JPH04275985A - 高強度セメント硬化体の製造方法 - Google Patents
高強度セメント硬化体の製造方法Info
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Landscapes
- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セメント硬化体を炭酸
ガス中で養生して、炭酸化を容易に、かつ短時間で内部
まで進行させて、高強度のセメント硬化体を得ることが
できる高強度セメント硬化体の製造方法に関する。
ガス中で養生して、炭酸化を容易に、かつ短時間で内部
まで進行させて、高強度のセメント硬化体を得ることが
できる高強度セメント硬化体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、炭酸化によるセメント硬化体の強
度を増進させる方法として、セメントの水和により析出
したCa(OH)2 を炭酸ガスと接触させることによ
りCaCO3 に変化させ、セメント硬化体の細孔を埋
め、強度を増進させる方法が知られている。また、石灰
と骨材、水等とを混練し、これを加圧成形した後炭酸ガ
スと接触させることにより、石灰の成分であるCa(0
H)2 をCaCO3 に変化させて成形体の空隙を埋
め、高強度を発現させる方法、セメントと石灰とを混合
したものを、骨材、水等と混練して成形し、セメント硬
化体の空隙を埋める方法等が知られている。
度を増進させる方法として、セメントの水和により析出
したCa(OH)2 を炭酸ガスと接触させることによ
りCaCO3 に変化させ、セメント硬化体の細孔を埋
め、強度を増進させる方法が知られている。また、石灰
と骨材、水等とを混練し、これを加圧成形した後炭酸ガ
スと接触させることにより、石灰の成分であるCa(0
H)2 をCaCO3 に変化させて成形体の空隙を埋
め、高強度を発現させる方法、セメントと石灰とを混合
したものを、骨材、水等と混練して成形し、セメント硬
化体の空隙を埋める方法等が知られている。
【0003】しかしながら、これらの従来方法では内部
まで炭酸化しにくく、内部まで炭酸化するためには長時
間を必要としていた。そこで、炭酸化を迅速に進行させ
るため、加圧した炭酸ガス中で養生したり、圧力の異な
る系の間に硬化体を置き、炭酸ガスを通過させる等の方
法が試みられているが、これらの方法は施設が大がかり
なものとなるという欠点を有している。また、高周波加
熱により硬化体の含水率を調節し、均一にすることによ
り炭酸化を迅速に進行させる方法等も知られているが、
特殊な装置を必要とするため実用的ではない。
まで炭酸化しにくく、内部まで炭酸化するためには長時
間を必要としていた。そこで、炭酸化を迅速に進行させ
るため、加圧した炭酸ガス中で養生したり、圧力の異な
る系の間に硬化体を置き、炭酸ガスを通過させる等の方
法が試みられているが、これらの方法は施設が大がかり
なものとなるという欠点を有している。また、高周波加
熱により硬化体の含水率を調節し、均一にすることによ
り炭酸化を迅速に進行させる方法等も知られているが、
特殊な装置を必要とするため実用的ではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明はセメント硬化
体の炭酸化を容易に、かつ短時間で内部まで進行させて
、高強度のセメント硬化体を得ることができる高強度セ
メント硬化体の製造方法を提供することを目的とする。
体の炭酸化を容易に、かつ短時間で内部まで進行させて
、高強度のセメント硬化体を得ることができる高強度セ
メント硬化体の製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前述のように、セメント
の水和により析出したCa(OH)2 を炭酸ガスと接
触させることにより、CaCO3 に変化させ、このC
aCO3 がセメントの水和により出来た細孔を埋め、
細孔量を減少させる作用をすることが知られている。
の水和により析出したCa(OH)2 を炭酸ガスと接
触させることにより、CaCO3 に変化させ、このC
aCO3 がセメントの水和により出来た細孔を埋め、
細孔量を減少させる作用をすることが知られている。
【0006】一方、セメントは水と接触するとカルシウ
ム等のイオンが水に溶出し、水中のイオンが飽和状態に
達したところでCa(0H)2 を析出し、硬化してい
くが、このときイオンの溶けている水溶液に炭酸ガスが
接触するとカルシウムイオンがCaCO3 に変化し、
水溶液中のイオン濃度が下がるためにセメント粒子から
のイオンの溶出が促進される。この炭酸ガスによる水和
促進の面からは注水直後に炭酸ガスと接触させることが
好ましいが、余り早くから炭酸ガスと接触させると、セ
メントが硬化していないために前記の細孔量を減少させ
るという効果が発揮されないこととなる。
ム等のイオンが水に溶出し、水中のイオンが飽和状態に
達したところでCa(0H)2 を析出し、硬化してい
くが、このときイオンの溶けている水溶液に炭酸ガスが
接触するとカルシウムイオンがCaCO3 に変化し、
水溶液中のイオン濃度が下がるためにセメント粒子から
のイオンの溶出が促進される。この炭酸ガスによる水和
促進の面からは注水直後に炭酸ガスと接触させることが
好ましいが、余り早くから炭酸ガスと接触させると、セ
メントが硬化していないために前記の細孔量を減少させ
るという効果が発揮されないこととなる。
【0007】本発明者らはこのような炭酸ガスによるセ
メントの水和促進作用と、生成したCaCO3 が細孔
を埋めるという作用とを共に考慮して、最も高強度が得
られる条件について種々研究の結果、特に圧縮強度が0
.1kgf/cm2 以上、好ましくは1kgf/cm
2 以上となったときに炭酸ガスと接触させると、水和
により出来た細孔が埋まり、しかも水和が余り進行して
いない状態なので炭酸化による水和促進にも効果があり
、高強度が達成されることを見出した。
メントの水和促進作用と、生成したCaCO3 が細孔
を埋めるという作用とを共に考慮して、最も高強度が得
られる条件について種々研究の結果、特に圧縮強度が0
.1kgf/cm2 以上、好ましくは1kgf/cm
2 以上となったときに炭酸ガスと接触させると、水和
により出来た細孔が埋まり、しかも水和が余り進行して
いない状態なので炭酸化による水和促進にも効果があり
、高強度が達成されることを見出した。
【0008】本発明の高強度セメント硬化体の製造方法
は、セメント、骨材及び水を混練し、得られるセメント
硬化体を成形して養生を行い、圧縮強度が0.1kgf
/cm2 以上に達したら脱型し、その後炭酸ガス中で
養生することを手段とする。
は、セメント、骨材及び水を混練し、得られるセメント
硬化体を成形して養生を行い、圧縮強度が0.1kgf
/cm2 以上に達したら脱型し、その後炭酸ガス中で
養生することを手段とする。
【0009】更に本発明の高強度セメント硬化体の製造
方法は、ポルトランドセメント20〜50重量部及び骨
材80〜50重量部を混合し、更に水/セメント比0.
35〜0.70となるように水を加えて混練し、得られ
るセメント硬化体を成形して養生を行い、圧縮強度が1
kgf/cm2 以上に達したら脱型し、その後30〜
80℃の炭酸ガス中で養生することを手段とする。
方法は、ポルトランドセメント20〜50重量部及び骨
材80〜50重量部を混合し、更に水/セメント比0.
35〜0.70となるように水を加えて混練し、得られ
るセメント硬化体を成形して養生を行い、圧縮強度が1
kgf/cm2 以上に達したら脱型し、その後30〜
80℃の炭酸ガス中で養生することを手段とする。
【0010】本発明方法によれば、従来の方法に比して
格段に速い速度でセメント硬化体の炭酸化が進行し、高
強度のセメント硬化体を製造することができる。
格段に速い速度でセメント硬化体の炭酸化が進行し、高
強度のセメント硬化体を製造することができる。
【0011】本発明方法においては、使用されるセメン
トの種類、骨材の種類、セメントと骨材との混合比率、
水/セメント比については特に限定されない。セメント
としては、市販品の各種セメント又は公知の特殊セメン
トを使用することができ、好ましくは一般に市販されて
いるポルトランドセメントが使用される。
トの種類、骨材の種類、セメントと骨材との混合比率、
水/セメント比については特に限定されない。セメント
としては、市販品の各種セメント又は公知の特殊セメン
トを使用することができ、好ましくは一般に市販されて
いるポルトランドセメントが使用される。
【0012】本発明方法を実施するに際しては、例えば
ポルトランドセメント20〜50重量部及び骨材80〜
50重量部を混合し、更に水/セメント比0.35〜0
.70となるように水を加えて混練する。次いで、得ら
れるセメント硬化体を抄造、注型等により成形して養生
を行い、圧縮強度が0.1kgf/cm2 以上、好ま
しくは1kgf/cm2 以上となったときに脱型し、
その後30〜80℃の炭酸ガス中で1〜3日間養生する
。
ポルトランドセメント20〜50重量部及び骨材80〜
50重量部を混合し、更に水/セメント比0.35〜0
.70となるように水を加えて混練する。次いで、得ら
れるセメント硬化体を抄造、注型等により成形して養生
を行い、圧縮強度が0.1kgf/cm2 以上、好ま
しくは1kgf/cm2 以上となったときに脱型し、
その後30〜80℃の炭酸ガス中で1〜3日間養生する
。
【0013】また、本発明方法では圧縮強度が0.1k
gf/cm2 以上、好ましくは1kgf/cm2 以
上に達したら脱型が行われるが、最大値の圧縮強度は約
300kgf/cm2 程度である。
gf/cm2 以上、好ましくは1kgf/cm2 以
上に達したら脱型が行われるが、最大値の圧縮強度は約
300kgf/cm2 程度である。
【0014】また、炭酸ガスは濃度が低いものでよく、
好ましくは3%以上である。炭酸ガス温度は特に限定さ
れないが、30〜80℃の範囲が好ましい。炭酸ガス以
外の成分を含んでいる燃焼廃ガス等も温度だけを調整し
て使用することができる。
好ましくは3%以上である。炭酸ガス温度は特に限定さ
れないが、30〜80℃の範囲が好ましい。炭酸ガス以
外の成分を含んでいる燃焼廃ガス等も温度だけを調整し
て使用することができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
。
。
【0016】実施例1
JIS標準モルタルに基づき、普通ポルトランドセメン
ト又は早強ポルトランドセメント33重量部に、それぞ
れ標準砂67重量部及び水21.5重量部(W/C=0
.65)を加えてモルタルを成形した。次いで、20℃
湿空養生を圧縮強度が0.1、1、10、50、100
kgf/cm2 となるまで行い、温度60℃、濃度1
0%の炭酸ガス中で3日間養生した。このモルタルの曲
げ強度及び炭酸化深さを測定し、その結果を表1に示す
。
ト又は早強ポルトランドセメント33重量部に、それぞ
れ標準砂67重量部及び水21.5重量部(W/C=0
.65)を加えてモルタルを成形した。次いで、20℃
湿空養生を圧縮強度が0.1、1、10、50、100
kgf/cm2 となるまで行い、温度60℃、濃度1
0%の炭酸ガス中で3日間養生した。このモルタルの曲
げ強度及び炭酸化深さを測定し、その結果を表1に示す
。
【0017】比較例1
上記実施例1と同様にしてモルタルを成形し、次いで2
0℃湿空養生を圧縮強度が400kgf/cm2 とな
るまで行い、温度60℃、濃度10%の炭酸ガス中で3
日間養生した。このモルタルの曲げ強度及び炭酸化深さ
を測定し、その結果を表1に示す。
0℃湿空養生を圧縮強度が400kgf/cm2 とな
るまで行い、温度60℃、濃度10%の炭酸ガス中で3
日間養生した。このモルタルの曲げ強度及び炭酸化深さ
を測定し、その結果を表1に示す。
【0018】実施例2
JIS標準モルタルに基づき、普通ポルトランドセメン
ト又は早強ポルトランドセメント25重量部に、それぞ
れ標準砂75重量部及び水16.3重量部(W/C=0
.65)を加えてモルタルを成形した。次いで、20℃
湿空養生を圧縮強度が0.1、1、10、50、100
kgf/cm2 となるまで行い、温度60℃、濃度1
0%の炭酸ガス中で3日間養生した。このモルタルの曲
げ強度及び炭酸化深さを測定し、その結果を表1に示す
。
ト又は早強ポルトランドセメント25重量部に、それぞ
れ標準砂75重量部及び水16.3重量部(W/C=0
.65)を加えてモルタルを成形した。次いで、20℃
湿空養生を圧縮強度が0.1、1、10、50、100
kgf/cm2 となるまで行い、温度60℃、濃度1
0%の炭酸ガス中で3日間養生した。このモルタルの曲
げ強度及び炭酸化深さを測定し、その結果を表1に示す
。
【0019】比較例2
上記実施例2と同様にしてモルタルを成形し、次いで2
0℃湿空養生を圧縮強度が400kgf/cm2 とな
るまで行い、温度60℃、濃度10%の炭酸ガス中で3
日間養生した。このモルタルの曲げ強度及び炭酸化深さ
を測定し、その結果を表1に示す。
0℃湿空養生を圧縮強度が400kgf/cm2 とな
るまで行い、温度60℃、濃度10%の炭酸ガス中で3
日間養生した。このモルタルの曲げ強度及び炭酸化深さ
を測定し、その結果を表1に示す。
【0020】実施例3
JIS標準モルタルに基づき、普通ポルトランドセメン
ト又は早強ポルトランドセメント33重量部に、それぞ
れ標準砂67重量部及び水18重量部(W/C=0.5
5)を加えてモルタルを成形した。次いで、20℃湿空
養生を圧縮強度が0.1、1、10、50、100kg
f/cm2 となるまで行い、温度60℃、濃度10%
の炭酸ガス中で3日間養生した。このモルタルの曲げ強
度及び炭酸化深さを測定し、その結果を表2に示す。
ト又は早強ポルトランドセメント33重量部に、それぞ
れ標準砂67重量部及び水18重量部(W/C=0.5
5)を加えてモルタルを成形した。次いで、20℃湿空
養生を圧縮強度が0.1、1、10、50、100kg
f/cm2 となるまで行い、温度60℃、濃度10%
の炭酸ガス中で3日間養生した。このモルタルの曲げ強
度及び炭酸化深さを測定し、その結果を表2に示す。
【0021】比較例3
上記実施例3と同様にしてモルタルを成形し、次いで2
0℃湿空養生を圧縮強度が400kgf/cm2 とな
るまで行い、温度60℃、濃度10%の炭酸ガス中で3
日間養生した。このモルタルの曲げ強度及び炭酸化深さ
を測定し、その結果を表2に示す。
0℃湿空養生を圧縮強度が400kgf/cm2 とな
るまで行い、温度60℃、濃度10%の炭酸ガス中で3
日間養生した。このモルタルの曲げ強度及び炭酸化深さ
を測定し、その結果を表2に示す。
【0022】
【表1】
【0023】
【表2】
【0024】上記の実施例1、2及び3より明白なよう
に、圧縮強度が1kgf/cm2 以上となったときに
脱型したものが最も曲げ強度が大きくなっている。また
、水/セメント比、骨材/セメント比を変化させてもこ
の傾向は変わっていない。
に、圧縮強度が1kgf/cm2 以上となったときに
脱型したものが最も曲げ強度が大きくなっている。また
、水/セメント比、骨材/セメント比を変化させてもこ
の傾向は変わっていない。
【0025】
【発明の効果】本発明の高強度セメント硬化体の製造方
法によれば、炭酸ガスによるセメントの水和促進作用と
、生成したCaCO3 が細孔を埋めるという作用とを
共に考慮して、圧縮強度が0.1kgf/cm2 以上
となったときに炭酸ガスと接触させることにより、水和
により出来た細孔が埋まり、しかも水和が余り進行して
いない状態なので炭酸化による水和促進にも効果があり
、従って炭酸化が容易に、かつ短時間で内部まで進行し
、高強度のセメント硬化体を得ることができる。
法によれば、炭酸ガスによるセメントの水和促進作用と
、生成したCaCO3 が細孔を埋めるという作用とを
共に考慮して、圧縮強度が0.1kgf/cm2 以上
となったときに炭酸ガスと接触させることにより、水和
により出来た細孔が埋まり、しかも水和が余り進行して
いない状態なので炭酸化による水和促進にも効果があり
、従って炭酸化が容易に、かつ短時間で内部まで進行し
、高強度のセメント硬化体を得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 セメント、骨材及び水を混練し、得ら
れるセメント硬化体を成形して養生を行い、圧縮強度が
0.1kgf/cm2 以上に達したら脱型し、その後
炭酸ガス中で養生することを特徴とする高強度セメント
硬化体の製造方法。 - 【請求項2】 ポルトランドセメント20〜50重量
部及び骨材80〜50重量部を混合し、更に水/セメン
ト比0.35〜0.70となるように水を加えて混練し
、得られるセメント硬化体を成形して養生を行い、圧縮
強度が1kgf/cm2 以上に達したら脱型し、その
後30〜80℃の炭酸ガス中で養生することを特徴とす
る高強度セメント硬化体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5770091A JPH04275985A (ja) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | 高強度セメント硬化体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5770091A JPH04275985A (ja) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | 高強度セメント硬化体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04275985A true JPH04275985A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=13063212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5770091A Pending JPH04275985A (ja) | 1991-03-01 | 1991-03-01 | 高強度セメント硬化体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04275985A (ja) |
-
1991
- 1991-03-01 JP JP5770091A patent/JPH04275985A/ja active Pending
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