JPH04123310A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH04123310A JPH04123310A JP24502290A JP24502290A JPH04123310A JP H04123310 A JPH04123310 A JP H04123310A JP 24502290 A JP24502290 A JP 24502290A JP 24502290 A JP24502290 A JP 24502290A JP H04123310 A JPH04123310 A JP H04123310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic recording
- recording medium
- sputtering
- gas
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、非磁性基材にＣｒ薄膜およびＣｏ合金薄膜を
積層した磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
積層した磁気記録媒体およびその製造方法に関するもの
である。
［従来の技術］
従来、磁気記録媒体としては非磁性基材上に酸化鉄など
の針状粒子を樹脂バインダー中に分散させ塗布した塗布
型磁気記録媒体が主流であった。しかしながら、近年の
情報の高密度記録化の要求から。
の針状粒子を樹脂バインダー中に分散させ塗布した塗布
型磁気記録媒体が主流であった。しかしながら、近年の
情報の高密度記録化の要求から。
湿式メツキ、真空蒸着、スパッタリング等の薄膜形成法
により形成された強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記
録媒体が開発されており、中でもスパッタリング法によ
り作製される磁気記録媒体が高密度記録特性および量産
性に優れるもので、今後の磁気記録媒体の主流になるも
のと考えられる。
により形成された強磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記
録媒体が開発されており、中でもスパッタリング法によ
り作製される磁気記録媒体が高密度記録特性および量産
性に優れるもので、今後の磁気記録媒体の主流になるも
のと考えられる。
所で、このスパッタリング法により作製される磁気記録
媒体（以下、メタルスパッタ媒体と称す、）は、一般的
にＮ１−Ｐ下地硬化層を設けた＾１−Ｍｇ基根上にＣｒ
薄膜、Ｃｏ合金薄膜、保護膜を順次形成することにより
得られる。ローディングチャンバー、基板加熱チャンバ
ー−Ｃｒカソード、Ｃｏ合金カソードおよび保護膜材カ
ソードを備えたスパッタリングチャンバーおよびアンロ
ーディングチャンバーから構成されるインライン型スパ
ッタリング装置により製造されるが、Ｃｒ薄膜、Ｃｏ合
金薄膜および保護膜を形成する方法としては、基板が各
ターゲットの前を通過しなから成膜を行う通過型、基板
がターゲットの前に静止し成膜を行う静止対向型がある
が、何れの方式においても、メタルスパッタ媒体をＩＩ
？する際の手順は同じである。
媒体（以下、メタルスパッタ媒体と称す、）は、一般的
にＮ１−Ｐ下地硬化層を設けた＾１−Ｍｇ基根上にＣｒ
薄膜、Ｃｏ合金薄膜、保護膜を順次形成することにより
得られる。ローディングチャンバー、基板加熱チャンバ
ー−Ｃｒカソード、Ｃｏ合金カソードおよび保護膜材カ
ソードを備えたスパッタリングチャンバーおよびアンロ
ーディングチャンバーから構成されるインライン型スパ
ッタリング装置により製造されるが、Ｃｒ薄膜、Ｃｏ合
金薄膜および保護膜を形成する方法としては、基板が各
ターゲットの前を通過しなから成膜を行う通過型、基板
がターゲットの前に静止し成膜を行う静止対向型がある
が、何れの方式においても、メタルスパッタ媒体をＩＩ
？する際の手順は同じである。
所で、このメタルスパッタ媒体で１ｉｉｌＦｉ！？度記
録を達成するためには、磁気特性の向上のみならず媒体
ノイズの低減が必要である９例えば刊行物（Ｊ、Ａｐｐ
ｌ。
録を達成するためには、磁気特性の向上のみならず媒体
ノイズの低減が必要である９例えば刊行物（Ｊ、Ａｐｐ
ｌ。
Ｐｂｙｓ、５９（２）、１５ Ｊａｎｕａｒｙ １９８
６ ｐ５５７〜ｐ５６３）に報告されているように、メ
タルスパッタ媒体の媒体ノイズは、γ−Ｆｅ２０ａ塗布
やＣｏ−Ｃｒ垂直媒体の媒体ノイズと比較して大きくこ
の大きな媒体ノイズは記録されたビットの磁化遷移領域
に発生するジグザグ磁壁の不規則性によるものである。
６ ｐ５５７〜ｐ５６３）に報告されているように、メ
タルスパッタ媒体の媒体ノイズは、γ−Ｆｅ２０ａ塗布
やＣｏ−Ｃｒ垂直媒体の媒体ノイズと比較して大きくこ
の大きな媒体ノイズは記録されたビットの磁化遷移領域
に発生するジグザグ磁壁の不規則性によるものである。
媒体ノイズを低減させる方法としては、例えば刊行物（
Ｊ、Ａｐｐｌ−Ｐｈｙｓ−６３（８）、１５ Ａｐｒｉ
ｌ １９ｇ＆ ｐ３２４８〜ｐ３２５３）に報告されて
いるように、磁性粒間に働＜ １ｎｔｅｒにｒａｎｕｌ
ａｒｅｘｃｈｅｎｇｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇを低減させて
やればよく、具体的には例えば刊行物（Ｉｎｔｅｒｍａ
ｇ ’９０ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ予稿集ＢＰ−０１）
に報告されているように、スパッタリング時のＡｒガス
圧を高め、結晶粒間の１ｓｏｌａｔｉｏｎを高めてやれ
ばよい。
Ｊ、Ａｐｐｌ−Ｐｈｙｓ−６３（８）、１５ Ａｐｒｉ
ｌ １９ｇ＆ ｐ３２４８〜ｐ３２５３）に報告されて
いるように、磁性粒間に働＜ １ｎｔｅｒにｒａｎｕｌ
ａｒｅｘｃｈｅｎｇｅ ｃｏｕｐｌｉｎｇを低減させて
やればよく、具体的には例えば刊行物（Ｉｎｔｅｒｍａ
ｇ ’９０ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ予稿集ＢＰ−０１）
に報告されているように、スパッタリング時のＡｒガス
圧を高め、結晶粒間の１ｓｏｌａｔｉｏｎを高めてやれ
ばよい。
［発明が解決しようとする課ｉｌｌ］
以上のように、メタルスパッタ媒体においても高密度化
を達成するためには、媒体ノイズの低減が必須である。
を達成するためには、媒体ノイズの低減が必須である。
そのために、従来、Ｃｒ薄膜およびＣｏ合金薄膜成膜時
のスパッタガスであるＡｒガス圧を高めていたが、Ａｒ
ガスを用いているので、媒体ノイズ低減に対して、ガス
圧の増大等の成膜条件による改善にも限度があり、より
一層の媒体ノイズ低減には結晶構造を考慮した新しい方
法が必要である。
のスパッタガスであるＡｒガス圧を高めていたが、Ａｒ
ガスを用いているので、媒体ノイズ低減に対して、ガス
圧の増大等の成膜条件による改善にも限度があり、より
一層の媒体ノイズ低減には結晶構造を考慮した新しい方
法が必要である。
本発明はかかる課題を解決するためになされたもので、
Ｃｏ合金薄膜の結晶性を制御し、媒体ノイズが低減され
、高密度記録に適した磁気記録媒体およびその製造方法
を得ることを目的とする。
Ｃｏ合金薄膜の結晶性を制御し、媒体ノイズが低減され
、高密度記録に適した磁気記録媒体およびその製造方法
を得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基材にＣｒＮ膜および
Ｃｏ合金薄膜を積層したものにおいて、上記Ｃｒ薄膜お
よびＣｏ合金薄膜がＫｒを含有することを特徴とするも
のである。
Ｃｏ合金薄膜を積層したものにおいて、上記Ｃｒ薄膜お
よびＣｏ合金薄膜がＫｒを含有することを特徴とするも
のである。
本発明の別の発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性
基材にＣｒ＃ＩＩおよびＣｏ合金薄膜をＫｒガスをスパ
ッタガスとして、スパッタリング法により積層するもの
である。
基材にＣｒ＃ＩＩおよびＣｏ合金薄膜をＫｒガスをスパ
ッタガスとして、スパッタリング法により積層するもの
である。
［作用コ
本発明において、Ｃｒ薄膜およびＣＯ合金薄膜形成時の
スパッタガスをＫｒとしているので、Ｃｏ合金薄膜の結
晶性が制御され、媒体ノイズが低減される。
スパッタガスをＫｒとしているので、Ｃｏ合金薄膜の結
晶性が制御され、媒体ノイズが低減される。
［実施例］
図面は本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図であり
、（１）はＡｌ−Ｍｇ基板、（２）はＮ１−Ｐ下地硬化
層で、Ａ１−Ｍｇ基板（１）およびＮ１−Ｐ下地硬化層
（２）により非磁性基材（１１）を構成しており、（３
）はＣｒ薄膜、（４）はＣｏ合金薄膜、（５）は保護層
である。
、（１）はＡｌ−Ｍｇ基板、（２）はＮ１−Ｐ下地硬化
層で、Ａ１−Ｍｇ基板（１）およびＮ１−Ｐ下地硬化層
（２）により非磁性基材（１１）を構成しており、（３
）はＣｒ薄膜、（４）はＣｏ合金薄膜、（５）は保護層
である。
実施例
非磁性基板として−Ｎｉ−Ｐ下地硬化層が設けられたＡ
Ｉ −Ｍ ｇ基板にテクスチャー加工を施したものを
用い、ｃｏ合金としてＧ Ｏ６２，ＳＮ ｉ ３＠Ｃｒ
ｖ、ｓの組成のＣｏ Ｎ ｉ Ｃｒを、保護膜材とし
てはカーボンを用いた。Ｃｒ薄膜およびＣｏ Ｎ ｉ
Ｃｒ薄膜の膜厚をそれぞれ２Ｃｏ０人、５Ｃｏ人としス
パッタガスとしてＫｒを用いた。基板温度は２Ｃｏ℃と
した。また、カーボン薄膜はＡｒガスをスパッタガスと
して４Ｃｏ人形成し、本発明の一実施例の磁気記録媒体
を得た。
Ｉ −Ｍ ｇ基板にテクスチャー加工を施したものを
用い、ｃｏ合金としてＧ Ｏ６２，ＳＮ ｉ ３＠Ｃｒ
ｖ、ｓの組成のＣｏ Ｎ ｉ Ｃｒを、保護膜材とし
てはカーボンを用いた。Ｃｒ薄膜およびＣｏ Ｎ ｉ
Ｃｒ薄膜の膜厚をそれぞれ２Ｃｏ０人、５Ｃｏ人としス
パッタガスとしてＫｒを用いた。基板温度は２Ｃｏ℃と
した。また、カーボン薄膜はＡｒガスをスパッタガスと
して４Ｃｏ人形成し、本発明の一実施例の磁気記録媒体
を得た。
比較例
Ｃｒ薄膜およびＣｏ Ｎ ｉ Ｃｒ ｉｉｌ膜形成時の
スパッタガスとしてＡｒガスを用いる他は、実施例と同
様にして磁気記録媒体を得た。
スパッタガスとしてＡｒガスを用いる他は、実施例と同
様にして磁気記録媒体を得た。
以上のようにして得た本発明の実施例および比較例の磁
気記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力型（ＶＳＭ）に
て、電気特性は薄膜磁気ヘッドを用いて、記録周波数を
ｌＦ２．１ＭＨ２，８／３Ｆ５．９ＭＨ２，相対速度５
．６１／ｓｅｅ、ノイズ帯域１１．８ＭＨ２にて測定し
た。磁気特性及び電気特性のスパッタガス圧依存性を表
に示す、実施例および比較例を比較すると、同じスパッ
タガス圧において、保磁力は同程度であり、Ｂｒ・δに
おいては実施例の方が高い値を示しており、分解能およ
びオーバライド（０／Ｗ）は同程度である。媒体ノイズ
は実施例の方が小さく、再生出力の差もかみ合って、Ｓ
／Ｎにおいては実施例の方が全てのガス圧において。
気記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力型（ＶＳＭ）に
て、電気特性は薄膜磁気ヘッドを用いて、記録周波数を
ｌＦ２．１ＭＨ２，８／３Ｆ５．９ＭＨ２，相対速度５
．６１／ｓｅｅ、ノイズ帯域１１．８ＭＨ２にて測定し
た。磁気特性及び電気特性のスパッタガス圧依存性を表
に示す、実施例および比較例を比較すると、同じスパッ
タガス圧において、保磁力は同程度であり、Ｂｒ・δに
おいては実施例の方が高い値を示しており、分解能およ
びオーバライド（０／Ｗ）は同程度である。媒体ノイズ
は実施例の方が小さく、再生出力の差もかみ合って、Ｓ
／Ｎにおいては実施例の方が全てのガス圧において。
２〜３．６ｄＢ高い値を示している。
本発明の実施例の磁気記録媒体は、Ｃｒ薄膜およびＣＯ
合金薄膜形成時のスパッタガスとしてＫｒガスを用いて
いるため、従来のＡｒガスにより形成されたＣｒ薄膜お
よびＣｏ合金薄膜の結晶構造（結晶粒径、結晶間の１ｓ
ｏｌａｔｉｏｎ）と異なり、その構造変化により媒体ノ
イズが減少し、５／Ｎ比が向上している。
合金薄膜形成時のスパッタガスとしてＫｒガスを用いて
いるため、従来のＡｒガスにより形成されたＣｒ薄膜お
よびＣｏ合金薄膜の結晶構造（結晶粒径、結晶間の１ｓ
ｏｌａｔｉｏｎ）と異なり、その構造変化により媒体ノ
イズが減少し、５／Ｎ比が向上している。
なお、上記実施例では非磁性基材として、Ｎ１−Ｐ下地
硬化層が設けられたＡｌ−Ｍｇ基板にテクスチャー加工
を施したもの、Ｃｏ合金薄膜としてＣ。
硬化層が設けられたＡｌ−Ｍｇ基板にテクスチャー加工
を施したもの、Ｃｏ合金薄膜としてＣ。
８２．６Ｎ ｉ ３１ＩＣｒ ｔ、ｓａｔ％のＣｏＮｉ
Ｃｒ１ｌｌｌを形成した場合について説明したが、これ
に限らずガラス基板やセラミック基板等の他の基板また
はＣ。
Ｃｒ１ｌｌｌを形成した場合について説明したが、これ
に限らずガラス基板やセラミック基板等の他の基板また
はＣ。
ＣｒＴａ、ＣｏＣｒＶ、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＮｉＰｔ等
の他のＣｏ合金薄膜に適用しても同様の効果を呈する。
の他のＣｏ合金薄膜に適用しても同様の効果を呈する。
また、基板加熱温度、スパッタガス圧、膜厚等スパッタ
リング条件も上記実施例に限定されるものではない。
リング条件も上記実施例に限定されるものではない。
［発明の効果］
以上ＩＲ明した通り、本発明は非磁性基材に、Ｃｒ薄膜
およびＣｏ合金薄膜を積層したものにおいて。
およびＣｏ合金薄膜を積層したものにおいて。
上記Ｃｒ薄膜およびＣｏ合金薄膜がＫｒを含有すること
を特徴とするものを用いることにより、又本発明の別の
発明は、非磁性基材に薄膜右よびＣｏ合金薄膜を、Ｋｒ
ガスをスパッタガスとしてスパッタリング法により積層
することにより、 Ｃｒ Ｃｏ合金薄膜の結晶性を制御
し、媒体ノイズが低減され、高密度記録に適した磁気記
録媒体およびその製造方法を得ることができる。
を特徴とするものを用いることにより、又本発明の別の
発明は、非磁性基材に薄膜右よびＣｏ合金薄膜を、Ｋｒ
ガスをスパッタガスとしてスパッタリング法により積層
することにより、 Ｃｒ Ｃｏ合金薄膜の結晶性を制御
し、媒体ノイズが低減され、高密度記録に適した磁気記
録媒体およびその製造方法を得ることができる。
図面は、本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図であ
る。 図において、（１１）は非磁性基材、（３）はＣｒ薄膜
。 （４）はＣｏ合金薄膜である。
る。 図において、（１１）は非磁性基材、（３）はＣｒ薄膜
。 （４）はＣｏ合金薄膜である。
Claims (2)
- （１）非磁性基材にＣｒ薄膜およびＣｏ合金薄膜を積層
したものにおいて、上記Ｃｒ薄膜およびＣｏ合金薄膜が
Ｋｒを含有することを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）非磁性基材に、Ｃｒ薄膜およびＣｏ合金薄膜を、
Ｋｒガスをスパッタガスとしてスパッタリング法により
積層する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24502290A JPH04123310A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24502290A JPH04123310A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04123310A true JPH04123310A (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=17127413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24502290A Pending JPH04123310A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04123310A (ja) |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP24502290A patent/JPH04123310A/ja active Pending
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