〜24の直鎖又は分岐のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、イソプロピル基、t−ブチル基、2−エ
チルヘキシル基、ドデシル基、t−オクチル基、ベンジ
ル基)が好ましい。
R1〜R□。で表されるアリール基としては、例えばフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。
ェニル基、ナフチル基が挙げられる。
R1−R1゜で表されるこれら多基は、更に置換基を有
するものも含み、置換基としては、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリール基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ニ
トロ基、シアノ基、アリールスルホニル基、ハロゲン原
子、カルボキシル基、アミノ基、アリールアミノ基、ア
ルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
アシルオキシ基等が挙げられる。
するものも含み、置換基としては、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリール基、アシルアミノ基、スルホンア
ミド基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、ニ
トロ基、シアノ基、アリールスルホニル基、ハロゲン原
子、カルボキシル基、アミノ基、アリールアミノ基、ア
ルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
アシルオキシ基等が挙げられる。
本発明の一般式[I]で表される化合物を出発原料とし
て得られる中間体は、下記−形式[IV]で表されるス
ルホン酸エステル誘導体化合物及び/または下記−形式
[V]で表されるジビニル化合物である。
て得られる中間体は、下記−形式[IV]で表されるス
ルホン酸エステル誘導体化合物及び/または下記−形式
[V]で表されるジビニル化合物である。
一般式[IVコ
一般式[V]
式中、R′はアルキル基、アリール基又はヒドロキシル
基を表し、R1□〜R24は水素原子、アルキル基又は
アリール基を表わす。Xは一般式[I]におけるXと同
義である。
基を表し、R1□〜R24は水素原子、アルキル基又は
アリール基を表わす。Xは一般式[I]におけるXと同
義である。
一般式[IV]で表されるスルホン酸エステル誘導体は
、一般式[T]で表される化合物と下記−般式[VI]
で表されるスルホニルハライド類及び/または無機ある
いは有機の酸とを反応させることによって製造すること
ができる。
、一般式[T]で表される化合物と下記−般式[VI]
で表されるスルホニルハライド類及び/または無機ある
いは有機の酸とを反応させることによって製造すること
ができる。
この場合、一般式[VI]で表される化合物の添加量は
一般式[I]で表わされる化合物1モル当たり0.1〜
10モルの範囲であり、好ましくは0.5〜5モルの範
囲である。
一般式[I]で表わされる化合物1モル当たり0.1〜
10モルの範囲であり、好ましくは0.5〜5モルの範
囲である。
一般式[VI]
R’ SO,Y
式中、Yはヒドロキシル基又はハロゲン原子を表す。R
′は前記一般式[IV]におけるR′と同義である。
′は前記一般式[IV]におけるR′と同義である。
反応溶媒は使用しても、使用しなくてもよい。
使用し得る反応溶媒としては、例えばエーテル類(例え
ばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル)、ハロ
ゲン化炭化水素類(例えばクロロホルム、四塩化炭素)
、芳香族炭化水素類(例えばトルエン、キシレン)、脂
肪族炭化水素類(例えばヘキサジ、ヘプタン)、エステ
ル類(例えば酢酸エチル)、鉱酸類(例えば硫酸)、有
機酸(例えば酢酸)及びこれらの混合溶媒を挙げること
ができる。反応温度は0〜100℃であり、好ましくは
10〜80℃である。
ばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル)、ハロ
ゲン化炭化水素類(例えばクロロホルム、四塩化炭素)
、芳香族炭化水素類(例えばトルエン、キシレン)、脂
肪族炭化水素類(例えばヘキサジ、ヘプタン)、エステ
ル類(例えば酢酸エチル)、鉱酸類(例えば硫酸)、有
機酸(例えば酢酸)及びこれらの混合溶媒を挙げること
ができる。反応温度は0〜100℃であり、好ましくは
10〜80℃である。
一般式[V]で表されるジビニル化合物は一般式[IV
]で表される化合物を塩基でビニル化することによっ
て製造することができる。
]で表される化合物を塩基でビニル化することによっ
て製造することができる。
使用される塩基には特に限定はないが、例えば苛性アル
カリ金属、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の酢酸
塩、アルカリ金属の重炭酸塩及びそれらの水溶液、アミ
ン類(例えばトリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピ
リジン)を使用することができる。添加量は、一般式[
IV]で表される化合物1モル当り01〜5モルの範囲
であり、好ましくは0.5〜5モルの範囲である。反応
温度は0〜60℃であり、好ましくは0〜40℃である
。
カリ金属、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の酢酸
塩、アルカリ金属の重炭酸塩及びそれらの水溶液、アミ
ン類(例えばトリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピ
リジン)を使用することができる。添加量は、一般式[
IV]で表される化合物1モル当り01〜5モルの範囲
であり、好ましくは0.5〜5モルの範囲である。反応
温度は0〜60℃であり、好ましくは0〜40℃である
。
一般式[]および[V]で表される化合物はゼラチンな
どの高分子化合物の架橋剤として有用であり、また、各
種化合物の合成に用いる中間体として有用である。
どの高分子化合物の架橋剤として有用であり、また、各
種化合物の合成に用いる中間体として有用である。
一般式[IV]において RIがメチル基、フェニル基
、4−メチルフェニル基またはヒドロキシル基であり、
またXが−S O2−であるものが中間体として好まし
い。
、4−メチルフェニル基またはヒドロキシル基であり、
またXが−S O2−であるものが中間体として好まし
い。
一般式[II ]において、R9がフェニル基であるも
のが合成原料として好ましい。
のが合成原料として好ましい。
本発明の一般式[I[I]で表される含窒素6員環化合
物を製造する場合、一般式[IV]で表される化合物を
直接一般式[II]で表される化合物と反応させてもよ
いが、一般式[V]で表される化合物を一般式[I1]
で表される化合物と反応させることが好ましい。
物を製造する場合、一般式[IV]で表される化合物を
直接一般式[II]で表される化合物と反応させてもよ
いが、一般式[V]で表される化合物を一般式[I1]
で表される化合物と反応させることが好ましい。
本発明の一般式[I11]で表される含窒素6員環化合
物を製造する場合に、通常、溶媒が用いられる。
物を製造する場合に、通常、溶媒が用いられる。
反応溶媒としては特に限定はないが、例えば、エーテル
類(例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル
)、ハロゲン化炭化水素類(例えばクロロホルム、四塩
化炭素)、芳香族炭化水素類(例えばトルエン、キシレ
ン)、脂肪族炭化水素類(例えばヘプタン、デカン)、
エステル類(例えば酢酸エチル)、アルコール類(例え
ばメタノール、エタノール、n−ブタノール)、水及び
これらの混合溶媒を挙げることができる。反応温度は4
0〜200℃であり、好ましくは60〜150℃である
。
類(例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル
)、ハロゲン化炭化水素類(例えばクロロホルム、四塩
化炭素)、芳香族炭化水素類(例えばトルエン、キシレ
ン)、脂肪族炭化水素類(例えばヘプタン、デカン)、
エステル類(例えば酢酸エチル)、アルコール類(例え
ばメタノール、エタノール、n−ブタノール)、水及び
これらの混合溶媒を挙げることができる。反応温度は4
0〜200℃であり、好ましくは60〜150℃である
。
本発明の一般式[]11]で表される含窒素6員環化合
物は、酸化防止剤として有用であり、また、各種化合物
の合成に用いる中間体として有用である。
物は、酸化防止剤として有用であり、また、各種化合物
の合成に用いる中間体として有用である。
次に一般式[IIで表される化合物の代表的具体例を示
すが、本発明の一般式[IIで表される化合物はこれら
に限定されるものではない。
すが、本発明の一般式[IIで表される化合物はこれら
に限定されるものではない。
CH。
■−4
CH。
次に、
一般式
[]
で表される化合物の代表的
具体例を示すが、
本発明の一般式
[]
る化合物はこれらに限定されるものではない。
■
■
[−6
f−8
1−i 。
■−11
■−12
■−13
■−14
■−15
■−16
次に、
一般式
[
で表される含窒素6員環化
合物の代表的具体例を示すが、
本発明の一般式
[I11]
で表される含窒素6員環化合物はこれらにI[I−1
1[[−2
1[[−4
A
m−8
■−10
■−12
ll−14
■−15
■−16
1T−9
■−11
■−13
[実施例]
以下に本発明の具体的実施例を記載するが、本発明はこ
れらに限定されない。
れらに限定されない。
実施例 (例示化合物m−5の合成)
I−130gをクロロホルム150cc中で攪拌懸濁し
、室温でゆっくりとクロロスルホン酸49.8gを滴下
した。さらに滴下後、1時間約60℃に加温した。クロ
ロホルムを減圧留去し、油状の残渣(一般式[IV]に
相当する化合物、NMRおよびマススペクトルより確認
した。)に水100 ccをゆっくりと加えて油状物を
溶解した。その水溶液に内温10’C以下に保持される
ようにして20%苛性ソーダ水溶液をpHが約9になる
まで滴下した。
、室温でゆっくりとクロロスルホン酸49.8gを滴下
した。さらに滴下後、1時間約60℃に加温した。クロ
ロホルムを減圧留去し、油状の残渣(一般式[IV]に
相当する化合物、NMRおよびマススペクトルより確認
した。)に水100 ccをゆっくりと加えて油状物を
溶解した。その水溶液に内温10’C以下に保持される
ようにして20%苛性ソーダ水溶液をpHが約9になる
まで滴下した。
(一般式[V]に相当する油状物生成、NMR。
マススペクトルおよびガスクロマトグラフィーより確認
した。)次に反応液に1−ブタノール150cc、 l
l−518gを加え、5時間還流した。
した。)次に反応液に1−ブタノール150cc、 l
l−518gを加え、5時間還流した。
反応後、冷却し、析出した結晶を濾取し、冷メタノール
と水で洗浄した。得られた結晶をアセトニトリルにより
再結し、目的物37.5gを得た。(収率85%、融点
156〜157℃) 液体クロマトグラフィーにより純度を求めたところ、9
90%の高純度のものであった。化合物の同定は、NM
Rスペクトル、マススペクトルで行ない、目的の化合物
であることを確認した。
と水で洗浄した。得られた結晶をアセトニトリルにより
再結し、目的物37.5gを得た。(収率85%、融点
156〜157℃) 液体クロマトグラフィーにより純度を求めたところ、9
90%の高純度のものであった。化合物の同定は、NM
Rスペクトル、マススペクトルで行ない、目的の化合物
であることを確認した。
一般式[]で示される他の化合物についても同様の合成
法により合成することができる。
法により合成することができる。
[発明の効果コ
本発明によれば作業安全性に問題がなく、安価に高収率
で純度の高い含窒素6員環化合物を製造することができ
る含窒素6員環化合物の製造方法を提供することができ
る。
で純度の高い含窒素6員環化合物を製造することができ
る含窒素6員環化合物の製造方法を提供することができ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式[ I ]で表される化合物を出発原料とし、得ら
れる中間体を単離することなく、該中間体と一般式[I
I]で表される化合物とを反応させることを特徴とする
一般式[III]で表される含窒素6員環化合物の製造方
法。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式[II] R_9−NH_2 一般式[III] ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R_1〜R_8は水素原子、アルキル基、または
アリール基を表わす。Xは▲数式、化学式、表等があり
ます▼、−S−、▲数式、化学式、表等があります▼を
表わす。R_9、R_1_0はアルキル基またはアリー
ル基を表わす。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2131758A JP3044383B2 (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | 含窒素6員環化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2131758A JP3044383B2 (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | 含窒素6員環化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0426683A true JPH0426683A (ja) | 1992-01-29 |
| JP3044383B2 JP3044383B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=15065496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2131758A Expired - Fee Related JP3044383B2 (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | 含窒素6員環化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3044383B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7030241B2 (en) * | 2001-02-16 | 2006-04-18 | Solvay Pharmaceuticals B.V. | Mesylates of piperazine derivatives and process for their preparation |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3834902A (en) | 1972-09-29 | 1974-09-10 | Eastman Kodak Co | Photographic material containing a mesylate compound as hardener and antifoggant |
-
1990
- 1990-05-22 JP JP2131758A patent/JP3044383B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7030241B2 (en) * | 2001-02-16 | 2006-04-18 | Solvay Pharmaceuticals B.V. | Mesylates of piperazine derivatives and process for their preparation |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3044383B2 (ja) | 2000-05-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |