JPH0428877A - 無電解銅めっき液 - Google Patents

無電解銅めっき液

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Publication number
JPH0428877A
JPH0428877A JP13647990A JP13647990A JPH0428877A JP H0428877 A JPH0428877 A JP H0428877A JP 13647990 A JP13647990 A JP 13647990A JP 13647990 A JP13647990 A JP 13647990A JP H0428877 A JPH0428877 A JP H0428877A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
soln
electroless copper
plating solution
complexing agent
Prior art date
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Pending
Application number
JP13647990A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Ouchi
孝志 大内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は無電解銅めっき液に関する 〔従来の技術〕 一般に無電解銅めっき液は銅塩、銅の錯化剤、水酸化ア
ルカリおよびホルムアルデヒドの水溶液からなり、めっ
き析出反応の安定性や析出銅皮膜の特性を向上させるも
のとして、特開昭62−59181公報に示されている
ように、上記成分にさらに一種類以上の安定剤を添加含
有させる方法がある。しかし、銅の錯化剤を固体の状態
で添加含有させた場合には、めっき析出反応が不安定に
なったり、析出銅皮膜の特性が低下してしまうという問
題点があった。
〔発明が解決しようとする課題〕
無電解銅めっき液に銅の錯化剤を固体の状態で添加含有
させる方法は、銅の錯化剤に付随する塵埃が無電解銅め
っき液に混入し、塵埃自身が銅めっきされ、銅粒子が生
成することでめっき析出反応が不安定にしたり、析出銅
皮膜の特性を低下させる原因になるという問題点があっ
た。本発明はめっき析出反応の安定性、析出銅皮膜の特
性共に優れる無電解銅めっき液を提供するものである。
(課題を解決するための手段〕 本発明による無電解銅めっき液は、銅の錯化剤としてエ
ヂレンジアミン四酢酸水7容液もしくは1チレンジアミ
ン四酢酸塩水溶液を添加している。
銅イオン供給源となる銅塩は硫酸銅 5水塩を使用し、
その濃度範囲として0,01〜0. l O−ol/ 
1がよく用いられている。ホルムアルデヒドは0.01
5〜0.10 mol/ 1の濃度範囲が好ましい92
2′−ジピリジル、フェロシアン化カリウム及び分子量
2000のポリエチレングリコールの>7. 度範囲は
それぞれ15〜70■/1.1〜5■/1及び1〜5g
/βが好ましい。この無電解銅めっき液は65〜75℃
の温度範囲で使用することが好ましく、また水酸化ナト
リウムによりpHを調整し、そのpH域は11.5〜1
3,0の範囲が適当である。
本発明の特徴はこのようなめっき液に、銅の錯化剤とし
てエチレンジアミン四酢酸水溶液もしくはエチレンジア
ミン四酢酸塩水溶液を添加することにある。これら銅の
錯化剤の使用量は、銅イオンを十分に錯体化するに足る
置板上であればよく、0、05−0.30mol/j!
の濃度範囲で使用するのが好ましい。また、これら銅の
錯化剤の含量及びpト(はそれぞれ45〜50%及び1
0.5〜1] 5の範囲内にあることが、銅の錯化剤の
保存安定性の点が好ましい。
銅の錯化剤として使用するエチレンジアミン四酢酸水溶
液もしくはエチレンジアミン四酢酸塩水溶液は、錯化剤
に付随する塵埃が無電解銅めっきに及ぼす影響を十分に
抑制できるように孔径10μm以下のフィルターで濾過
したものを使用する。
〔作用〕
銅の錯化剤として孔径10μ−以下のフィルターで濾過
したエチレンジアミン四酢酸水溶液もしくはエチレンジ
アミン四酢酸塩水溶液を使用することにより、無電解銅
めっき液に銅の錯化剤を固体の状態で添加含有させる方
法に較べて、無電解銅めっき液に混入する銅の錯化剤に
付随する塵埃の数量が減少する。その結果塵埃自身が銅
めっきされ、生成する銅粒子の数量が減少し、めっき析
出反応が安定し、析出銅皮膜の特性が優れる無電解銅め
っき液が提供される。
〔実施例〕
ここで用いた無電解銅めっき液の基本組成は、硫酸銅・
5水塩0.06 mol/ l、ホルムアルデヒド0、
08 mol/ 1及び水酸化ナトリウムをpHが12
5に調整されるように添加したものである。実施例はエ
チレンジアミン四酢酸四ナトリウム水溶液2molを孔
径10μmの循環式フィルターで濾過した後、上記の基
本浴に添加したもので、また比較例はエチレンジアミン
四酢酸2101を上記の基本浴に添加したもので、各々
のめっき液21を孔径0.45μ−のメンブランフィル
タ−で吸引濾過し捕捉された塵埃の数量を測定した。。
この結果を第1表に示す。
第1表 この結果から実施例は比較例に比較して塵埃の数量が約
11分の1と少なく、また塵埃の大きさも小さいことが
明らかである。
次に実際にめっき析出反応の安定性や析出銅皮膜の特性
を調べるために、実施例では10μmのフィルターで濾
過したエチレンジアミン四酢酸四ナトリウム水溶液0.
30蒙01を上記の基本浴に添加し、比較例ではエチレ
ンジアミン四酢酸0.3m。
lを上記の基本浴に添加し、両者の浴にさらに22′−
ジピリジル、フェロシアン化カリウム及び分子量200
0のポリエチレングリコールをそれぞれ10■/1.1
■/1及びIg/7!を添加含有させた容121の無電
解銅めっき液を液温72℃、pH12,5に保ち、負荷
4d+dのSUS板に銅皮膜を約30μm析出させた。
この時めっき析出反応の安定性を調べるために、めっき
浴中の銅粒子の発生状況を調べると共に銅皮膜の展性に
ついて調べた。これを5回行った。
この結果を第2表に示ず。
第2表 この結果から実施例は銅粒子が生成せずめっき浴が安定
しており、これにより性銅皮膜の展性が比較例に較べて
優れていることが明らかである。
〔発明の効果〕
以上のことから無電解銅めっき液の銅の錯化剤として、
孔径10μm以下のフィルターで濾過したエチレンジア
ミン四酢酸水溶液もしくはエチレンジアミン四酢酸塩水
溶液を添加含有させることによって、無電解銅めっき液
中の塵埃の数量及び大きさが低減し、その結果めっき液
中で銅粒子が生成しにくくなり、めっき浴が安定し、析
出銅皮膜の特性が向上することが確かめられた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.銅塩、エチレンジアミン四酢酸もしくはエチレンジ
    アミン四酢酸塩、還元剤としてホルムアルデヒド、安定
    剤として2,2′−ジピリジルもしくはフェロシアン化
    カリウム及びポリエチレングリコールを添加含有してい
    る無電解銅めっき液において、孔径10μm以下のフィ
    ルターで濾過したエチレンジアミン四酢酸水溶液もしく
    はエチレンジアミン四酢酸塩水溶液とを添加含有させて
    いることを特徴とする無電解銅めっき液。
JP13647990A 1990-05-25 1990-05-25 無電解銅めっき液 Pending JPH0428877A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8191538B2 (en) 2006-04-25 2012-06-05 Mahle International Gmbh Deaerating and aerating device for a supercharged internal combustion engine

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8191538B2 (en) 2006-04-25 2012-06-05 Mahle International Gmbh Deaerating and aerating device for a supercharged internal combustion engine

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