JPH0429053B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0429053B2 JPH0429053B2 JP62047624A JP4762487A JPH0429053B2 JP H0429053 B2 JPH0429053 B2 JP H0429053B2 JP 62047624 A JP62047624 A JP 62047624A JP 4762487 A JP4762487 A JP 4762487A JP H0429053 B2 JPH0429053 B2 JP H0429053B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- plate
- lithographic printing
- treatment
- waterless lithographic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は水なし平版印刷版の製版方法に関する
ものであり、特に検版性に優れた水なし平版印刷
版の製版方法に関するものである。
ものであり、特に検版性に優れた水なし平版印刷
版の製版方法に関するものである。
[従来技術]
感光層、シリコーンゴム層からなる水なし平版
印刷版としては、種々のものが知られている。中
でも、支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に設けてなる画像形成用積層体を塩基処
理することによつて、ネガ、ポジ両性タイプの水
なし平版印刷版を得る方法は、特開昭59−17552
に開示されているように、水なし平版印刷版の画
像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラ
チチユードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同
一の版材からできること等の優れた特徴を有して
いる。
印刷版としては、種々のものが知られている。中
でも、支持体上にキノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層
をこの順に設けてなる画像形成用積層体を塩基処
理することによつて、ネガ、ポジ両性タイプの水
なし平版印刷版を得る方法は、特開昭59−17552
に開示されているように、水なし平版印刷版の画
像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めた現像ラ
チチユードを広げ、かつネガ型とポジ型の版が同
一の版材からできること等の優れた特徴を有して
いる。
また、特開昭60−28654には画像露光し、かつ
塩基処理した後、または塩基処理と同時に水また
は水を主成分とする現像液を用いて画像形成する
方法が提案されている。さらに特開昭57−
205740、特開昭60−169852、特開昭60−192948に
は画像露光し、現像の前または後に塩基処理を行
ない非画線部を定着する方法が開示されている。
塩基処理した後、または塩基処理と同時に水また
は水を主成分とする現像液を用いて画像形成する
方法が提案されている。さらに特開昭57−
205740、特開昭60−169852、特開昭60−192948に
は画像露光し、現像の前または後に塩基処理を行
ない非画線部を定着する方法が開示されている。
これらの従来技術による水なし平版印刷版の製
版方法において、塩基処理を行なうと、非画線部
感光層が褐色に変色するため画線部と非画線部が
区別しにくくなり、検版性が著しく悪くなつた
り、版の脱色むら等で版のイメージが悪くなるな
どの欠点を有している。
版方法において、塩基処理を行なうと、非画線部
感光層が褐色に変色するため画線部と非画線部が
区別しにくくなり、検版性が著しく悪くなつた
り、版の脱色むら等で版のイメージが悪くなるな
どの欠点を有している。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明者らは、かかる問題点を解決すべく鋭意
検討した結果、塩基処理後に有機酸を含む処理液
で処理することが好適であることを見出し、本発
明に到達した。
検討した結果、塩基処理後に有機酸を含む処理液
で処理することが好適であることを見出し、本発
明に到達した。
本発明の目的は、簡単な処理により耐刷性、耐
溶剤性、耐スクラツチ性等を低下することなく、
褐色に変色された非画線部を脱色し、検版性の優
れた水なし平版印刷版を得ることができる製版方
法を提供することにある。
溶剤性、耐スクラツチ性等を低下することなく、
褐色に変色された非画線部を脱色し、検版性の優
れた水なし平版印刷版を得ることができる製版方
法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
すなわち、本発明は支持体上にキノンジアジド
構造を含む物質を構成成分とする感光層およびシ
リコーンゴム層をこの順に塗設してなる水なし平
版印刷版を、画像露光した後、現像と同時または
現像の前および/または後に塩基処理を施し、続
いて有機酸を含む処理液で処理することを特徴と
する水なし平版印刷版の製版方法に関するもので
ある。
構造を含む物質を構成成分とする感光層およびシ
リコーンゴム層をこの順に塗設してなる水なし平
版印刷版を、画像露光した後、現像と同時または
現像の前および/または後に塩基処理を施し、続
いて有機酸を含む処理液で処理することを特徴と
する水なし平版印刷版の製版方法に関するもので
ある。
本発明で用いられる支持体は特に限定されない
が、通常の水なし平版印刷版で用いられるもの、
あるいは提案されているものならば、いずれでも
よい。
が、通常の水なし平版印刷版で用いられるもの、
あるいは提案されているものならば、いずれでも
よい。
例えば、アルミ、鉄、亜鉛のような金属板およ
びポリエステル、ポリオレフイン、ポリスチレン
のような透明または不透明なプラスチツクフイル
ム、あるいは両者の複合体などが挙げられる。こ
れらのシート上にハレーシヨン防止その他の目的
でさらに樹脂層などをコーテイングして支持体と
することも可能である。
びポリエステル、ポリオレフイン、ポリスチレン
のような透明または不透明なプラスチツクフイル
ム、あるいは両者の複合体などが挙げられる。こ
れらのシート上にハレーシヨン防止その他の目的
でさらに樹脂層などをコーテイングして支持体と
することも可能である。
本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジ
ド構造を含む物質から構成されているものであ
り、キノンジアジド構造を含む物質とは、通常ポ
ジ型PS版、ワイポン版、フオトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類である。
ド構造を含む物質から構成されているものであ
り、キノンジアジド構造を含む物質とは、通常ポ
ジ型PS版、ワイポン版、フオトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類である。
かかるキノンジアジド類としては、例えばベン
ゾキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−また
は−5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−または−5−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また低
分量のキノンジアジド化合物(例えば、ナフトキ
ノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と、フ
エノール、クレゾール、キシレノール、カテコー
ル、ピロガロールおよびビスフエノールAなどと
のエステル化物など)または上記のキノンジアジ
ド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラツク
樹脂(例えば、フエノール、クレゾール、キシレ
ノール、カテコールおよびピロガロールなどのフ
エノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存
在下に縮合させて得られる可溶可融性樹脂など)
を単に混合してもよい。さらに特開昭56−80046
号公報で提案されているようなキノンジアジド類
を多官能化合物で架橋せしめた光剥離性感光層が
挙げられる。
ゾキノン−1,2−ジアジド−4−または−5−
スルホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステ
ル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−また
は−5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂
とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−または−5−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂またはカシユ変性ノ
ボラツク樹脂とのエステルが挙げられる。また低
分量のキノンジアジド化合物(例えば、ナフトキ
ノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と、フ
エノール、クレゾール、キシレノール、カテコー
ル、ピロガロールおよびビスフエノールAなどと
のエステル化物など)または上記のキノンジアジ
ド基を含む樹脂に感光性基を含まないノボラツク
樹脂(例えば、フエノール、クレゾール、キシレ
ノール、カテコールおよびピロガロールなどのフ
エノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存
在下に縮合させて得られる可溶可融性樹脂など)
を単に混合してもよい。さらに特開昭56−80046
号公報で提案されているようなキノンジアジド類
を多官能化合物で架橋せしめた光剥離性感光層が
挙げられる。
架橋剤としては、多官能性イソシアナート類、
例えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,
4−または2,6−トリレンジイソシアナート、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナートもしくはこれらのアダクト体など、
あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル類、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルなど
がある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を
失わせない範囲、通常130℃以下で行なうことが
好ましく、このため通常触媒等が併用される。
例えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,
4−または2,6−トリレンジイソシアナート、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナートもしくはこれらのアダクト体など、
あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル類、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルなど
がある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を
失わせない範囲、通常130℃以下で行なうことが
好ましく、このため通常触媒等が併用される。
またキノンジアジド類に単官能化合物を反応さ
せて変性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方
法としては、同様に該キノンジアジド類の活性な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化す
ることなどが挙げられる。キノンジアジド類の活
性な基と反応させる化合物としては、低分子であ
つても比較的高分子であつてもよいし、キノンジ
アジド類にモノマをグラフト重合させてもよい。
せて変性し、現像液に難溶もしくは不溶にする方
法としては、同様に該キノンジアジド類の活性な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化す
ることなどが挙げられる。キノンジアジド類の活
性な基と反応させる化合物としては、低分子であ
つても比較的高分子であつてもよいし、キノンジ
アジド類にモノマをグラフト重合させてもよい。
本発明で用いられる感光層として特に好ましい
ものは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れたものである。
ものは、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂の部分エステル化物を多官能もしくは単
官能イソシアネートで架橋もしくは変性して得ら
れたものである。
感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.5
〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホ
ール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経
済的見地から不利である。
〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホ
ール等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経
済的見地から不利である。
また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成性の向上や支持体との接着性向上など
の目的で他の成分を加えたりすることは可能であ
る。
で塗膜形成性の向上や支持体との接着性向上など
の目的で他の成分を加えたりすることは可能であ
る。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次の
ような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものが
好ましく使用される。
ような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするものが
好ましく使用される。
ここでnは2以上の整数、R,R′は炭素数1
〜10のアルキル基、アルケニル基あるいはフエニ
ル基であり、R,R′の60%以上がメチル基であ
るものが好ましい。
〜10のアルキル基、アルケニル基あるいはフエニ
ル基であり、R,R′の60%以上がメチル基であ
るものが好ましい。
この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添
加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミノ
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等を添加してもよい。
加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミノ
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等を添加してもよい。
シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく現
像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り、画像再現性の低下をもたらす。
ましくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合
は耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚
すぎる場合は経済的に不利であるばかりでなく現
像時シリコーンゴム層を除去するのが困難とな
り、画像再現性の低下をもたらす。
本発明に用いられる印刷版において、支持体と
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接
着剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加
したりすることが可能である。特に感光層とシリ
コーンゴム層間の接着力のために、層間に公知の
シリコーンプライマやシランカツプリング剤層を
設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシ
リコーンプライマやシランカツプリング剤を添加
すると効果的である。
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとり
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接
着剤層を設けたり、各層に接着改良性成分を添加
したりすることが可能である。特に感光層とシリ
コーンゴム層間の接着力のために、層間に公知の
シリコーンプライマやシランカツプリング剤層を
設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシ
リコーンプライマやシランカツプリング剤を添加
すると効果的である。
以上説明したようにして構成された水なし平版
印刷版原版の表面に薄い保護フイルムをラミネー
トすることもできる。
印刷版原版の表面に薄い保護フイルムをラミネー
トすることもできる。
本発明で用いられる水なし平版印刷版原版は、
例えば次のようにして製造される。まず支持体上
に、リバースロールコータ、エアナイフコータ、
メーヤバーコータなどの通常のコータ、あるいは
ホエラのような回転塗布装置を用い、感光層を構
成すべき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応
じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に同様
な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーン
ガム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で
塗布し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理し
て、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成
する。必要ならば、保護フイルムを該シリコーン
ゴム層上にラミネーター等を用いカバーする。
例えば次のようにして製造される。まず支持体上
に、リバースロールコータ、エアナイフコータ、
メーヤバーコータなどの通常のコータ、あるいは
ホエラのような回転塗布装置を用い、感光層を構
成すべき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応
じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に同様
な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーン
ガム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で
塗布し、通常50〜130℃の温度で数分間熱処理し
て、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層を形成
する。必要ならば、保護フイルムを該シリコーン
ゴム層上にラミネーター等を用いカバーする。
このようにして得られた水なし平版印刷原版に
ポジフイルムまたはポジ原画、あるいはネガフイ
ルムまたはネガ原画を用いて画像露光を与えて現
像を行うと水なし平版印刷版が得られる。
ポジフイルムまたはポジ原画、あるいはネガフイ
ルムまたはネガ原画を用いて画像露光を与えて現
像を行うと水なし平版印刷版が得られる。
かかる水なし平版印刷原版の製版方法としては
次のようなものが挙げられる。例えば、ポジ型の
水なし平版印刷原版として用いる場合、真空密着
されたポジフイルムまたはポジ原画を通して、活
性光線で感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解
するように画像露光を与えて、塩基処理と現像を
行なうと、水なし平版印刷版が得られる。
次のようなものが挙げられる。例えば、ポジ型の
水なし平版印刷原版として用いる場合、真空密着
されたポジフイルムまたはポジ原画を通して、活
性光線で感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解
するように画像露光を与えて、塩基処理と現像を
行なうと、水なし平版印刷版が得られる。
一方、ネガ型の水なし平版印刷原版として用い
る場合、真空密着されたネガフイルムまたはネガ
原画を通して、活性光線で通常の画像露光(感光
層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジ
アジド単位の60モル%を越える量が光分解する露
光量)を与えてから、塩基処理後に現像、塩基処
理と同時に現像、または現像後に塩基処理を行な
うと水なし平版印刷版が得られる。より好ましく
は、通常の画像露光の前か後、または現像後に非
画線部の感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解
するように画像部を含めて全面露光を与えてか
ら、塩基処理後に現像、塩基処理と同時に現像、
または現像後に塩基処理を行なうとよい。
る場合、真空密着されたネガフイルムまたはネガ
原画を通して、活性光線で通常の画像露光(感光
層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジ
アジド単位の60モル%を越える量が光分解する露
光量)を与えてから、塩基処理後に現像、塩基処
理と同時に現像、または現像後に塩基処理を行な
うと水なし平版印刷版が得られる。より好ましく
は、通常の画像露光の前か後、または現像後に非
画線部の感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解
するように画像部を含めて全面露光を与えてか
ら、塩基処理後に現像、塩基処理と同時に現像、
または現像後に塩基処理を行なうとよい。
この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊
富に発生するものであり、水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、
螢光灯などを使うことができる。さらに紫外線以
外にもレーザー光等が用いられる。
富に発生するものであり、水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、
螢光灯などを使うことができる。さらに紫外線以
外にもレーザー光等が用いられる。
本発明において使用される塩基処理方法として
は、次のような方法が挙げられる。
は、次のような方法が挙げられる。
A ネガ型
(1) 全面露光→画像露光→塩基処理→現像
(2) 画像露光→全面露光→塩基処理→現像
(3) 全面露光→画像露光→現像と同時に塩基処理
(4) 画像露光→全面露光→現像と同時に塩基処理
(5) 全面露光→画像露光→現像→塩基処理
(6) 画像露光→全面露光→現像→塩基処理
(7) 画像露光→現像→全面露光→塩基処理
(8) 画像露光→現像→塩基処理
(9) 画像露光→塩基処理→現像
(10) 画像露光→現像と同時に塩基処理
B ポジ型
(1) 画像露光→塩基処理→現像
処理方法としては、本発明の塩基処理液に浸漬
するか、あるいはハケやパツドを用いて処理液で
均一に版面をぬらすか、また自動現像機のように
シヤワー方法で版面をぬらせばよい。
するか、あるいはハケやパツドを用いて処理液で
均一に版面をぬらすか、また自動現像機のように
シヤワー方法で版面をぬらせばよい。
処理時間は特に限定されず、使用する塩基の強
さと濃度によつて適宜選択できるが、通常処理液
にふれると即時に効果があらわれ、かつ長時間接
触させても何ら効果に変化はない。通常約10秒〜
5分程度でよい。
さと濃度によつて適宜選択できるが、通常処理液
にふれると即時に効果があらわれ、かつ長時間接
触させても何ら効果に変化はない。通常約10秒〜
5分程度でよい。
本発明の塩基処理に用いられる塩基としては、
アミン化合物(脂肪族鎖式アミン、脂肪族環式ア
ミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミンの一級、
二級、三級アミンおよびモノアミン、ジアミン、
トリアミン、テトラアミン、ポリアミンなど)な
どを挙げることができる。例えばアンモニア、メ
チルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン、プロピルアミン、ブチルアミン、アミルア
ミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジア
ミルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルア
ミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミ
ン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジア
ミン、ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、
N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジエ
チルベンジルアミン、N,N−ジプロピルベンジ
ルアミン、o−またはm−またはp−メトキシま
たはメチルベンジルアミン、N,N−ジ(メトキ
シベンジル)アミン、β−フエニルエチルアミ
ン、ε,δ−フエニルアミルアミン、γ−フエニ
ルプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、アニ
リン、モノメチルアニリン、ジメチルアニリン、
トルイジン、ベンジジン、αまたはβ−ナフチル
アミン、oまたはm−またはp−フエニレジアミ
ン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モル
ホリン、ウロトロビン、ジアザビシクロウンデカ
ン、ピロール、ピリジン、キノリン、ヒドラジ
ン、フエニルヒドラジン、N,N′−ジフエニル
ヒドラジン、ヒドロキシルアミン、尿素、セミカ
ルバジド、チオ尿素、水酸化テトラアルキルアン
モニウム、モノエタノールアミン、N−メチルエ
タノールアミン、N−エチルエタノールアミン、
N−n−ブチルエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノルアミン、2−(2−アミノ
エチル)エタノール、2−アミノ−2−メチル−
1,3−プロパンジオール、2−アミノ−1,3
−プロパジオール、2−アミノ−2−ヒドロキシ
メチル−1,3−プロパンジオール、3−ヒドロ
キシプロピルメチルアミン、4−ヒドロキシブチ
ルメチルアミン、3−メトキシプロピルアミン、
3−エトキシプロピルアミン、3−プロポキシプ
ロピルアミン、3−イソプロポキシプロピルアミ
ン、3−ブトキシプロピルアミン、3−イソブト
キシプロピルアミン、2−エチルヘキシロキシプ
ロピルアミン、2−エトキシエチルアミン、2−
プロポキシエチルアミン、2−ブトキシエチルア
ミン、2−(アミノエトキシ)エタノールなどが
用いられる。
アミン化合物(脂肪族鎖式アミン、脂肪族環式ア
ミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミンの一級、
二級、三級アミンおよびモノアミン、ジアミン、
トリアミン、テトラアミン、ポリアミンなど)な
どを挙げることができる。例えばアンモニア、メ
チルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン、プロピルアミン、ブチルアミン、アミルア
ミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジア
ミルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルア
ミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミ
ン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジア
ミン、ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、
N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジエ
チルベンジルアミン、N,N−ジプロピルベンジ
ルアミン、o−またはm−またはp−メトキシま
たはメチルベンジルアミン、N,N−ジ(メトキ
シベンジル)アミン、β−フエニルエチルアミ
ン、ε,δ−フエニルアミルアミン、γ−フエニ
ルプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、アニ
リン、モノメチルアニリン、ジメチルアニリン、
トルイジン、ベンジジン、αまたはβ−ナフチル
アミン、oまたはm−またはp−フエニレジアミ
ン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モル
ホリン、ウロトロビン、ジアザビシクロウンデカ
ン、ピロール、ピリジン、キノリン、ヒドラジ
ン、フエニルヒドラジン、N,N′−ジフエニル
ヒドラジン、ヒドロキシルアミン、尿素、セミカ
ルバジド、チオ尿素、水酸化テトラアルキルアン
モニウム、モノエタノールアミン、N−メチルエ
タノールアミン、N−エチルエタノールアミン、
N−n−ブチルエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノルアミン、2−(2−アミノ
エチル)エタノール、2−アミノ−2−メチル−
1,3−プロパンジオール、2−アミノ−1,3
−プロパジオール、2−アミノ−2−ヒドロキシ
メチル−1,3−プロパンジオール、3−ヒドロ
キシプロピルメチルアミン、4−ヒドロキシブチ
ルメチルアミン、3−メトキシプロピルアミン、
3−エトキシプロピルアミン、3−プロポキシプ
ロピルアミン、3−イソプロポキシプロピルアミ
ン、3−ブトキシプロピルアミン、3−イソブト
キシプロピルアミン、2−エチルヘキシロキシプ
ロピルアミン、2−エトキシエチルアミン、2−
プロポキシエチルアミン、2−ブトキシエチルア
ミン、2−(アミノエトキシ)エタノールなどが
用いられる。
これらの塩基は単独あるいは混合して、液状あ
るいは気相状で用いられる。液状の場合は例えば
塩基そのもの、あるいは溶液の形で用いられる。
溶液として用いる場合、溶媒は水または有機溶剤
または両者の混合溶液のいずれでもよい。
るいは気相状で用いられる。液状の場合は例えば
塩基そのもの、あるいは溶液の形で用いられる。
溶液として用いる場合、溶媒は水または有機溶剤
または両者の混合溶液のいずれでもよい。
現像液としては、水なし平版印刷版において通
常提案されているものが使用できる。例えば、
水、水に下記の極性溶剤を添加したものが好適で
ある。
常提案されているものが使用できる。例えば、
水、水に下記の極性溶剤を添加したものが好適で
ある。
アルコール類(メタノール、エタノールなど)
エーテル類(エチルセロソルブ、エチルカルビ
トール、ブチルカルビトールなど) エステル類(セロソルブアセテート、カルビト
ールアセテートなど) また塩基処理液でそのまま現像することも可能
である。
トール、ブチルカルビトールなど) エステル類(セロソルブアセテート、カルビト
ールアセテートなど) また塩基処理液でそのまま現像することも可能
である。
塩基処理した後、有機酸を含む処理液で処理す
る。その方法としては例えば次の方法が挙げら
る。
る。その方法としては例えば次の方法が挙げら
る。
(1) 塩基処理→現像→有機酸で処理
(2) 現像と同時に塩基処理→有機酸で処理
(3) 現像→塩基処理→有機酸で処理
この塩基処理後に使用される有機酸としては特
に限定されるものではないが、例えばカルボン
酸、スルホン酸、ホスホン酸などのいずれでもよ
いが、好ましい有機酸は炭素数2〜18で、かつ沸
点が140℃以上のカルボン酸である。より好まし
くは炭素数2〜18で、かつ沸点160℃以上のカル
ボン酸である。炭素数が2より小さく、沸点が
140℃より低い場合は、処理後の脱色性は十分で
あるが、版を放置しておくと発色してくるため好
ましくない。一方、炭素数が18を越えると、シリ
コーンゴム層を通して感光層への作用が小さく脱
色性に欠けるので好ましくない。
に限定されるものではないが、例えばカルボン
酸、スルホン酸、ホスホン酸などのいずれでもよ
いが、好ましい有機酸は炭素数2〜18で、かつ沸
点が140℃以上のカルボン酸である。より好まし
くは炭素数2〜18で、かつ沸点160℃以上のカル
ボン酸である。炭素数が2より小さく、沸点が
140℃より低い場合は、処理後の脱色性は十分で
あるが、版を放置しておくと発色してくるため好
ましくない。一方、炭素数が18を越えると、シリ
コーンゴム層を通して感光層への作用が小さく脱
色性に欠けるので好ましくない。
上記の炭素数2〜18で、かつ沸点が140℃以上
のカルボン酸としては、プロピオン酸、酪酸等か
挙げられ、また炭素数2〜18で、かつ沸点が160
℃以上のカルボン酸としては、イソ酪酸、n−吉
草酸、イソ吉草酸、n−カプロン酸、イソカプロ
ン酸、2−メチルペンタン酸、2−エチル酪酸、
エナント酸、カプリル酸、2−エチルヘキサン
酸、ペラルゴン酸、ウンデシル酸、ウンデシレン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
オレイン酸、ステアリン酸、クロル酢酸、ジクロ
ル酢酸、トリクロル酢酸、ヨード酢酸、フルオル
酢酸、トリフルオル酢酸、α−クロルプロピオン
酸、β−クロルプロピオン酸、α−ブロムプロピ
オン酸、α−ブロム酪酸、α−ブロムイソ酪酸、
α−ブロム吉草酸、α−ブロムイソ吉草酸、α−
ブロム−n−カプロイン酸、β−エトキシプロピ
オン酸、マレイン酸モノエチルエステル、マレイ
ン酸モノ−n−ブチルエステル等が挙げられる。
のカルボン酸としては、プロピオン酸、酪酸等か
挙げられ、また炭素数2〜18で、かつ沸点が160
℃以上のカルボン酸としては、イソ酪酸、n−吉
草酸、イソ吉草酸、n−カプロン酸、イソカプロ
ン酸、2−メチルペンタン酸、2−エチル酪酸、
エナント酸、カプリル酸、2−エチルヘキサン
酸、ペラルゴン酸、ウンデシル酸、ウンデシレン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
オレイン酸、ステアリン酸、クロル酢酸、ジクロ
ル酢酸、トリクロル酢酸、ヨード酢酸、フルオル
酢酸、トリフルオル酢酸、α−クロルプロピオン
酸、β−クロルプロピオン酸、α−ブロムプロピ
オン酸、α−ブロム酪酸、α−ブロムイソ酪酸、
α−ブロム吉草酸、α−ブロムイソ吉草酸、α−
ブロム−n−カプロイン酸、β−エトキシプロピ
オン酸、マレイン酸モノエチルエステル、マレイ
ン酸モノ−n−ブチルエステル等が挙げられる。
本発明の処理液において使用される溶媒として
は、水、極性溶剤、炭化水素をそれぞれ単独ある
いは混合して使用することができる。
は、水、極性溶剤、炭化水素をそれぞれ単独ある
いは混合して使用することができる。
アルコール類(メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、3−メトキシ
ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノー
ル、ジアセトンアルコールなど)。
プロパノール、イソプロパノール、3−メトキシ
ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノー
ル、ジアセトンアルコールなど)。
エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、エチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、 トリエチレングリコールジメチルエーテル、ト
リエチレングリコールジエチルエーテル、テトラ
エチレングリコールモノメチルエーテル、テトラ
エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、トリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、テトラヒドロフルフ
リルアルコールなど)。
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、エチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、 トリエチレングリコールジメチルエーテル、ト
リエチレングリコールジエチルエーテル、テトラ
エチレングリコールモノメチルエーテル、テトラ
エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、トリプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、テトラヒドロフルフ
リルアルコールなど)。
エステル類(アセト酢酸メチル、アセト酢酸エ
チル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート、酢酸ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジ酢酸グリコール、乳酸エチ
ル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
マロン酸ジメチル、コハン酸ジメチル、コハン酸
ジエチル、アジピン酸ジメチルなど)。
チル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート、酢酸ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジ酢酸グリコール、乳酸エチ
ル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
マロン酸ジメチル、コハン酸ジメチル、コハン酸
ジエチル、アジピン酸ジメチルなど)。
炭化水素としては下記に示すものが一般的に有
用である。
用である。
脂肪族炭化水素類(ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、ガソリン、灯油、軽油、重油、
“アイソパー”E,H,M(エクソン化学製)など 芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)。
タン、オクタン、ガソリン、灯油、軽油、重油、
“アイソパー”E,H,M(エクソン化学製)など 芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)。
ハロゲン化炭化水素類(トリクレン、四塩化炭
素など)。
素など)。
処理液中に配合される有機酸の量は、処理溶剤
に対して0.01〜50重量%添加するのが版材の脱色
効果の点で好ましく、より好ましくは0.1〜20重
量%添加するのがよい。
に対して0.01〜50重量%添加するのが版材の脱色
効果の点で好ましく、より好ましくは0.1〜20重
量%添加するのがよい。
処理液中に、ぬれ性向上および有機酸の溶解性
向上のため界面活性剤を添加することもできる。
また検版性向上のため、例えばクリスタルバイオ
レ、アイゼンベーシツクシアニン6GH(保土谷化
学(株)製)などの染料を添加することもできる。
向上のため界面活性剤を添加することもできる。
また検版性向上のため、例えばクリスタルバイオ
レ、アイゼンベーシツクシアニン6GH(保土谷化
学(株)製)などの染料を添加することもできる。
処理方法としては、本発明の処理液に浸漬する
か、あるいは自動現像機の場合のようにシヤワー
方法で版面をぬらせばよい。
か、あるいは自動現像機の場合のようにシヤワー
方法で版面をぬらせばよい。
以下に実施例によつて本発明をさらに詳しく説
明する。
明する。
処理時間は特に限定されず、有機酸の強さと濃
度、および処理液の温度によつて適宜選択できる
が、通常処理液にふれると即座に脱色され、かつ
長時間接触させても何ら効果に変化はない。通常
5秒〜3分程度でよい。
度、および処理液の温度によつて適宜選択できる
が、通常処理液にふれると即座に脱色され、かつ
長時間接触させても何ら効果に変化はない。通常
5秒〜3分程度でよい。
以下実施例によつて本発明をさらに詳しく説明
する。
する。
[実施例]
実施例1、比較例1
厚さ0.3mmのアルミ板(住友軽金属(株)製)に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱
処理して5μのプライマ層を設けた。
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱
処理して5μのプライマ層を設けた。
ポリウレタン樹脂(サンプレンLQ−T1331、
三洋化成工業(株)製) 100重量部 ブロツクイソシアネート(タケネートB830、
武田薬品(株)製) 20重量部 エポキシ・フエノール・尿素樹脂(SJ9372、
関西ペイント(株)製) 8重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコー
タを用いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾燥
して厚さ2μの感光層を設けた。
三洋化成工業(株)製) 100重量部 ブロツクイソシアネート(タケネートB830、
武田薬品(株)製) 20重量部 エポキシ・フエノール・尿素樹脂(SJ9372、
関西ペイント(株)製) 8重量部 ジメチルホルムアミド 725重量部 続いてこの上に下記の感光層組成物をバーコー
タを用いて塗布し、110℃の熱風中で1分間乾燥
して厚さ2μの感光層を設けた。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂(住友デユレズ製:スミライトレジン
PR50622)の部分エステル(元素分析法による
エステル化度25%) 100重量部 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート 40重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 4,4′−ジエチルアミノベンゾフエノン 5重量部 P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 ついでこの感光層の上に次の組成を有するシリ
コーンゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点30
℃、3.5分間湿熱硬化させて2.3μのシリコーンゴ
ム層を設けた。
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂(住友デユレズ製:スミライトレジン
PR50622)の部分エステル(元素分析法による
エステル化度25%) 100重量部 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート 40重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 4,4′−ジエチルアミノベンゾフエノン 5重量部 P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 テトラヒドロフラン 800重量部 ついでこの感光層の上に次の組成を有するシリ
コーンゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点30
℃、3.5分間湿熱硬化させて2.3μのシリコーンゴ
ム層を設けた。
ポリジメチルシロキサン(分子量約25000、
末端OH基) 100重量部 ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 “アイソパー”E(エクソン化学(株)製)
1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
のポリピロピレンフイルム“トレフアン”(東レ
(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原版を得た。
末端OH基) 100重量部 ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 “アイソパー”E(エクソン化学(株)製)
1400重量部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μ
のポリピロピレンフイルム“トレフアン”(東レ
(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷原版を得た。
かかる印刷原版にメタルハライドランプ(岩崎
電気(株)製アイドルフイン2000)を用い、UVメー
ター(オーク製作所製、ライトメジヤータイプ
UV−402A)で11mw/cm2の照度で6秒間全面露
光を施した。
電気(株)製アイドルフイン2000)を用い、UVメー
ター(オーク製作所製、ライトメジヤータイプ
UV−402A)で11mw/cm2の照度で6秒間全面露
光を施した。
上記のようにして得られた印刷原版に150線/
インチの網点画像を持つネガフイルムを真空密着
し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの
距離から60秒間画像露光した。
インチの網点画像を持つネガフイルムを真空密着
し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの
距離から60秒間画像露光した。
次に上記の露光済版の“トレフアン”を剥離す
る。
る。
次いで、東レ水なし平版自動現像機(TWL−
1160D(東レ(株)製)の前処理液にジエチレングリ
コール/2−(2−アミノエトキシ)エタノール
=87/13(重量比)からなる処理液を入れ、現像
槽には水を入れた。さらに後処理槽には水/ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル/2−エチ
ルヘキサン酸(沸点224℃)/クリスタルバイオ
レツト=80/20/1/0.3(重量比)からなる処理
液を入れ、前処理液45℃、現像水温25℃、後処理
液温25℃、搬送スピード40cm/分に設定し、製版
を行なつたところ、塩基処理で褐色に変色した水
なし平版印刷版が、後処理槽を通過すると、通版
前の黄色に脱色された。
1160D(東レ(株)製)の前処理液にジエチレングリ
コール/2−(2−アミノエトキシ)エタノール
=87/13(重量比)からなる処理液を入れ、現像
槽には水を入れた。さらに後処理槽には水/ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル/2−エチ
ルヘキサン酸(沸点224℃)/クリスタルバイオ
レツト=80/20/1/0.3(重量比)からなる処理
液を入れ、前処理液45℃、現像水温25℃、後処理
液温25℃、搬送スピード40cm/分に設定し、製版
を行なつたところ、塩基処理で褐色に変色した水
なし平版印刷版が、後処理槽を通過すると、通版
前の黄色に脱色された。
この印刷版をオフセツト印刷機に取り付け、東
洋インキ(株)製“東洋キングウルトラTKUアクワ
レスGアイPL”を用いて印刷を行ない、網点再
現性を評価したところ、網点2〜98%が再現され
た極めて良好な画像を持つ印刷物が得られた。
洋インキ(株)製“東洋キングウルトラTKUアクワ
レスGアイPL”を用いて印刷を行ない、網点再
現性を評価したところ、網点2〜98%が再現され
た極めて良好な画像を持つ印刷物が得られた。
一方、上記のようにして製造された水なし平版
印刷版原版を、上記と同じように全面露光、画像
露光を施し、後処理液の入つていない東レ水なし
平版自動現像機で製版したところ、塩基処理で褐
色に変色した水なし平版印刷版が得られ、しかも
部分的に脱色され、検版性の悪い刷版であつた。
印刷版原版を、上記と同じように全面露光、画像
露光を施し、後処理液の入つていない東レ水なし
平版自動現像機で製版したところ、塩基処理で褐
色に変色した水なし平版印刷版が得られ、しかも
部分的に脱色され、検版性の悪い刷版であつた。
実施例 2
化成処理アルミ板(住友軽金属(株)製)にエステ
ル化度44%のフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂(住友ベークライト(株)製:スミライトレ
ジンPR50235)のナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性
成分9.7重量%、エステル化度はIRスペクトルか
ら定量)の3重量%ジオキサン溶液を塗布後、60
℃で3分間乾燥させて厚さ1.2μの感光層を得た。
この感光層の上に次の組成を有するシリコーンガ
ム組成物の7%アイソパーE溶液に、シリコーン
組成物に対し4重量%のγ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン(UCC製:A1100)を添加し、均
一に撹拌後ホエラーで塗布した。乾燥後120℃、
露点25℃、4分間加熱硬化させて厚さ2,2μの
シリコーンゴム層を得た。
ル化度44%のフエノールホルムアルデヒドノボラ
ツク樹脂(住友ベークライト(株)製:スミライトレ
ジンPR50235)のナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性
成分9.7重量%、エステル化度はIRスペクトルか
ら定量)の3重量%ジオキサン溶液を塗布後、60
℃で3分間乾燥させて厚さ1.2μの感光層を得た。
この感光層の上に次の組成を有するシリコーンガ
ム組成物の7%アイソパーE溶液に、シリコーン
組成物に対し4重量%のγ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン(UCC製:A1100)を添加し、均
一に撹拌後ホエラーで塗布した。乾燥後120℃、
露点25℃、4分間加熱硬化させて厚さ2,2μの
シリコーンゴム層を得た。
ポリジメチルシロキサン(分子量約80000、
両末端OH基) 100重量部 エチルトリアセトキシシラン 5重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版
に150線/インチの網点画像を持つネガフイルム
を真空密着し、実施例1で用いたメタルハライド
ランプで、1mの距離から60秒間画像露光した。
露光された版の版面をエタノール/“アイソパー
E”=80/20(重量比)からなる現像液で軽くこす
ると、画像露光した部分はシリコーンゴム層と感
光層の両方が容易に除去されて化成処理アルミ表
面が露出し、ネガフイルムを忠実に再現した画像
が得られた。
両末端OH基) 100重量部 エチルトリアセトキシシラン 5重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 上記のようにして得られた水なし平版印刷原版
に150線/インチの網点画像を持つネガフイルム
を真空密着し、実施例1で用いたメタルハライド
ランプで、1mの距離から60秒間画像露光した。
露光された版の版面をエタノール/“アイソパー
E”=80/20(重量比)からなる現像液で軽くこす
ると、画像露光した部分はシリコーンゴム層と感
光層の両方が容易に除去されて化成処理アルミ表
面が露出し、ネガフイルムを忠実に再現した画像
が得られた。
上記の製版された版をメタルハライドランプを
用い、1mの距離で実施例1のUVメーターで
11mw/cm2の照度下、10秒間全面露光(感光層中
のキノンジアジドの25モル%が光分解してカルボ
ン酸成分を生成する光量)した後、エタノール/
モノエタノールアミン=95/5(重量比)からな
る処理液で1分間塩基処理すると、感光層が褐色
に変色した。次いで、水/ジエチレングリコール
モノブチルエーテル/カプリル酸(沸点240℃)=
85/15/1(重量比)からなる処理液で30秒浸漬
処理すると製版する前の黄色に脱色された。
用い、1mの距離で実施例1のUVメーターで
11mw/cm2の照度下、10秒間全面露光(感光層中
のキノンジアジドの25モル%が光分解してカルボ
ン酸成分を生成する光量)した後、エタノール/
モノエタノールアミン=95/5(重量比)からな
る処理液で1分間塩基処理すると、感光層が褐色
に変色した。次いで、水/ジエチレングリコール
モノブチルエーテル/カプリル酸(沸点240℃)=
85/15/1(重量比)からなる処理液で30秒浸漬
処理すると製版する前の黄色に脱色された。
塩基処理により定着された版が、塩基処理後の
有機酸を含む処理液によつて耐溶剤性の変化があ
るかどうかを確認するため、さらに上記のメタル
ハライドランプで1mの距離から60秒間全面露光
した後、エタノール/“アイソパーE”=80/20
(重量比)からなる現像液を含ませた現像パツド
で擦つた。非画線部のシリコーンゴム層は全く損
傷を受けず、定着効果の低下は全くなかつた。
有機酸を含む処理液によつて耐溶剤性の変化があ
るかどうかを確認するため、さらに上記のメタル
ハライドランプで1mの距離から60秒間全面露光
した後、エタノール/“アイソパーE”=80/20
(重量比)からなる現像液を含ませた現像パツド
で擦つた。非画線部のシリコーンゴム層は全く損
傷を受けず、定着効果の低下は全くなかつた。
[発明の効果]
本発明により製版された印刷版は、塩基処理に
よつて褐色に変色した版を、耐溶剤性、耐刷性、
耐スクラツチ性なとの特性を劣化させずに確実に
脱色させることができる。すなわち、本発明の水
なし平版印刷版の製版方法により、検版性の優れ
た水なし平版印刷版が得られる。さらに、版の脱
色むら等が発生せず、版のイメージが向上する。
よつて褐色に変色した版を、耐溶剤性、耐刷性、
耐スクラツチ性なとの特性を劣化させずに確実に
脱色させることができる。すなわち、本発明の水
なし平版印刷版の製版方法により、検版性の優れ
た水なし平版印刷版が得られる。さらに、版の脱
色むら等が発生せず、版のイメージが向上する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 支持体上にキノンジアジド構造を含む物質を
構成成分とする感光層およびシリコーンゴム層を
この順に塗設してなる水なし平版印刷版を、画像
露光した後、現像と同時または現像の前および/
または後に塩基処理を施し、続いて有機酸を含む
処理液で処理することを特徴とする水なし平版印
刷版の製版方法。 2 有機酸が炭素数2〜18で、かつ沸点140℃以
上のカルボン酸であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の水なし平版印刷版の製版方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4762487A JPS63214757A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4762487A JPS63214757A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63214757A JPS63214757A (ja) | 1988-09-07 |
| JPH0429053B2 true JPH0429053B2 (ja) | 1992-05-15 |
Family
ID=12780368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4762487A Granted JPS63214757A (ja) | 1987-03-04 | 1987-03-04 | 水なし平版印刷版の製版方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63214757A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5958652A (en) * | 1995-11-10 | 1999-09-28 | Toray Industries, Inc. | Treating liquid for making a waterless planographic printing plate |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5555344A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate |
| JPS5917552A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Toray Ind Inc | 画像形成用積層体の処理方法 |
| JPS6028655A (ja) * | 1983-07-27 | 1985-02-13 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷版用現像液 |
-
1987
- 1987-03-04 JP JP4762487A patent/JPS63214757A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63214757A (ja) | 1988-09-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |