JPH0311462B2 - - Google Patents

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JPH0311462B2
JPH0311462B2 JP58135961A JP13596183A JPH0311462B2 JP H0311462 B2 JPH0311462 B2 JP H0311462B2 JP 58135961 A JP58135961 A JP 58135961A JP 13596183 A JP13596183 A JP 13596183A JP H0311462 B2 JPH0311462 B2 JP H0311462B2
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JP
Japan
Prior art keywords
developer
printing plate
weight
acid
dampening water
Prior art date
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Application number
JP58135961A
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English (en)
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JPS6028655A (ja
Inventor
Shigeo Abiko
Mikio Tsuda
Norio Kawabe
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication of JPH0311462B2 publication Critical patent/JPH0311462B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は改良された湿し水不要平版印刷版用現
像液に関する。
〔従来技術〕
シリコーンゴム層をインキ反撥層とする湿し水
不要平版印刷版であつて、ネガ型に作用する版材
としては、例えば支持体上に設けたオルトキノン
ジアジド化合物を含む感光層上にシリコーンゴム
層を設けて予備増感されたものが特開昭56−
80046で提案されている。これらの版材は通常PS
版と同様に露光−現像工程により製版されるが、
現像液としては、特願昭56−133278号で提案され
ているような有機溶剤を主成分とするものや、水
を主成分とするものが提案されている。このよう
な現像液は、有機溶剤系においては引火の危険性
があり、更には現像時に非画線部のシリコーンを
傷つけやすという欠点がある。これに対し、水系
においては作業環境の面から好ましいだけでな
く、現像時における非画線への傷の恐れも小さく
好ましいのであるが、現像操作上安定性に欠け、
特に現像液としての水のみを使用した場合にはそ
の傾向が顕著で現像不良を起こしやすいなどの欠
点があつた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、これらの欠点を改良し、現像
速度が大きく、現像操作上安定な現像液を提供す
ることにある。
〔発明の構成〕
本発明は、支持体上にオルトキノンジアジド化
合物を含む感光層およびシリコーンゴム層をこの
順に塗設してなる湿し水不要平版印刷版を露光
後、画像を現像するための現像液において、現像
液に有機酸が含まれていることを特徴とする湿し
水不要平版印刷版用現像液である。
本発明における露光により画像潜像を形成した
湿し水不要平版印刷版の現像操作方法については
何ら制限されるものではないが、主として次の様
なものが挙げられる。
(1) 有機溶剤または有機溶剤に水が混合したもの
を現像液として使用する方法。
(2) 有機溶剤に浸漬することにより版を前処理し
た後、水または有機溶剤を含む水を現像液とし
て使用する方法。
(3) 塩基処理を施した後、水または有機溶剤を含
む水を現像液として使用する方法。
これらの方法のいずれの場合においても、現像
液に有機酸を含むことによりその効果を発揮でき
るのであるが、(2)および(3)の方法において現像液
として水のみを用いた場合に最もその効果が大き
く、しかも作業員にとつて最も有機溶剤に晒され
やすい現像作業において有機溶剤を除去できるこ
とは作業環境の面からも好ましいことである。
本発明の現像液は有機酸を含むことが必須であ
るが、現像液としては水または/および次に示す
有機溶剤を使用することができる。
本発明において現像液として使用される有機溶
剤としては、炭化水素、極性溶剤、をそれぞれ単
独あるいは混合して使用することができる。
炭化水素としては下記に示すものが一般的に有
用である。
脂肪族炭化水素類(ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、アイソパーE.H.M、ガソリン、
灯油、軽油、重油など)。
芳香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)。
ハロゲン化炭化水素類(トリクレン、四塩化炭
素など)。
極性溶剤としては下記に示すが一般的に有用で
ある。
アルコール類(メタノール、エタノール、n−
プロパノール、イソプロパノール、3−メトキシ
ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノー
ル、ジアセトンアルコールなど)。
エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチ
ルセロソルブ、エチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールジメチルエーテル、テトラエチレング
リコールモノメチルエーテル、テトラエチレング
リコールジメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、トリプロビレングリコール
モノメチルエーテル、テトラヒドロフルフリルア
ルコールなど)。
エステル類(アセト酢酸メチル、アセト酢酸エ
チル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート、酢酸ジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、ジ酢酸グリコール、乳酸エチ
ル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、コハク酸
ジメチル、コハク酸ジエチル、アジピン酸ジメチ
ルなど)。
これらの現像液に添加する有機酸は1重量%以
上で効果があるが好ましくは5重量%以上であ
る。また炭素数の小さな有機酸においてはそれ単
独でも良好な現像が可能である。
本発明において、露光により画像潜像を形成し
た湿し水不要平版印刷版を浸漬することにより前
記処理を施して有機酸を含有させた水を現像液と
して使用する場合に、前処理液として上に挙げた
炭化水素、極性溶剤をそれぞれ単独あるいは混合
して使用することができる。
本発明において使用される有機酸としては、特
に限定されるものではなく、例えばカルボン酸、
スルホン酸、ホスホン酸などのいずれでもよい
が、特に好ましい有機酸はギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、n−酪酸、イソ酪酸、n−吉草酸、イソ吉
草酸、メチルエチル酢酸、トリメチル酢酸、カプ
ロン酸、イソカプロン酸、α−メチル吉草酸、2
−エチル−n−酪酸、エナント酸、カプリル酸、
2−エチルヘキサン酸、ペラルゴン酸などのアル
カン酸である。他の官能基を有する有機酸は版材
のシリコーンゴム層を通して露光された画像部の
感光層への作用が小さく、ほとんど現像性に効果
がない。
また、塩基処理後水単独からなる、または水を
主成分とする現像液を用いる場合にも上に述べた
ような有機酸を現像液に添加することによつて、
その現像性を大幅に改良することができる。
〔発明の効果〕
本発明においては、有機酸を含む現像液を用い
ることによつて、現像性が大幅に向上し且つ現像
速度が速くなり、その効果は現像液中の水が多い
ほど顕著である。その結果、作業者が長時間有機
溶剤の蒸気にさらされることがなくなるほか、水
単独ないしは水の多い現像液を用いることができ
るため引火の危険性も減じることができる。
以下実施例を挙げてさらに具体的に説明する。
なお、実施例中に記載した「部」は「重量部」
を示す。
実施例 1 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にフエ
ノールホルムアルデヒドゾール樹脂(スミライト
レジンPC−1、住友デユレス製)を2μの厚み
(キユア後の)に塗布し、190℃、3分間キユアし
たものを支持体として、この上に下記の感光性組
成物を塗布し、120℃、2分間加熱処理して厚さ
2μの感光層を設けた。
(1) ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂の部分エステル(IR法によるエステル
化度47%) 100重量部 (2) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
30重量部 (3) ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 (4) ジオキサン 740重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、露点30℃、2分間湿
熱硬化させて2μのシリコーンゴム層を設けて、
湿し水不要平版印刷版を作製した。
(1) ジメチルポリシロキサン(分子量約25000、
末端水酸基) 100重量部 (2) ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8重量部 (3) ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (4) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
1重量部 (5) アイソパーE(エクソン化学製、脂肪族炭化
水素系溶剤) 1800重量部 かかる湿し水不要平版印刷版にメタルハライド
ランプ(岩崎電機(株)製アイドルフイン2000)を用
い、1mの距離でUVメーター((株)オーク製作所
ライトメジヤータイプUV−402A)で11mw/cm2
の照度で全面露光を6秒施した。
上記のように全面露光をして得られた湿し水不
要平版印刷版に、150線/インチ、2%から98%
の網点を有するグラデーシヨンネガフイルムを真
空密着し、それを通して上記のメタルハライドラ
ンプを用いて、1mの距離から60秒画像露光する
ことによつて画像形成能を有するネガ型湿し水不
要平版印刷版を得た。
次いで、塩基処理液(メチルカルビトール/モ
ノエタノールアミン=100重量部/5重量部)を
満した平型バツトに、上記の露光済版を1分間浸
漬する。浸漬後ゴムスキージで版面および裏面に
付着した塩基処理液を除去し、次いで版面と現像
パツドにn−酪酸5重量部、水95重量部からなる
現像液を注ぎ、現像パツドで面圧10g/m2をかけ
約1分間版面をこすると、画像状に露光された部
分のシリコーンゴム層が除去され、感光層が露出
して画線部を形成し、一方全面露光のみを受けた
部分にはシリコーンゴム層が強固に残存して非画
線部を形成し、ネガフイルムに忠実な画像を再現
した印刷版が得られた。次いでこの印刷版をオフ
セツト印刷機(ハマダスター)にとりつけ、東洋
インキ製“ウルトラ70紅”を用いて、湿し水を用
いないで2万枚印刷した。印刷物は何ら汚れるこ
となくきわめて良好なものであつた。また印刷版
の版面の損傷も認められなかつた。
比較例 1 実施例1の記載の通り製造しかつ露光して得ら
れた画像形成能を有する湿し水不要平版印刷版を
同様に塩基処理(メチルカルビトール/モノエタ
ノールアミン=100重量部/5重量部)する。次
いで、水を版面と現像パツドに注ぎ、面圧10g/
m2で約3分間版面をこすつたが、ほとんど露光部
のシリコーンゴム層を除去することができず、印
刷が不可能な印刷版となつた。
実施例 2 実施例1で製造した湿し水不要平版印刷版に
150線/インチの2%から98%の網点を有するグ
ラデーシヨンフイルムを、常法に従つて真空密着
し、実施例1で用いたメタルハライドランプを用
いて1mの距離で60秒画像露光することによつて
画像形成能を有するネガ型の湿し水不要平版印刷
版を得た。次いで、前処理液(メチルカルビトー
ル)を満たした縦型バツトに、上記の露光済版を
1分間浸漬する。浸漬後ゴムスキージで版面およ
び裏面に付着した前処理液を除去し、次いで版面
と現像パツドにプロピオン酸5重量部、水95重量
部からなる現像液を注ぎ、現像パツドで面圧10
g/m2をかけ約1分間版面をこすると、画像状に
露光された部分のシリコーンゴム層が除去され、
感光層が露出した画線部を形成し、ネガフイルム
に忠実な画像を再現した印刷版が得られた。次い
で、この印刷版を実施例1と同様の条件で印刷し
たところ、極めて良好な印刷物が得られた。
比較例 2 実施例1で製造した湿し水不要平版印刷版を実
施例2と同様に露光して得られた湿し水不要平版
印刷版を、前処理液(メチルカルビトール)を満
たした縦型バツトに1分間浸漬する。浸漬後ゴム
スキージで版面および裏面に付着した前処理液を
除去し、次いで版面と現像パツドに水を注ぎ、面
圧10g/m2で約3分間版面をこすつたが、ほとん
ど露光部のシリコーンゴム層を除去することがで
きず印刷が不可能な印刷版となつた。
実施例 3 実施例1で製造した湿し水不要平版印刷版に、
150線/インチの2%から98%の網点を有するグ
ラデーシヨンフイルムを、常法にしたがつて真空
密着し、実施例1で用いたメタルハライドランプ
を用いて1mの距離で照度60秒画像露光を施すこ
とによつて画像形成能を有するネガ型湿し水不要
平版印刷版を得た。
次いでこれを、現像パツドに氷酢酸を注ぎ、面
圧10g/m2で1分間こすると露光部のシリコーン
ゴム層が除去されて感光層表面が露出し画像部を
形成した。この印刷版を実施例1と同様の条件で
印刷したところ、網点再現域5〜95%で、微少欠
点や現像パツドによるスリ傷状の欠点のない印刷
物が得られた。
実施例 4 実施例1で製造した湿し水不要平版印刷版に
150線/インチの2%から98%の網点を有するグ
ラデーシヨンフイルムを、常法に従つて真空密着
し、実施例1で用いたメタルハライドランプを用
いて1mの距離で60秒露光を施すことによつて画
像形成能を有するネガ型湿し水不要平版印刷版を
得た。
次いでこの原版を、現像パツドにアイソパー
H10重量部、ブチルカルビトール40重量部、エチ
ルカルビトール40重量部、2−エチルヘキサン酸
10重量部からなる現像液を注ぎ、面圧10g/m2
1分間こすると露光部のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出し画像部を形成した。こ
の印刷版を実施例1と同様の条件で印刷したとこ
ろ、網点再現域2〜98%で、微小欠点や現像パツ
ドによるスリ傷状の欠点のない印刷物が得られ
た。
比較例 3 実施例1で製造した湿し水不要平版印刷版を実
施例3と同様にして画像形成能を有するネガ型湿
し水不要平版印刷版を得た。次いでこの印刷版
を、現像パツドにアイソパーH20重量部、ブチル
カルビトール40重量部、エチルカルビトール40重
量部からなる現像液を注ぎ、面圧10g/m2で3分
間こすることによつて露光部のシリコーンゴム層
が完全に除去されて感光層が露出し画像部を形成
した。この印刷版を実施例1と同様の条件で印刷
したところ、網点再現域5〜95%の印刷物が得ら
れたが、非画像部に現像パツドによるものと思わ
れる傷が認められた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体上にオルトキノンジアジド化合物を含
    む感光層およびシリコーンゴム層をこの順に塗設
    してなる湿し水不要平版印刷版を露光後、画像を
    現像するための現像液において、現像液に有機酸
    が含まれていることを特徴とする湿し水不要平版
    印刷版用現像液。 2 有機酸の含有率が1〜100重量%であること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の湿し水
    不要平版印刷版用現像液。 3 有機酸がアルカン酸であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の湿し水不要平版印刷
    版用現像液。
JP13596183A 1983-07-27 1983-07-27 湿し水不要平版印刷版用現像液 Granted JPS6028655A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63214757A (ja) * 1987-03-04 1988-09-07 Toray Ind Inc 水なし平版印刷版の製版方法
JP2844752B2 (ja) * 1989-11-27 1999-01-06 東レ株式会社 水なし平版印刷版用前処理液

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5555344A (en) * 1978-10-20 1980-04-23 Toray Ind Inc Lithographic printing plate
JPS5835539A (ja) * 1981-08-27 1983-03-02 Toray Ind Inc 湿し水不要ネガ型平版印刷版の製版方法

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