JPS6322304B2 - - Google Patents

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JPS6322304B2
JPS6322304B2 JP56082445A JP8244581A JPS6322304B2 JP S6322304 B2 JPS6322304 B2 JP S6322304B2 JP 56082445 A JP56082445 A JP 56082445A JP 8244581 A JP8244581 A JP 8244581A JP S6322304 B2 JPS6322304 B2 JP S6322304B2
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JP
Japan
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silicone rubber
rubber layer
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layer
photosensitive layer
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JP56082445A
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English (en)
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JPS57198465A (en
Inventor
Sadao Kobashi
Norio Kawabe
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Publication of JPS57198465A publication Critical patent/JPS57198465A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシリコーンゴム層をインキ反撥層とす
る平版印刷版、特に支持体上に光剥離性感光層と
シリコーンゴム層とを積層したネガ型平版印刷版
の改善された現像性と検版性を有する製版方法に
関するものである。
シリコーンゴム層をインキ反撥層とする水なし
平版印刷版については、すでに種々のものが提案
され、実用化されている。なかでも特願昭54−
156871で提案されているネガ型水なし平版印刷版
は、支持体上に光剥離性感光層とシリコーンゴム
層とを積層したものであり、かかる印刷版は、例
えば原版を露光することにより光剥離性感光層と
シリコーンゴム層との接着を変化せしめ、ついで
光剥離性感光層を実質的に溶解させず、シリコー
ンゴム層のみを膨潤させる現像液を用いて、露光
部のシリコーンゴム層を選択的に剥離除去するこ
とにより製版される。このような製版条件では、
シリコーンゴム層の切れがよくシヤープな網点を
与える反面、シリコーンゴム層自体が本来透明で
あるため、現像の終点が容易に判別しにくいとい
う難点があつた。そのため現像不充分な場合は、
画線部としてシリコーンゴム層が剥離していなけ
ればならない部分にシリコーンゴムが残り、画像
再現性の悪い印刷版しか得られず、また版面を強
くこすり過ぎると、非画線部として版面に残すべ
きシリコーンゴム層まで損傷してしまい、印刷物
の地汚れや欠点の原因になるなどの問題点が存在
する。さらに、シリコーンゴム層に生じたスクラ
ツチ傷やピンホール状の欠点などは、修正するこ
とが必要であるが、シリコーンゴム層自体の透明
性のため、スクラツチ傷やピンホール状の欠点な
どの検出が困難であるということも大きな問題で
あつた。
このような状況に鑑み、本発明者らは上記の問
題点を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到
達したものである。
すなわち、本発明は、支持体上にキノンジアジ
ド類を含む光剥離性感光層およびシリコーンゴム
層を積層したネガ型平版印刷原版を露光した後、
シリコーンゴム層を膨潤し得る溶媒で画線部のシ
リコーンゴム層を剥離し、次いで露出した画線部
を塩基性染料で染色することを特徴とするネガ型
平版印刷版の製版方法に関するものである。
以下に本発明の内容を詳しく説明する。
本発明の第一の工程は、支持体上に光剥離性感
光層とシリコーンゴム層とをこの順に積層したネ
ガ型平版印刷原版に、通常の平版用真空焼枠を用
いてネガフイルムを真空密着し、活性光線により
該原版を像形状に露光するものである。第二の工
程は、前記第一の工程によつて像形状に露光され
た該原版を現像する工程である。かかる工程で
は、例えば該原版に保護フイルムが存在する場合
は、保護フイルムを取り去つた後、現像液を用い
て、ガーゼ、不織布などの柔らかいパツドで版面
を軽くこすることにより、実質的に画線部のシリ
コーンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光剥離性
感光層を露光させ、現像するものである。
第三の工程は、このようにして選択的に露出さ
れた画線部を染色する工程である。かかる工程で
は、例えば画線部は次のようにして選択的に染色
される。すなわち、適当な色合いの染料を溶解ま
たは分散した染色液を第二の工程で用いるのと同
様の柔かいパツドにしみ込ませ、版面を軽くこす
ることにより、露出した画線部のみが染色され
る。
以上の工程を経て画線部(染色されている)と
非画線部とを備えた印刷版が作製される。従つて
かかる印刷版を検版すれば、現像状態が確認でき
る。そして例えば、現像が不充分な場合は再度第
二および第三の工程を繰り返えすことにより現像
の終点を判別することができる。
本発明において現像液として使用される溶媒
は、シリコーンゴムを膨潤させる溶媒であり、パ
ラフイン系炭化水素が好都合に適用される。その
ような溶媒は石油の分留製品のうちから容易に入
手できる。これらの石油留分に加えて、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンのような精練
されたパラフイン系炭化水素ももちろん有用な溶
媒として使用できる。さらに上記のパラフイン系
炭化水素に下記の極性溶媒を添加したものが好適
である。このような極性溶媒としては、 アルコール類(メタノール、エタノールなど) エーテル類(エチルセロソルブ、ジオキサンな
ど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンな
ど) エステル類(酢酸エチル、セロソルブアセテー
トなど) の単独または混合したかたちで用いられる。
本発明の染色工程で用いられる染色液は、シリ
コーンゴム層を剥離せしめることによつて形成さ
れた画線部(露出した光剥離性感光層)を選択的
に染色し、非画線部のシリコーンゴム層をほとん
ど染色しないことが必要である。このような染色
液としては、キノンジアジド類を含む光剥離性感
光層を染色し得る性質を有する塩基性染料のうち
から選ばれる1種または2種以上を、水、アルコ
ール類、ケトン類、エーテル類などの単独または
2種以上の混合溶媒に溶解または分散せしめたも
のが用いられる。染色性を向上させるために、カ
ルボン酸類、アミン類、界面活性剤、染色助剤な
どを添加することも有効である。
さらに、本発明の好ましい実施態様の一つとし
て、シリコーンゴムを膨潤し得る現像液と露出し
た画線部とを選択的に染色せしめる染色液の両方
の性質を兼ねそなえた染色現像液を、柔らかいパ
ツドにしみ込ませて印刷版を軽くこすることによ
り、シリコーンゴム層を剥離すると同時に、露出
した光剥離性感光層を選択的に染色せしめる方法
がある。この方法では、第二の工程と第三の工程
とが同一工程中に含まれることとなつて簡略化さ
れ、しかも現像の終点の判別が一層容易になる。
かかる染色現像液としては、先に述べた現像液
を50〜99重量部、染色液を50〜1重量の割合で混
合し、必要ならば適当な乳化剤でエマルジヨンと
したもの、または懸だく液としたものが使用され
る。
本発明の製版方法が適用される平版印刷版を構
成する支持体としては、通常の平版印刷機にセツ
トできるたわみ性と印刷時にかかる荷重に耐えう
るものでなければならない。代表的なものとして
はアルミ、銅、鋼等の金属板、ポリエチレンテレ
フタレートのようなプラスチツクフイルムあるい
はコート紙等があげられる。これらのシート上に
ハレーシヨン防止その他の目的でさらにコーテイ
ングを施して支持体とすることも可能である。
光剥離性感光層は、活性な光線(例えば、紫外
線など)の照射を受けて、光分解し、現像により
露光部感光層が実質的に除去されることなく、そ
の上のシリコーンゴム層が除去されるものであ
る。
このような光剥離性感光層は、公知の光可溶化
型感光性化合物を多官能化合物で架橋せしめる
か、あるいは光可溶化型感光性化合物中の活性基
を単官能化合物と結合するなどして変性し、現像
液に難溶もしくは不溶とすることにより得られる
ものである。ここでいう光可溶化型感光性化合物
としては、通常ポジ型PS版、ワイポン版、フオ
トレジストなどに用いられているキノンジアジド
類、例えばベンゾキノン−1,2−ジアジドスル
ホン酸とポリヒドロキシフエニルとのエステル、
ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とピ
ロガロールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキ
ノン−1,2−ジアジドスルホン酸とフエノール
ホルムアルデヒドノボラツク樹脂とのエステルな
どがあげられる。
このような光可溶化型感光性化合物に架橋構造
を導入せしめる方法としては、該感光性化合物が
有する反応性基、例えば水酸基、アミノ基などを
多官能性の架橋剤で架橋せしめる方法があげられ
る。
架橋剤としては多官能性イソシアナート類、例
えば、パラフエニレンジイソシアナート、2,4
−または2,6−トルエンジイソシアナート、
4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート、ヘ
キサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイ
ソシアナート、もしくはこれらのアダクト体な
ど、或いは多官能エポキシ化合物、例えばポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、
ビスフエノールAジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどが
ある。これらの熱硬化は感光性物質の感光性を失
わせない範囲、通常、130℃以下で触媒等が併用
されて行われる。
また光可溶化型感光性化合物に、現像液に難溶
もしくは不溶の成分を導入する方法としては、同
様に該感光性化合物の活性な基を、例えばエステ
ル化、アミド化、ウレタン化することなどがあげ
られる。感光性化合物の活性な基と反応させる化
合物としては低分子であつても、比較的高分子で
あつても良いし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させても良い。
好ましく適用される感光層は、ナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフエノール
ホルムアルデヒドノボラツク樹脂の部分エステル
化物を多官能もしくは単官能イソシアネートで架
橋もしくは変性して得られる。
また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成性向上や支持体との接着性向上などの
目的で他成分を加えたり、また露光時に画像を可
視化するために染料などを加えたりすることは可
能である。
光剥離性感光層の厚さは約0.1〜100μ、好まし
くは約0.5〜10μが適当である。
シリコーンゴム層は次のようなくり返し単位を
有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキ
サンを主成分とする。
ここでnは1以上の整数、Rは炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。
この線状有機ポリシロキサンにはまた架橋剤が
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものと組合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとして用いられ
る。これらのシリコーンゴムには、更に触媒とし
て少量の有機スズ化合物等が添加される。
シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好
ましくは約0.5〜10μが適当である。
本発明に適用可能な平版印刷版において、支持
体と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着
は、画像再現性、耐刷力などの基本的な版性能に
とり、非常に重要であるので、必要に応じて各層
間に接着剤層を設けたり、各層に接着改良性成分
を添加したりすることが可能である。特に感光層
とシリコーンゴム層間の接着のために、層間に公
知のシリコーンプライマやシランカツプリング剤
層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層
にシリコーンプライマやシランカツプリング剤を
添加すると効果的である。
このようにして構成された湿し水不要のネガ型
平版印刷原版の表面を形成するシリコーンゴム層
を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表
面に保護フイルムをはりつけることもできる。保
護フイルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレー
トなどが使用される。
以上説明したような本発明に適用される湿し水
不要のネガ型平版印刷原版は、例えば次のように
して製造される。まず支持体のうえに、リバース
ロールコータ、エアーナイフコータ、メーヤバー
コータなどの通常のコータあるいはホエラーのよ
うな回転塗布装置を用い感光層を構成すべき組成
物溶液を塗布、乾操および必要に応じて熱キユア
後、必要ならば該感光層のうえに同様な方法で接
着層を塗布、乾燥後、シリコーンガム溶液を接着
層上に同様の方法で塗布し、通常100〜120℃の温
度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめてシリ
コーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フイ
ルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター等を
用いカバーする。
本発明の製版方法を実施することにより、従来
よりも現像の終点の判別が容易になり、その結果
微小網点再現性が良好で、かつスクラツチ傷や欠
点などの少ない印刷版が得られる。またスクラツ
チ傷やピンホール状の欠点が光剥離性感光層にま
で達している場合は、このような傷および欠点も
同時に染色され、比較的容易に検出修正されるよ
うになり、その結果、印刷欠点の少ない印刷物が
得られる。
以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。
なお実施例中に用いられる部は全て重量部であ
る。
実施例 1 住友軽金属製、化成処理アルミ板(厚さ0.3mm)
に下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、2
分加熱処理して2.6μの感光層を設けた。
(a) エステル化度44%のフエノールノボラツク樹
脂(スミライトレジンPR50235、住友デユレズ
製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸エステル 100部 (b) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート
20部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) メチルセロソルブアセテート 2000部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、2分で加熱硬化して
厚み2.2μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
末端水酸基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 (d) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 3部 (e) アイソパーE 1650部 上記のようにして得られた印刷原版に、網点面
積率を段階的に変えた(150線、0.5%〜99.5%)
ネガフイルムを常法に従つて真空密着し、2kW
メタルハライドランプ(岩崎電気製)を用いて、
1mの距離から45秒画像露光を施した。続いてこ
の版をエタノール/アイソパーE(エツソ化学製)
(20/80)混合液に浸漬し現像パツドで軽くこす
ると、露光部のシリコーンゴム層が除去されて感
光層表面が露出する。次いで、次の組成の染色液
をしみこませたパツドで版面をふくことにより、
露出した光剥離性感光層が赤色に染色された画線
部が形成される。網点再現域は5%〜99.5%で、
ハイライト部の網点が再現されていないので、同
様の手現像によつて現像、染色を繰り返すことに
よつて0.5%〜99.5%の網点が再現された。
用いた染色液の組成は以下の通りである。
(a) Astrazon Red 6B(Bayer社製塩基性染料)
4部 (b) ギ酸 0.5部 (c) モノゲンY100(第1工業製薬(株)製) 2部 (d) ハイテノールN093(第1工業製薬(株)製) 1部 (e) 酢酸カルビトール 20部 (f) 水 72.5部 実施例 2 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にレゾ
ール樹脂(スミライトレジンPC−1、住友デユ
レズ製)を2μの厚みに塗布し、180℃、3分間キ
ユアして支持体とした。この支持体上に下記の感
光層組成物を回転塗布、120℃、2分間加熱硬化
させ、厚み2.4μの感光層を設けた。
(a) フエノールノボラツク樹脂のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
(実施例1のもの) 100部 (b) 2,6−トルエンジイソシアナート 20部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) ジオキサン 2000部 この上に下記の組成を持つシリコーンゴム組成
液を回転塗布し、120℃、2分間加熱硬化させて
21μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
末端水酸基) 100部 (b) ビニルトリ(メチルエチルケトキシム)シラ
ン 8部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 (d) γ−〔N−(β−アミノエチル)アミノ〕プロ
ピルトリメトキシシラン 2.5部 (e) アイソパーE 1800部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密着
した150線網点面積率2%〜98%のネガフイルム
を通してメタルハライドランプを用い1mの距離
から60秒露光した。
次の組成を有する現像液 (a) アイソパーH 90部 (b) エチルセロソルブ 10部 および染色液 (a) Nichilon Blue BCT(日成−48、日成化成製
塩基性染料) 4部 (b) ギ酸 0.5部 (c) モノゲンY100(第1工業製薬(株)製) 2部 (d) 酢酸メチルカルビトール 20部 (e) 水 73.5部 を用意する。
実施例1と同様の手順によつて、現像および染
色を行なうことにより、画線部は紺色に染色さ
れ、2%〜98%の網点を再現していることが確認
された。
実施例 3 実施例1と同様にして得られた露光済みの原版
を次の組成を有する染色現像液で現像した。
(a) アイソパーE 35部 (b) エタノール 65部 (c) 実施例1の染色液 10部 露光部シリコーンゴム層が剥離すると同時に露
出した光剥離性感光層が赤色に染色され、現像の
終点が容易に判別でき、0.5%〜99.5%の網点を
再現した。
実施例 4 実施例1と同様にして得られた露光済みの原版
を次の組成を有する染色現像液で現像した。
(a) ジメチルホルムアミド 80部 (b) 水 20部 (c) クリスタルバイオレツト 0.5部 露光部シリコーンゴム層が剥離すると同時に露
出した光剥離性感光層が紺色に染色され、現像の
終点が容易に判別でき、0.5%〜99.5%の網点を
再現した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 支持体上にキノンジアジド類を含む光剥離性
    感光層およびシリコーンゴム層を積層したネガ型
    平版印刷原版を露光した後、シリコーンゴム層を
    膨潤し得る溶媒で画線部のシリコーンゴム層を剥
    離し、次いで露出した画線部を塩基性染料で染色
    することを特徴とするネガ型平版印刷版の製版方
    法。
JP8244581A 1981-06-01 1981-06-01 Manufacture of negative type lithographic plate Granted JPS57198465A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS55110249A (en) * 1979-02-19 1980-08-25 Toray Ind Inc Lithographic printing plate requiring no wetting water

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