JPH04272916A - ポリシロキサンイミドの製造方法 - Google Patents
ポリシロキサンイミドの製造方法Info
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- JPH04272916A JPH04272916A JP3267534A JP26753491A JPH04272916A JP H04272916 A JPH04272916 A JP H04272916A JP 3267534 A JP3267534 A JP 3267534A JP 26753491 A JP26753491 A JP 26753491A JP H04272916 A JPH04272916 A JP H04272916A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/452—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences
- C08G77/455—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing nitrogen-containing sequences containing polyamide, polyesteramide or polyimide sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G73/106—Polyimides containing other atoms than carbon, hydrogen, nitrogen or oxygen in the main chain containing silicon
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- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリシロキサン
イミドの製造方法に関する。
イミドの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリシロキサン変性芳香族ポリイミドは
、ポリイミド鎖に組み込まれたシロキサン基(−Si(
R)2−O−)によって従来のポリイミドと構造が異な
る。そのような基の組み込みにより、芳香族ポリイミド
の溶解性および加工性が向上する。更に、吸水性が低下
し、種々の基材へのポリマーの接着性が向上する。この
ポリイミドの特性の向上は、ポリイミド鎖中の比較的小
さいシロキサン部分により達成され、ポリイミドの高耐
熱性が実質的に完全に維持される。マイクロエレクトロ
ニクスおよび飛行機において、接着剤として、被覆およ
び含浸材料として、特に、芳香族ポリシロキサンイミド
が使用される。
、ポリイミド鎖に組み込まれたシロキサン基(−Si(
R)2−O−)によって従来のポリイミドと構造が異な
る。そのような基の組み込みにより、芳香族ポリイミド
の溶解性および加工性が向上する。更に、吸水性が低下
し、種々の基材へのポリマーの接着性が向上する。この
ポリイミドの特性の向上は、ポリイミド鎖中の比較的小
さいシロキサン部分により達成され、ポリイミドの高耐
熱性が実質的に完全に維持される。マイクロエレクトロ
ニクスおよび飛行機において、接着剤として、被覆およ
び含浸材料として、特に、芳香族ポリシロキサンイミド
が使用される。
【0003】ポリシロキサンイミドの製造方法が、例え
ば、ヨーロッパ特許出願公開0 328 027、同0
328 028および同0295 561から知られ
ている。これらの全ての方法において、芳香族カルボン
酸二無水物、特にベンゾフェノン−3,3’,4,4’
−テトラカルボン酸二無水物が、ジアミノ有機ポリシロ
キサンおよび芳香族ジアミンと反応する。それにより、
水の分離によってイミド化しなければならないポリアミ
ド酸が中間体として得られる。すなわち、二工程である
ポリアミド酸の脱水を熱的または化学的に行わなければ
ならない。
ば、ヨーロッパ特許出願公開0 328 027、同0
328 028および同0295 561から知られ
ている。これらの全ての方法において、芳香族カルボン
酸二無水物、特にベンゾフェノン−3,3’,4,4’
−テトラカルボン酸二無水物が、ジアミノ有機ポリシロ
キサンおよび芳香族ジアミンと反応する。それにより、
水の分離によってイミド化しなければならないポリアミ
ド酸が中間体として得られる。すなわち、二工程である
ポリアミド酸の脱水を熱的または化学的に行わなければ
ならない。
【0004】水の分離は容易でなく、また、定量的に行
うこともできない。不完全な脱水は、最終生成物の特性
に悪影響を与える。予備工程を構成するポリアミド酸が
フィルム、被膜等への加工に用いられ、脱水がこれらの
生成物について行われる場合にも、このことは維持され
る。何故ならば、分離された水が生成物中にいわゆる「
ミクロホール」を形成し、機械的特性が劣化するからで
ある。
うこともできない。不完全な脱水は、最終生成物の特性
に悪影響を与える。予備工程を構成するポリアミド酸が
フィルム、被膜等への加工に用いられ、脱水がこれらの
生成物について行われる場合にも、このことは維持され
る。何故ならば、分離された水が生成物中にいわゆる「
ミクロホール」を形成し、機械的特性が劣化するからで
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、この
点において芳香族ポリシロキサンイミドの製造方法を改
良することにある。
点において芳香族ポリシロキサンイミドの製造方法を改
良することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、ベンゾ
フェノン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無
水物を、式: NH2−R−[−Si(R’)2O−]n−S
i(R’)2−R−NH2 (I)〔式
中、RおよびR’はそれぞれ脂肪族または芳香族の二価
基または一価基、およびnは1より大きい整数を表す。 〕 で示されるジアミノ有機ポリシロキサン、並びに2,4
−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートと反応
させることからなり、使用するベンゾフェノン−3,3
’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物を基準にジア
ミノ有機ポリシロキサンは1〜10モル%の量で、2,
4−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートは9
9〜90%モル%の量で用いるポリシロキサンイミドの
製造方法に存する。R基は、好ましくは炭素原子数1〜
5のアルキレンまたはフェニレン基、R’基は好ましく
は炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニル基を表す
。 好ましくは、式: NH2−(CH2)3−[Si(CH3)2O
]n−Si(CH3)2−(CH2)3−NH2 (
II) 〔式中、nは5〜25の整数を表す。〕で示されるジア
ミノポリジメチルシロキサンが使用される。
フェノン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無
水物を、式: NH2−R−[−Si(R’)2O−]n−S
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中、RおよびR’はそれぞれ脂肪族または芳香族の二価
基または一価基、およびnは1より大きい整数を表す。 〕 で示されるジアミノ有機ポリシロキサン、並びに2,4
−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートと反応
させることからなり、使用するベンゾフェノン−3,3
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ミノ有機ポリシロキサンは1〜10モル%の量で、2,
4−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートは9
9〜90%モル%の量で用いるポリシロキサンイミドの
製造方法に存する。R基は、好ましくは炭素原子数1〜
5のアルキレンまたはフェニレン基、R’基は好ましく
は炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニル基を表す
。 好ましくは、式: NH2−(CH2)3−[Si(CH3)2O
]n−Si(CH3)2−(CH2)3−NH2 (
II) 〔式中、nは5〜25の整数を表す。〕で示されるジア
ミノポリジメチルシロキサンが使用される。
【0007】反応は、二無水物基準で10モル%を越え
ないジアミノシロキサンを用いて行うことが必要である
。何故ならば、そうでなければ、縮合生成物が完全にイ
ミド化された状態で存在しないからである。更に、ジア
ミノシロキサンが反応混合物中に無水物基準で3〜5モ
ル%の量で存在する場合、最終生成物がほとんど水を吸
収せず、高い接着性を示すことがわかった。
ないジアミノシロキサンを用いて行うことが必要である
。何故ならば、そうでなければ、縮合生成物が完全にイ
ミド化された状態で存在しないからである。更に、ジア
ミノシロキサンが反応混合物中に無水物基準で3〜5モ
ル%の量で存在する場合、最終生成物がほとんど水を吸
収せず、高い接着性を示すことがわかった。
【0008】本発明の好ましい態様は、2,4−及び/
又は2,6−トルエンジイソシアネートが部分的に4,
4’−メチレンビス(フェニルイソシアネート)と置き
換えられており、2,4−及び/又は2,6−トルエン
ジイソシアネートと4,4’−メチレンビス(フェニル
イソシアネート)との最良のモル比が70〜99:30
〜1であることを含む。
又は2,6−トルエンジイソシアネートが部分的に4,
4’−メチレンビス(フェニルイソシアネート)と置き
換えられており、2,4−及び/又は2,6−トルエン
ジイソシアネートと4,4’−メチレンビス(フェニル
イソシアネート)との最良のモル比が70〜99:30
〜1であることを含む。
【0009】反応は、非プロトン溶媒中、20℃〜16
0℃、好ましくは70℃〜90℃の温度で行うことがで
きる。特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシドまたはN−メチルピロリド
ンを溶媒として用いることができる。すなわち、ポリシ
ロキサンイミドの溶液が形成され、それをそのまま更に
処理するか、またはそれからポリシロキサンイミドを(
イソプロピルアルコールにより)沈殿させることができ
る。溶媒の量は、反応後にポリシロキサンイミドが15
〜40重量%の濃度で存在するように選択される。
0℃、好ましくは70℃〜90℃の温度で行うことがで
きる。特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシドまたはN−メチルピロリド
ンを溶媒として用いることができる。すなわち、ポリシ
ロキサンイミドの溶液が形成され、それをそのまま更に
処理するか、またはそれからポリシロキサンイミドを(
イソプロピルアルコールにより)沈殿させることができ
る。溶媒の量は、反応後にポリシロキサンイミドが15
〜40重量%の濃度で存在するように選択される。
【0010】反応は、ポリイミド化学において知られて
いる反応促進剤の存在下に行うことができる。米国特許
第4,156,065号、同第4,094,866号お
よび同第4,001,186号に開示されている促進剤
が特に好適である。
いる反応促進剤の存在下に行うことができる。米国特許
第4,156,065号、同第4,094,866号お
よび同第4,001,186号に開示されている促進剤
が特に好適である。
【0011】本発明の方法は、ジイソシアネートを、ジ
アミノ有機ポリシロキサンの導入と同時、その前または
その後に反応混合物に導入する三種類の方法で行うこと
ができる。2,4−及び/又は2,6−トルエンジイソ
シアネートを、要すれば4,4’−メチレンビス(フェ
ニルイソシアネート)と混合して、ベンゾフェノン−3
,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物とジアミ
ノ有機ポリシロキサンの混合物に導入するように本発明
の方法を行うと、狭い分子量分布のポリシロキサンイミ
ドが得られる。これに対して、ジアミノ有機ポリシロキ
サンを、ベンゾフェノン−3,3’,4,4’−テトラ
カルボン酸二無水物、2,4−及び/又は2,6−トル
エンジイソシアネート、並びに要すれば4,4’−メチ
レンビス(フェニルイソシアネート)からなる混合物に
導入すると、分子量が高く分布の広いポリシロキサンイ
ミドが得られる。最後に、ジイソシアネートおよびジア
ミノ有機ポリシロキサンを、二無水物の溶液に同時に導
入すると、ジイソシアネートの前にジアミノシロキサン
を添加する場合に得られるのと同様の分子量および分布
を有するポリシロキサンイミドが得られる。
アミノ有機ポリシロキサンの導入と同時、その前または
その後に反応混合物に導入する三種類の方法で行うこと
ができる。2,4−及び/又は2,6−トルエンジイソ
シアネートを、要すれば4,4’−メチレンビス(フェ
ニルイソシアネート)と混合して、ベンゾフェノン−3
,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物とジアミ
ノ有機ポリシロキサンの混合物に導入するように本発明
の方法を行うと、狭い分子量分布のポリシロキサンイミ
ドが得られる。これに対して、ジアミノ有機ポリシロキ
サンを、ベンゾフェノン−3,3’,4,4’−テトラ
カルボン酸二無水物、2,4−及び/又は2,6−トル
エンジイソシアネート、並びに要すれば4,4’−メチ
レンビス(フェニルイソシアネート)からなる混合物に
導入すると、分子量が高く分布の広いポリシロキサンイ
ミドが得られる。最後に、ジイソシアネートおよびジア
ミノ有機ポリシロキサンを、二無水物の溶液に同時に導
入すると、ジイソシアネートの前にジアミノシロキサン
を添加する場合に得られるのと同様の分子量および分布
を有するポリシロキサンイミドが得られる。
【0012】反応の進行は、IR分光分析により(NC
Oまたはアミド酸吸収の消滅により)観察することがで
きる。反応混合物中のCO2発生の終了は、同時に反応
の終了を示している。
Oまたはアミド酸吸収の消滅により)観察することがで
きる。反応混合物中のCO2発生の終了は、同時に反応
の終了を示している。
【0013】反応終了後、30〜80ml/gの対数粘
度数(DMF/1%LiBr中25℃においてc=0.
5g/dl)を有する粘性の明るい黄色ないし褐色を帯
びた赤色のポリシロキサンイミド溶液が得られる。ゲル
パーミエイションクロマトグラフィーにより決められた
ポリマーの分子量は、30000〜150000(分子
量分布D1.8〜4)であった。
度数(DMF/1%LiBr中25℃においてc=0.
5g/dl)を有する粘性の明るい黄色ないし褐色を帯
びた赤色のポリシロキサンイミド溶液が得られる。ゲル
パーミエイションクロマトグラフィーにより決められた
ポリマーの分子量は、30000〜150000(分子
量分布D1.8〜4)であった。
【0014】本発明により製造されるポリシロキサンイ
ミドは、粉末、フィルム、繊維、造形部材および被膜の
製造に用いることができる。
ミドは、粉末、フィルム、繊維、造形部材および被膜の
製造に用いることができる。
【0015】以下の実施例により本発明をより詳細に説
明する。
明する。
【0016】実施例1
撹拌機、還流冷却器、温度計および窒素フラッシング装
置を備えた1000mlフラスコ中で、ベンゾフェノン
−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物16
1g(0.5モル)を乾燥DMF704gに溶解した。 反応混合物を80℃に加熱し、定速撹拌下、15分かけ
て、α,ω−ジアミノポリジメチルシロキサン(n=1
2)〔ゴールドシュミット社(Goldschmidt
AG)製のテゴ(Tego) オー・エフ(OF)
2010〕を添加した。その後、80モル%のトルエン
ジイソシアネートと20モル%のメチレンビス(フェニ
ルイソシアネート)からなるジイソシアネート混合物9
0g(0.475モル)を、定速撹拌下に4時間かけて
滴加した。得られた重縮合溶液を、CO2の発生が完了
するまで更に撹拌すると、IR分光分析により遊離NC
O基およびアミド酸基は検出されなかった。
置を備えた1000mlフラスコ中で、ベンゾフェノン
−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物16
1g(0.5モル)を乾燥DMF704gに溶解した。 反応混合物を80℃に加熱し、定速撹拌下、15分かけ
て、α,ω−ジアミノポリジメチルシロキサン(n=1
2)〔ゴールドシュミット社(Goldschmidt
AG)製のテゴ(Tego) オー・エフ(OF)
2010〕を添加した。その後、80モル%のトルエン
ジイソシアネートと20モル%のメチレンビス(フェニ
ルイソシアネート)からなるジイソシアネート混合物9
0g(0.475モル)を、定速撹拌下に4時間かけて
滴加した。得られた重縮合溶液を、CO2の発生が完了
するまで更に撹拌すると、IR分光分析により遊離NC
O基およびアミド酸基は検出されなかった。
【0017】得られたポリシロキサンイミド溶液は、対
数粘度数が40ml/g(DMF/1%LiBr中25
℃においてc=0.5g/dl)であり、分子量分布D
=2.5において分子量が70000であった。
数粘度数が40ml/g(DMF/1%LiBr中25
℃においてc=0.5g/dl)であり、分子量分布D
=2.5において分子量が70000であった。
【0018】イソプロパノールの添加によりポリシロキ
サンイミドを沈殿させ、明黄色の沈殿物を濾過し、洗い
、乾燥した。粉末のガラス転移温度は302℃(パーキ
ン・エルマー示差走査熱量計DSC−4により窒素中、
加熱速度20℃/分で測定)であった。このポリシロキ
サンイミドのフーリエ変換IRスペクトルは、1780
cm−1および720cm−1における特性イミドバン
ドに加えて、1000cm−1と1100cm−1の間
に広いSi−O−Siのバンドを明らかに示した。
サンイミドを沈殿させ、明黄色の沈殿物を濾過し、洗い
、乾燥した。粉末のガラス転移温度は302℃(パーキ
ン・エルマー示差走査熱量計DSC−4により窒素中、
加熱速度20℃/分で測定)であった。このポリシロキ
サンイミドのフーリエ変換IRスペクトルは、1780
cm−1および720cm−1における特性イミドバン
ドに加えて、1000cm−1と1100cm−1の間
に広いSi−O−Siのバンドを明らかに示した。
【0019】得られたポシシロキサンイミド溶液から、
実験室用フィルム成形装置によりガラスプレート上にフ
ィルムを成形することができた。フィルムを、循環空気
キャビネット中、50℃で16時間、および真空乾燥機
中、280℃で1時間の乾燥プログラムに付した。この
ようにして製造したフィルムの残留溶媒含量は1%以下
であった。このフィルムのLOI(ASTM D 28
63により決めた極限酸素指数)値は、41%O2であ
った。室温において水中に24時間貯蔵した後の、この
フィルムの吸水量は1.63%であった。
実験室用フィルム成形装置によりガラスプレート上にフ
ィルムを成形することができた。フィルムを、循環空気
キャビネット中、50℃で16時間、および真空乾燥機
中、280℃で1時間の乾燥プログラムに付した。この
ようにして製造したフィルムの残留溶媒含量は1%以下
であった。このフィルムのLOI(ASTM D 28
63により決めた極限酸素指数)値は、41%O2であ
った。室温において水中に24時間貯蔵した後の、この
フィルムの吸水量は1.63%であった。
【0020】空気中450℃で240分後のこのポリシ
ロキサンイミドの重量損失は、41重量%であった(パ
ーキン・エルマー TGS−2により測定)。
ロキサンイミドの重量損失は、41重量%であった(パ
ーキン・エルマー TGS−2により測定)。
【0021】実施例2〜4
実施例1に記載の手順い従い、ジイソシアネート成分及
び/又はα,ω−ポリジメチルシロキサンの量を変化さ
せて他のポリシロキサンイミドを製造した。反応混合物
の組成およびそれぞれのポリシロキサンイミドの特性デ
ータを、表1に示す。全ての実施例において、ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物161g(0.5モル
)を用いた。
び/又はα,ω−ポリジメチルシロキサンの量を変化さ
せて他のポリシロキサンイミドを製造した。反応混合物
の組成およびそれぞれのポリシロキサンイミドの特性デ
ータを、表1に示す。全ての実施例において、ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物161g(0.5モル
)を用いた。
【0022】
【表1】
実施例番号 ジイソシアネート テゴ OF
2010 DMF Tg
g(モル) g(
モル) g
2 84.4(0.485)TDI
15.9(0.015) 655
315℃ 3 82.7
(0.475)TDI 26.6(0.025)
683 309℃ 4
62.7(0.36) TDI
53.2(0.05) 774
290℃ 22.5
(0.09) MDI 注) TDI:トルエンジイソシアネート(
2,4−及び/又は2,6−異性体) MDI:4,4’−メチレンビス(フェニルイソシアネ
ート) テゴ OF 2010:ポリジメチルシロキサン、n=
12 Tg:パーキン・エルマー DSC−4により窒素中加
熱速度20℃/分で測定
2010 DMF Tg
g(モル) g(
モル) g
2 84.4(0.485)TDI
15.9(0.015) 655
315℃ 3 82.7
(0.475)TDI 26.6(0.025)
683 309℃ 4
62.7(0.36) TDI
53.2(0.05) 774
290℃ 22.5
(0.09) MDI 注) TDI:トルエンジイソシアネート(
2,4−及び/又は2,6−異性体) MDI:4,4’−メチレンビス(フェニルイソシアネ
ート) テゴ OF 2010:ポリジメチルシロキサン、n=
12 Tg:パーキン・エルマー DSC−4により窒素中加
熱速度20℃/分で測定
【0023】表2は実施例1〜4により製造したポリイ
ミドシロキサンの特性熱重量分析データを示す。測定は
、パーキン・エルマー熱重量分析装置TGS−2を用い
て、空気中、加熱速度20℃/分で行った。
ミドシロキサンの特性熱重量分析データを示す。測定は
、パーキン・エルマー熱重量分析装置TGS−2を用い
て、空気中、加熱速度20℃/分で行った。
【0024】
【表2】
実施例番号 5重量%損失時 450℃で
の 690℃での
の温度 重量損失
残留重量 1 436℃
6.7% 6
.2% 2 450℃
5% 3.2
% 3 442℃
6.2% 6.3%
4 412℃
9% 10.7%
の 690℃での
の温度 重量損失
残留重量 1 436℃
6.7% 6
.2% 2 450℃
5% 3.2
% 3 442℃
6.2% 6.3%
4 412℃
9% 10.7%
【0025
】実施例5 撹拌機、還流冷却器、温度計および窒素フラッシング装
置を備えた1000mlフラスコ中で、ベンゾフェノン
−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物16
1g(0.5モル)を乾燥DMF704gに溶解した。 反応混合物を80℃に加熱し、80モル%のトルエンジ
イソシアネートと20モル%のメチレンビス(フェニル
イソシアネート)からなるジイソシアネート混合物90
g(0.475モル)を、定速撹拌下に4時間で滴加し
た。その後、直ちに、α,ω−ジアミノポリジメチルシ
ロキサン(n=12)〔ゴールドシュミット社製のテゴ
・オー・エフ 2010〕26.6g(0.025モル
)を、定速撹拌下に15分かけて滴加した。得られた重
縮合溶液をCO2の発生が完了するまで80℃で更に撹
拌すると、IR分光分析により遊離NCO基は検出され
ず、僅かなアミド酸結合が検出された。
】実施例5 撹拌機、還流冷却器、温度計および窒素フラッシング装
置を備えた1000mlフラスコ中で、ベンゾフェノン
−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物16
1g(0.5モル)を乾燥DMF704gに溶解した。 反応混合物を80℃に加熱し、80モル%のトルエンジ
イソシアネートと20モル%のメチレンビス(フェニル
イソシアネート)からなるジイソシアネート混合物90
g(0.475モル)を、定速撹拌下に4時間で滴加し
た。その後、直ちに、α,ω−ジアミノポリジメチルシ
ロキサン(n=12)〔ゴールドシュミット社製のテゴ
・オー・エフ 2010〕26.6g(0.025モル
)を、定速撹拌下に15分かけて滴加した。得られた重
縮合溶液をCO2の発生が完了するまで80℃で更に撹
拌すると、IR分光分析により遊離NCO基は検出され
ず、僅かなアミド酸結合が検出された。
【0026】得られたポリシロキサンイミド溶液は、対
数粘度数が51ml/g(DMF/1%LiBr中25
℃においてc=0.5g/dl)であり、分子量分布D
=3.5において分子量が99000であった。
数粘度数が51ml/g(DMF/1%LiBr中25
℃においてc=0.5g/dl)であり、分子量分布D
=3.5において分子量が99000であった。
【0027】実施例6
撹拌機、還流冷却器、温度計および窒素フラッシング装
置を備えた1000mlフラスコ中で、ベンゾフェノン
−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物16
1g(0.5モル)を乾燥DMF704gに溶解した。 反応混合物を80℃に加熱し、80モル%のトルエンジ
イソシアネートと20モル%のメチレンビス(フェニル
イソシアネート)からなるジイソシアネート混合物90
g(0.475モル)、および同時にα,ω−ジアミノ
ポリジメチルシロキサン(n=12)〔ゴールドシュミ
ット社製のテゴ・オー・エフ 2010〕26.6g(
0.025モル)を、定速撹拌下に4時間で滴加した。 得られた重縮合溶液をCO2の発生が完了するまで80
℃で更に撹拌すると、IR分光分析により遊離NCO基
は検出されず、僅かのアミド酸結合が検出された。
置を備えた1000mlフラスコ中で、ベンゾフェノン
−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物16
1g(0.5モル)を乾燥DMF704gに溶解した。 反応混合物を80℃に加熱し、80モル%のトルエンジ
イソシアネートと20モル%のメチレンビス(フェニル
イソシアネート)からなるジイソシアネート混合物90
g(0.475モル)、および同時にα,ω−ジアミノ
ポリジメチルシロキサン(n=12)〔ゴールドシュミ
ット社製のテゴ・オー・エフ 2010〕26.6g(
0.025モル)を、定速撹拌下に4時間で滴加した。 得られた重縮合溶液をCO2の発生が完了するまで80
℃で更に撹拌すると、IR分光分析により遊離NCO基
は検出されず、僅かのアミド酸結合が検出された。
【0028】得られたポリシロキサンイミド溶液は、対
数粘度数が41ml/g(DMF/1%LiBr中25
℃においてc=0.5g/dl)であり、分子量分布D
=2.45において分子量が73000であった。
数粘度数が41ml/g(DMF/1%LiBr中25
℃においてc=0.5g/dl)であり、分子量分布D
=2.45において分子量が73000であった。
Claims (11)
- 【請求項1】 ベンゾフェノン−3,3’,4,4’
−テトラカルボン酸二無水物を、式: NH2−R−[−Si(R’)2O−]n−S
i(R’)2−R−NH2 (I)〔式
中、RおよびR’はそれぞれ脂肪族または芳香族の二価
基または一価基、およびnは1より大きい整数を表す。 〕 で示されるジアミノ有機ポリシロキサン、並びに2,4
−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートと反応
させることからなり、使用するベンゾフェノン−3,3
’,4,4’−テトラカルボン酸二無水物を基準にジア
ミノ有機ポリシロキサンは1〜10モル%の量で、2,
4−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートは9
9〜90%モル%の量で用いるポリシロキサンイミドの
製造方法。 - 【請求項2】 2,4−及び/又は2,6−トルエン
ジイソシアネートを部分的に4,4’−メチレンビス(
フェニルイソシアネート)と置き換える請求項1記載の
方法。 - 【請求項3】 2,4−及び/又は2,6−トルエン
ジイソシアネートと4,4’−メチレンビス(フェニル
イソシアネート)が70〜99:30〜1のモル比で存
在する請求項2記載の方法。 - 【請求項4】 反応を非プロトン溶媒中、20℃〜1
60℃の範囲の温度で行い、ポリシロキサンイミドを沈
澱させることを更に含む請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 温度範囲が70℃〜90℃である請求
項4記載の方法。 - 【請求項6】 2,4−及び/又は2,6−トルエン
ジイソシアネートを、ベンゾフェノン−3,3’,4,
4’−テトラカルボン酸二無水物およびジアミノ有機ポ
リシロキサンを含む混合物中に導入する請求項4記載の
方法。 - 【請求項7】 2,4−及び/又は2,6−トルエン
ジイソシアネートを、4,4’−メチレンビス(フェニ
ルイソシアネート)と混合する請求項6記載の方法。 - 【請求項8】 ジアミノ有機ポリシロキサンを、ベン
ゾフェノン−3,3’,4,4’−テトラカルボン酸二
無水物と2,4−及び/又は2,6−トルエンジイソシ
アネートとを含む混合物に導入する請求項4記載の方法
。 - 【請求項9】 混合物が4,4’−メチレンビス(フ
ェニルイソシアネート)も含む請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 ジアミノ有機ポリシロキサンと2,
4−及び/又は2,6−トルエンジイソシアネートを、
同時にベンゾフェノン−3,3’,4,4’−テトラカ
ルボン酸二無水物に導入する請求項4記載の方法。 - 【請求項11】 2,4−及び/又は2,6−トルエ
ンジイソシアネートが4,4’−メチレンビス(フェニ
ルイソシアネート)と混合されている請求項10記載の
方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT208790A AT394728B (de) | 1990-10-16 | 1990-10-16 | Verfahren zur herstellung von polysiloxanimiden |
| AT2087/90 | 1990-10-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04272916A true JPH04272916A (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=3527478
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3267534A Pending JPH04272916A (ja) | 1990-10-16 | 1991-10-16 | ポリシロキサンイミドの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0487487A3 (ja) |
| JP (1) | JPH04272916A (ja) |
| AT (1) | AT394728B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013129720A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-07-04 | Nitta Corp | イミド変性シリコーンエラストマー |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2923848B2 (ja) * | 1995-03-03 | 1999-07-26 | 株式会社巴川製紙所 | 新規なポリイミド及びその製造方法 |
| CN111925528B (zh) * | 2020-08-28 | 2022-08-09 | 常州市恒纶纺织有限公司 | 一种酰胺改性聚硅氧烷的制备方法 |
| CN115746298B (zh) * | 2022-10-19 | 2024-05-31 | 北京宇航系统工程研究所 | 聚硅氧烷-聚酰亚胺-聚脲共聚物、制备方法以及隔热涂层及制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6022902A (ja) * | 1983-07-15 | 1985-02-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 分離膜 |
| US4808686A (en) * | 1987-06-18 | 1989-02-28 | General Electric Company | Silicone-polyimides, and method for making |
| US4948400A (en) * | 1988-06-30 | 1990-08-14 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Separation membranes and process for preparing the same |
| JPH02286706A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | ポリイミド共重合体の製造方法 |
-
1990
- 1990-10-16 AT AT208790A patent/AT394728B/de not_active IP Right Cessation
-
1991
- 1991-10-07 EP EP19910890234 patent/EP0487487A3/de not_active Withdrawn
- 1991-10-16 JP JP3267534A patent/JPH04272916A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013129720A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-07-04 | Nitta Corp | イミド変性シリコーンエラストマー |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0487487A2 (de) | 1992-05-27 |
| EP0487487A3 (en) | 1992-08-12 |
| AT394728B (de) | 1992-06-10 |
| ATA208790A (de) | 1991-11-15 |
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