JPH0432377B2 - - Google Patents

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JPH0432377B2
JPH0432377B2 JP57125757A JP12575782A JPH0432377B2 JP H0432377 B2 JPH0432377 B2 JP H0432377B2 JP 57125757 A JP57125757 A JP 57125757A JP 12575782 A JP12575782 A JP 12575782A JP H0432377 B2 JPH0432377 B2 JP H0432377B2
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C5/00Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は画像形成用積層体の処理方法に関する
ものであり、更に詳しくは特に選ばれた感光層と
シリコーンゴム層からなる画像形成用積層体の画
像形成法に関するものである。 感光層、シリコーンゴム層からなる画像形成用
積層体としては、種々のものが知られているが、
なかでも支持体に裏打ちされた感光層上にシリコ
ーンゴム層を設けてなる画像形成用積層体として
の湿し水不要平版印刷版については、過去にいく
つか提案されている。 例えば、ポジ型用印刷版としてUSP3677178に
はアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層
の上にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版原版
にポジフイルムを通して露光し、未露光部の可溶
性ジアゾ感光層とシリコーンゴム層を現像液を用
いて洗い出し、アルミ板を露出せしめて画像部と
することが提案されている。 またUSP3894873には支持体に裏打ちされた光
接着層の上にシリコーンゴム層を設けた平版印刷
版原版にポジフイルムを通して露光すると露光部
の光接着層が重合して、その上のシリコーンゴム
層をしつかりと接着させるが、未露光部の光接着
層は、その上のシリコーンゴム層に対して、もと
の弱い接着のまま残つているので、現像液で処理
するとシリコーンゴム層のみが容易に除去され、
その下の親油性の光接着層が露出するが、露光部
のシリコーンゴム層はその下の光接着層へ接着し
たまま残る。印刷版としては光接着層の未露光表
面がインキ受容部(画像部)となり、シリコーン
ゴム層がインキ反撥部(非画像部)となることが
提案されている。 さらにネガ型用印刷版としてUSP3511178には
アルミ板に裏打ちされた光可溶化型ジアゾ感光層
の上に接着層を介してシリコーンゴム層を設けた
平版印刷版原版にネガフイルムを通して露光した
後、現像液を用いて感光層を溶解除去すると同時
に、その上にあるシリコーンゴム層も除去し、支
持体であるアルミ板を露出せしめ画像部とするこ
とが提案されている。 また、英国特許GB2064803Aや英国特許
GB2034911になる支持体に裏打ちされたキノン
ジアジドからなる光分解型感光層を上にシリコー
ンゴム層を設けた平版印刷版原版にネガフイルム
を通して露光し、露光部のシリコーンゴム層、場
合によつては、感光層も一緒に現像液の用いて除
去し、感光層場合によつては支持体を露出せしめ
て画像部とすることが提案されている。 上記のような画像形成用積層体の処理方法、す
なわち画像形成用積層体を印刷版とする画像形成
処理においてシリコーンゴム層と感光層の接着が
重要なポイントであり、ただ単に接着が強ければ
よいというものではなく、いかにして露光部の感
光層とシリコーンゴム層の接着力と未露光部の感
光層とシリコーンゴム層の接着力の間に大きな差
をつけるかが重要なことである。 またこれらの画像形成用積層体は同様にして感
光層の膨潤性、溶解性も重要なポイントであり、
ただ単に溶解性や膨潤性がよければよいというも
のではなく、いかにして露光部感光層と未露光部
感光層の現像液に対する膨潤性、溶解性に大きな
差を生じせしめるかどうかも重要なことである。 かかる点において従来技術では種々の方法が提
案されており、例えばジアゾ基による光架橋によ
つて感光層を現像液に不溶ににすること
(USP3677178)、光重合性の光接着層を利用して
露光部の光接着層とシリコーンゴム層の間の接着
を強固にすること(USP3894873など)、露光に
よつて現像液に可溶化するジアゾ感光層を用いる
こと(USP3511178)、キノンジアジド系感光層
を露光によつて現像液に可溶化するということ
(英国特許GB2034911)露光によりシリコーンゴ
ム層と感光層の接着力を低下させ、現像液によつ
てシリコーンゴム層を剥ぎとるということ(英国
特許GB2064803A)が挙げられる。 これらを含めて今まで提案された画像形成しう
る積層体としては、露光によつてシリコーンゴム
層と感光層の接着を強くしたり、あるいは逆に弱
したり、または露光によつて感光層を現像液に不
溶したり、あるいは逆に可溶にするという光によ
つて直接的な変化(接着力、耐溶剤性の点で)を
生じせしめたものである。かかる従来技術の画像
形成法では未露光部と露光部のシリコーンゴム層
と感光層の接着力の差や、未露光部と露光部の感
光層の膨潤性や溶解性の差が充分大きくない。そ
のため、現像条件のわずかな変化によつて版面に
残るべき部分(シリコーン上層の湿し水不要平版
印刷版においては、非画像部を形成すべきシリコ
ーンゴム)が全面あるいは部分的に除去されたり
(非画像部のハガレ、ツブレとなる)、または逆に
版面から除去されるべき部分(シリコーンゴム上
層の湿し水不要平版印刷版においては画像部とな
る感光層上にあるシリコーンゴム層)が全面ある
いは部分的に残つたりすること(現像不能、現像
不良となる)が多々生じるなど満足のいくもので
はない。 このように非画像部のハガレ、ツブレと現像不
能、現像不良が接近していて完全に画像が形成さ
れうるラチチユード(現像のラチチユード)が狭
いこと、さらに現像液の組成が少し変化しただけ
で、上層のハガレが生じたり、あるいは現像不能
になつたりして像形成ができなくなる。 さらに現像時の温度依存性、湿度依存性が大き
く、例えば実用的温度、湿度の範囲内での高温ま
たは高湿下、非画像部のハガレが生じたり、低温
または低湿下現像不能が生じたりする。 また、上述のようなもの以外に現像時間(また
は現像液への浸漬時間)依存性が大きく、例えば
印刷版面を現像ブラシで長時間こすつたり、ある
いは長時間現像液に印刷版を浸漬したりすると、
本来強固に接着して印刷版を形成すべき感光層と
シリコーンゴム層の接着が現像液によつておかさ
れ、積層体の一部が除去されたり、または残るべ
き感光層が現像液によつて膨潤、溶解されて、現
像時に除去されてしまつたりして、現像時間の長
短によつて画像再現性に差がみられる。 さらに現像性時のコスリ強度の点で、荷重とコ
スリ回数依存性が大きく、かつその範囲は狭い。
例えば、強くこする(大きな荷重、コスリ回数が
大)と、接着が破壊され、非画像部のハガレを生
じ、一方弱くこすると画像再現性が悪く微小網点
まで充分再現しにくいこと(画像再現性のラチチ
ユードが狭い)、キノンジアジドを感光性物質と
することによる、露光によつて発生する窒素ガス
にもとづく焼きぼけが、もう一つの大きな欠点で
あること、現像された印刷版において感光性がそ
のまま保持されていること(定着されていないこ
と)による版面洗浄時などの印刷版の損傷の恐れ
などいろいろ問題を含んでいる。 かかる意味において従来の技術による画像形成
用積層体およびそれを用いた画像形成法において
なかんづくシリコーンゴム層と感光層からなる画
像形成用積層体としての湿し水不要平版印刷版原
版は画像再現性、耐溶剤性、現像性などを含めて
ラチチユードが非常に狭いことが解決すべき最大
の問題の一つであり、これは画像形成用積層体の
積層間の接着力および感光層の耐現像液性で露光
部と未露光部の差が小さいことに主として起因し
ており、このような問題を解決するために種々検
討がされているが、いまだ充分とは言えない。 本発明者らは、上記のような問題点を解決すべ
く鋭意検討した結果、以下に述べる本発明に到達
した。 すなわち本発明は、支持体上にキノンジアジド
構造を含む物質を構成成分とする感光層で、かつ
カルボン酸成分を含有する感光層およびシリコー
ンゴム層をこの順に設けてなる画像形成用積層体
に所定の露光を施し、次いで塩基処理した後現像
するか、または塩基処理と同時に現像することに
よつてネガ型またはポジ型湿し水不要平版印刷版
とする画像形成用積層体の処理方法に関するもの
である。 本発明の画像形成用積層体は湿し水不要平版印
刷版原版、特にネガ、ポジ両性タイプの湿し水不
要平版印刷版原版として用いられるものである。 画像形成用積層体の構成は、支持体に裏打ちさ
れた感光層、さらにその上にシリコーンゴム層を
設けてなるものである。 このような積層体からネガ型湿し水不要平版印
刷版を作成するには、たとえば前記の感光層に特
定量(感光層中のキノンジアジド構造を含む物質
のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解し
て生成する量をいい;以下特定量とあれば全てこ
の定義に基づくものである)のカルボン酸成分を
全面に生成あるいは含有させた画像形成用積層体
にネガフイルムまたはネガ原画を用いて画像露光
(画像露光部の感光層中のキノンジアジド構造を
含む物質のキノンジアジド単位の少なくとも70モ
ル%以上を光分解するに足る量の露光)を施す
か、あるいは逆に画像露光してから特定量のカル
ボン酸成分を非画像部に生成させるために、非画
像部を含む積層体の全面に露光し、次いで画像形
成用積層体を塩基処理した後現像するかあるいは
塩基処理と同時に現像することによつて、ネガ型
湿し水不要平版印刷版が得られる。 また、ポジ型湿し水不要平版印刷版を作成する
には、たとえば前記構成の画像形成用積層体の該
感光層に特定量のカルボン酸成分をポジフイルム
またはポジ原画を用いて露光により画像状に生成
させた画像形成用積層体を塩基処理した後現像す
るかあるいは塩基処理と同時に現像することによ
つて、ポジ型湿し水不要平版印刷版が得られる。 本発明の画像形成用積層体の処理方法を図面に
より説明するに、第1図は画像形成用積層体、第
2図および第3図は画像形成用積層体を処理する
ことによつてネガ型湿し水不要平版印刷版を製版
する手順の一例を示す概略図、また第4図は同じ
くポジ型湿し水不要平版印刷版を製版する手順の
一例を示す概略図である。 本発明の画像形成用積層体1は第1図に示すよ
うに支持体1a、キノンジアジド構造を含む物質
を構造成分とする感光層(以下感光層という)1
bおよびシリコーンゴム層1cからなるものであ
る。 この積層体1にネガフイルム2を密着し、画像
露光を施すことにより感光層上に画像露光された
部分1b′が生成する〔第2図A参照〕。次いで、
ネガフイルム2を取り除いて感光層1bの全面に
特定量のカルボン酸成分が生成するように露光
し、〔第2図B参照〕塩基処理および現像するこ
とによつて画像露光部分1b′のシリコーンゴム層
1cを除去することにより、ネガ型湿し水不要平
版印刷版3となる〔第2図C参照〕。この手順を
第2図に示す。 また、上記の手順のうち、たとえばまず感光層
1bの全面に特定量のカルボン酸成分を露光によ
り生成させた後、ネガフイルム2を密着し、画像
露光を施し、次いで以下第2図と同じ手順によつ
てもネガ型湿し水不要平版印刷版3が得られる。
この手順を第3図に示す。 さらに第4図に示すように積層体1にまずポジ
フイルム4を密着して、特定量のカルボン酸成分
を露光により画像状に生成させ(生成部を1b″に
示す)〔第4図A参照〕、次いで塩基処理および現
像することにより未露光部の感光層上のシリコー
ンゴム層を除去して、ポジ型湿し水不要平版印刷
版5となる〔第4図B参照〕。 以上の説明は画像部を形成する際にシリコーン
ゴム層のみが除去されるケースであるがシリコー
ンゴム層と共に感光層も除去されるケースも同じ
く説明できる。 かかる画像形成用積層体から湿し水不要平版印
刷版を作成するうえで塩基処理は重要な役割をは
たす。すなわち、キノンジアジド構造を含む物質
を構成成分とする感光層に特定量のカルボン酸成
分を生成または含有させた部分は、塩基処理を行
うとその上部にあるシリコーンゴム層との接着力
が向上し、かつその耐溶剤性も著しく向上するた
め、現像液によつてかかる特定量のカルボン酸の
存在する感光層上にあるシリコーンゴム層は除去
されることなく感光層とシリコーンゴム層とが共
に支持体上に残存して非画像部を形成するという
重要な役割を果たすのである。 本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジ
ド構造を含む物質から構成されるものであり、キ
ノンジアジド構造を含む物質とは、通常ポジ型
PS版、ワイポン版、フオトレジストなどに用い
られているキノンジアジド類である。 かかるキノンジアジド類はポリマ、オリゴマま
たはモノマとしてでもよく、水酸基をもつ化合物
と縮合して得られるキノンジアジドスルホン酸エ
ステルまたはアミン類と縮合させて得られるキノ
ンジアジドスルホン酸アミドである。 これらの例としては、ベンゾキノン−1,2−
ジアジドスルホン酸、ナフトキノン−1,2−ジ
アジドスルホン酸とポリヒドロキシフエニルとの
エステル(以下エステルとは部分エステルも含め
る)、ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−ス
ルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸とピロガロールアセトン樹脂と
のエステル、ベンゾキノン−1,2−ジアジドス
ルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド
スルホン酸とノボラツク型フエノールホルムアル
デヒド樹脂またはノボラツク型クレゾールホルム
アルデヒド樹脂のエステル、ポリ(p−アミノス
チレン)とナフトキノン−1,2−ジアジド−4
−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸のアミド、ポリp−ヒドロ
キシスチレンとナフトキノン−1,2−ジアジド
−4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−
ジアジド−5−スルホン酸のエステル、ポリエチ
レングリコールとナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2
−ジアジド−5−スルホン酸のエステル、重合体
アミンとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−
スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸のアミド、ポリメタクリル酸
p−ヒドロキシアニリドとナフトキノン−1,2
−ジアジド−4−スルホン酸またはナフトキノン
−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエステ
ル、天然樹脂ロジンをアミン変性したものとナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸の
アミド、ビスフエノールAとプロピレンオキシド
からのエポキシ樹脂とナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸のエステル、(メタ)ア
クリル酸とジヒドロキシフエニルのモノエステル
のポリマとナフトキノン−1,2−ジアジド−4
−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸のエステル、アミノイソフ
タル酸ジアリルエステルとナフトキノンジアジド
スルホン酸の縮合物を重合させたもの、ポリカル
ボナートとのキノンジアジドスルホン酸エステル
またはキノンジアジド類をイソシアネート等で架
橋したもの、ビスフエノールAとナフトキノン−
1,2−ジアジド−4−スルホン酸またはナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエ
ステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸とフエノール、p−クレゾールなどの
フエノール類、エチル、プロピル、ブチル、アミ
ルアルコールなどのアルコール類とのエステル、
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸とアニリン、p−ヒドロキシアミリンなどのア
ミン類との酸アミドなどがあげられる。特に好ま
しくはキノンジアジド系感光性樹脂が用いられ
る。 本発明において感光層中に含まれるカルボン酸
成分は、画像形成用積層体に露光を与えてキノン
ジアジド構造を含む物質からなる感光層の全面ま
たは画像状に生成させたもの、あるいはあらかじ
め感光層全面にカルボン酸成分を加えておいたも
のでもよい。この際含有されるカルボン酸成分の
量は画像形成用積層体の露光を受ける感光層中に
含まれるキノンジアジド構造を含む物質のキノン
ジアジド単位の5〜60モル%の範囲で光分解して
生成した量、より好ましくは10〜50モル%の変化
量に相当する量、すなわち未反応で感光層中に残
るキノンジアジド/キノンジアジドの光分解で生
成したカルボン酸(モル比)=95/5〜40/60、
より好ましくは90/10〜50/50に相当する量であ
る。上述した如く、これはキノンジアジドの光分
解によつてこの特定量のカルボン酸成分を生成さ
せてもよいし、あるいはあらかじめこの量に相当
するカルボン酸成分を添加して使用することもで
きる。 ここで言うカルボン酸成分の量とは、赤外線吸
収スペクトル(FT−IR−ATR法)で感光層中
のキノンジアジドのジアジド基に由来する2200〜
2000cm-1領域の吸収強度(吸収スペクトルの面積
強度)の露光による変化量、即ち、ジアジドの光
分解量を未露光の感光層の値を基準にして求めた
ものである。 露光によるキノンジアジドからカルボン酸への
変化は一般的にキノンジアジド類についていわれ
ているものであり、たとえばナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸とフエノールホル
ムアルデヒドノボラツク樹脂を例にとると、イン
デンカルボン酸であり本発明におけるそのカルボ
ン酸成分の特定量といえばおよそ次のような関係
にある。 ただしm+n+l=1 m/n=95/5〜40/60 露光によつてカルボン酸成分を生成する場合、
露光量は一義的に規定することはむずかしくキノ
ンジアジドの量、照射光などによつて異なる。例
えば上述のキノンジアジド類(エステル価40〜50
%)では、2g/cm2の膜厚で、400nmを中心と
する波長領域の強度(例えば、(株)オーク製作所製
ライトメジヤータイプUV−402A)で印刷版原版
面上で11mW/cm2の光量なら2〜20秒程度の露光
である。 本発明の塩基処理に用いられる塩基とは、通常
の化学分野で用いられている塩基を意味し、陽子
受容体あるいは電子供与体と定義されるものであ
る。塩基として無機または有機のいずれでもよ
く、一例をあげると次のようなものである。 有機塩基としては、炭素数1から30の有機塩基
(ただし、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシ
ルアミンは例外)が好ましく、これらの例として
はたとえば、アンモニア(アンモニウムハイドロ
キサイド)、メチルアミン、エチルアミン、ジメ
チルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチル
アミン、アミルアミン、ジプロピルアミン、ジブ
チルアミン、ジアミルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、メチルジエチルアミン、
エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テト
ラメチレンジアミン、ポリエチレンイミン、ベン
ジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、
N,N−ジエチルベンジルアミン、N,N−ジプ
ロピルベンジルアミン、o−またはm−またはp
−メトキシまたはメチルベンジルアミン、N,N
−ジ(メトキシベンジル)アミン、β−フエニル
エチルアミン、ε,δ−フエニルアミルアミン、
γ−フエニルプロピルアミン、シクロヘキシルア
ミン、アニリン、モノメチルアニリン、ジメチル
アニリン、トルイジン、ベンジジン、αまたはβ
−ナフチルアミン、oまたはm−またはp−フエ
ニレンジアミン、ピロリジン、ピペリジン、ピペ
ラジン、モルホリン、ウロトロビン、ジアザビシ
クロウンデカン、ピロール、ピリジン、キノリ
ン、ヒドラジン、フエニルヒドラジン、N,
N′−ジフエニルヒドラジン、ヒドロキシルアミ
ン、尿素、セミカルバジド、チオ尿素、リジン、
ヒスチジン、キニン、ブルシン、カフエイン、シ
ンコニン、コカイン、ストリキニン、水酸化テト
ラアルキルアンモニウム、アミノ安息香酸、ホル
ムアミド、アセタミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセタミド、アセタニ
リド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、2−(2−アミノエ
チル)エタノール、2−アミノ−2−メチル−
1,3−プロパンジオール、2−アミノ−1,3
−プロパンジオール、2−アミノ−2−ヒドロキ
シメチル−1,3−プロパンジオールなどのアミ
ン化合物(1級、2級、3級アミン、モノアミ
ン、ジアミン、トリアミン、テトラアミンからポ
リアミンまで、脂肪族鎖式アミン、脂肪族環式ア
ミン、芳香族アミン、ヘテロ環式アミン)および
酸アミドなどのアミン誘導体あるいはカルボン酸
とアミンの塩(例えばオクタン酸などとモノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミンなどとの塩)
などが用いられる。 また、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチ
ラート、ナトリウムプロピラート、カリウムメチ
ラート、カリウムエチラート、カリウムプロピラ
ート、リチウムメチラート、リチウムエチラート
などのアルカリ金属アルコラート、ナトリウム、
カリウム、リチウムのアミド、エチルアミド、ジ
プロピルアミドなどのアルカリ金属アミドなどが
用いられる。 無機塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水
酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、シアン
化カリ、シアン化ナトリウム、リン酸ナトリウ
ム、リン酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリ、ナトリウムメタシリケートなどのアルカリ
金属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩など
が用いられる。 また、塩基としてはマスクされているような
形、たとえばカルボン酸、リン酸などの酸とアル
カリ金属、アルカリ土類金属との塩でも使用可能
である。 これらの塩基のなかでも特に好ましいものは有
機塩基であり、さらにその中でも特にアミン化合
物が好ましい。これらの塩基は単独あるいは混合
して、液状あるいは気相状で用いられる。液状の
場合は例えば塩基そのものあるいは溶液の形で用
いる。溶液として用いる場合、溶媒は水または有
機溶剤または両者混合のいずれでもよい。また現
像液と一緒にしたものでもよい。 気相、液相いずれで処理する場合でも用いる塩
基の量としては、いちがいに決められない。効果
を出す最小量(絶対量)は明らかに必要がある
が、多い場合でも何ら効果をそこなうものではな
い。その効果の発現には塩基の濃度が低い場合、
必要量の塩基が供給されるという条件下、時間を
かけて処理さえすればよく、濃い場合は短時間で
よい。かかる意味において溶液として用いる場合
の濃度は特に限定されなく、塩基の強さ、あるい
は操作のしやすさ、安全上および実用的な処理時
間から、気相では50%以下0.01%以上、好ましく
は30〜40%以下0.1%以上、液相では100%以下
0.001%以上、好ましくは50%以下0.01%以上の
濃度範囲で充分効果が得られる。 塩基で処理する時間は特に限定されなく、塩基
の強さと濃度によつて適宜選択できるが、通常処
理液に触れると即時に効果があらわれ、かつ長時
間接触させても何ら効果に変化はない。通常約
2,3秒〜30分間程度でよい。 液状で処理する場合は印刷版原版を塩基または
塩基溶液に浸漬するか、あるいは塩基または塩基
溶液で版面をぬらす程度でよい。また気相で処理
する場合は、該塩基を含む気相に版面を曝露すれ
ばよい。 また感光層中には本発明の効果を損わない範囲
で塗膜形成向上や支持体との接着性向上などの目
的で地成分を加えたり、画像部感光層の全部また
は一部を残存させるいために現像液に不溶なポリ
マまたはモノマ成分を感光層にブレンドするこ
と、また現像時あるいは露光時に画像を可視化す
るために染料などを加えたりすることは可能であ
る。 本発明で用いられる感光層の厚さは約0.1〜
100μ、好ましくは約0.5〜30μが適当で、薄すぎる
と塗工時にピンホール等の欠陥が生じ易くなり、
一方厚すぎると経済的見地から不利である。 本発明に用いられるシリコーンゴム層は、次の
ようなくり返し単位を有する分子量数千〜数十万
の線状有機ポリシロキサンを主成分とするもので
ある。 〔ここでnは2以上の整数、Rは炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。最も好ましいのはRが全てメチル基である
ジメチルポリシロキサンである。〕 このような線状有機ポリシロキサンをまばらに
架橋することによりシリコーンゴムが得られる。 この線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋す
るためシリコーン架橋剤が添加される。架橋剤
は、いわゆる室温(低温)硬化型のシリコーンゴ
ムに使われているアセトキシシラン、ケトオキシ
ムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、ア
ミドシラン、アルケニロキシシランなどであり、
通常線状有機ポリシロキサンとして末端が水酸基
であるものとくみ合わせて、各々脱酢酸型、脱オ
キシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アミ
ド型、脱ケトン型(脱アセトン型)のシリコーン
ゴムとなる。 特に好ましくは、次にあげるシリコーン架橋剤
が用いられる。 (1) R−Si(OR)3(脱アルコール型) (2) R−Si(OAc)3(脱酢酸型) (3) R−Si(ON=CR′23(脱オキシム型) (4) R−Si(OC(R′)CH=CH23(脱ケトン型) ここで、Rは上で説明したRと同じ意味であ
り、R′はメチル、エチルなどのアルキル基であ
り、Acはアセチル基である。 また、シリコーンゴムには、更に触媒として少
量の有機スズ化合物等が添加されるのが一般的で
ある。シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、
好ましくは約0.5〜50μが適当であり、薄すぎる場
合には耐刷力の点で問題を生じることがあり、一
方厚すぎる場合は経済的に不利であるばかりでな
く現像時シリコーンゴム層を除去するのが困難と
なり画像再現性の低下をもたらす。 本発明の画像形成用積層体において、支持体と
感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、
画像再現性、耐刷力などの基本的な印刷版性能に
とり、非常に重要であるので、必要に応じて各層
間に接着層を設けたり、各層に接着改良成分を添
加することが可能である。 特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のため
層間に接着層として種々のものが用いられている
が、なかでもアミノシラン層が好ましい。ここで
言うアミノシランとは一般に次式で表わされるも
のを言う。 RnR′o(OR″)4-n-o 〔ここでR:無置換或いは置換アミノ基を有する
アルキル基 R′,R″:アルキル基又はアリール基mは1又
2,nは0又は1であつて、かつm+n=1又は
2の関係を満たす。〕 代表的なものとしては、例えば、3−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエ
チル)−3−アミノプロピルリメトキシシラン、
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス
〔3−(トリメトキシシリル)プロピル〕アミン、
ビス〔3−(トリメトキシシリル)プロピル〕エ
チレンジアミン、N−(3−トリメトキシシリル
プロピル)モルホリン、トリメトキシシリルピロ
ピルジエチレントリアミン、ビス(2−ヒドロキ
シエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、
3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
(N,N−ジエチル−3−アミノ)プロピルトリ
メトキシシラン、(N,N−ジメチル−3−アミ
ノ)プロピルトリメトキシシラン、N−メチルア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−フエニル
アミノプロピルトリメトキシシラン、1−トリメ
トキシシル−2−(p−m−アミノメチル)−フエ
ニルエタン、トリメトキシシリルプロピルアリル
アミンなどが挙げられる。 同様に感光層とシリコーンゴム層間の接着のた
めに、有機チタネート層が好ましい。ここでいう
有機チタネートとは、一般に次式で表わされるよ
うなチタン系プライマを言う。 Ti(OR)4,もしくはTi(OCOR′)4-o(OR)o
もしくは 〔ここで、R,R′はアルキル、アリール、シク
ロアルキルまたはアルケニルを表し、同一または
異なるものである。 nは0,1,2または3である。〕 これらの代表的なものとしては、例えばテトラ
−イソプロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシ
チタン、テトラステアロキシチタン、テトラキス
−(2−エチルヘキシル)チタネートなどのテト
ラアルキルチタネート。 ジプロポキシ・ビス(アセチルアセトナト)チ
タン、ジブトキシ・ビス(アセチルアセトナト)
チタン、ジブトキシ・ビズ(トリエタノールアミ
ナト)チタン、ジヒドロキシ・ビス(ラクタト)
チタン、テトラキス(2−エチルヘキサンジオラ
ト)チタンなどのチタニウムキレート。 トリ−n−ブトキシチタンモノステアレート、
チタニウムテトラベンゾエートなどのチタニウム
アシレート、もしくはこれらの会合体および重合
体等が挙げられる。 接着層の厚みは原理的に単分子層以上あればよ
いが実際の塗布操作上10mμ〜2μの範囲が選ば
れる。厚くなりすぎると経済的に不利であるばか
りでなく、感光層への現像液の浸透に悪影響を及
ぼす。 同様に感光層とシリコーンゴム層間の接着のた
めに、シリコーンゴム層に接着成分として、種々
のものが添加されているが、なかでもアミノシラ
ンまたは有機チタネートが好ましい。ここでいう
アミノシランまたは有機チタネートは先に説明し
たものと同じである。 シリコーンゴム層中に含まれるアミノシランま
たは有機チタネートの量は好ましくは0.05〜10重
量%、より好ましくは0.1〜5重量%が選ばれる。 またアミノシランと有機チタネートの混合、ま
たは他の接着成分と混合しても用いられる。 支持体としては、通常の平版印刷機等にセツト
できるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的なものとしては
アルミ、銅、鋼等の金属板、ポリエチレンテレフ
タレートのようなプラスチツクフイルムもしくは
シートあるいはコート紙、ゴム等があげられる。 また複合された支持体、ゴム弾性を有する支持
体、ゴム弾性層を有する支持体シリンダー状の支
持体を用いることもできる。 上記のシート状物の上にハレーシヨン防止その
他の目的でさらにコーテイングを施して支持体と
することも可能である。 以上説明したようにして構成された画像形成用
積層体の表面を形成するシリコーンゴム層を保護
するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプ
レーンまたは凹凸処理が施されたポリエチレンテ
レフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、セロフアンなどの薄い保護フイルムまたは
シートをラミネートすることもできる。かかる保
護フイルムは特に限定されなく、画像露光(ネガ
型、ポジ型とも)前に除去すればよい。画像露光
保護フイルムとしては上記のような材質のフイル
ムで紫外線を透過しうる透明性と露光時の焼きぼ
けを防ぐために100μ以下、好ましくは30μ以下の
厚みを有するものである。 かかる画像形成用積層体の層構成としては、次
のようになる。 順に支持体、必要なら接着層またはプライマ層
をはさんで感光層、さらに必要なら接着層をはさ
んでシリコーンゴム層、最後に必要なら保護層か
らなるものである。 本発明をなす、感光層中に特定量のカルボン酸
成分を露光により全面にわたつて生成させる場合
製造ライン上またはライン外にて感光層または感
光層とシリコーン層を塗設した状態、場合によつ
ては保護層までつけた印刷版原版の状態で必要量
の露光を与えることが必要である。または、あら
かじめ感光液中にカルボン酸成分を特定量加えて
おく必要がある。 特定量のカルボン酸成分を画像状に生成させる
場合は、製版時通常の露光操作で画像形成用積層
体に必要量の露光を与えることが必要である。特
定量のカルボン酸を生成させるための露光として
短時間に露光を与えうるフラツユ露光も利用でき
る。かかる意味において、画像形成用積層体の全
面にフラツシユ露光した後、画像露光をする方法
あるいは画像露光をしてから全面にフラツシユ露
光する方法などの後に塩基処理した後現像するか
または塩基処理と同時に現像することによつてネ
ガ型湿し水不要平版印刷版が得られる。 同様にして画像形成用積層体に画像状にフラツ
シユ露光して塩基処理したあと現像するかまたは
塩基処理と同時に現像するとポジ型湿し水不要平
版印刷版が得られる。 以上述べた場合のように特定量のカルボン酸成
分を感光層中に生成させるための露光に用いられ
る光源は、時に限定されるものではなく、キノン
ジアジドをカルボン酸に変化させる波長領域の光
を発生するものであればいずれでもよい。例えば
超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライ
ドランプ、キセノンランプ、ケミカル灯、けい光
灯、太陽光などが用いられる。 以上説明したような本発明にもとづく画像形成
用積層体は、例えば次のようにして製造される。
まず支持体のうえに、リバースロールコータ、エ
アーナイフコータ、メーヤバーコータなどの通常
のコータあるいはホエラーのような回転塗布装置
を用い感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾
燥および必要に応じて熱キユア後、必要ならば該
感光層のうえに同様な方法で接着層を塗布、乾燥
してからシリコーンガム溶液を感光層または接着
層上に同様の方法で塗布して、通常100〜130℃の
温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめてシ
リコーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フ
イルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター等
を用いてカバーする。このようにして得られる画
像形成用積層体をネガ型湿し水不要平版印刷版原
版として使用する場合は、感光層を塗設した後、
またはシリコーンゴム層を塗設した後または保護
フイルムをラミネートした後に全面露光を施し
て、特定量のカルボン酸成分をキノンジアジドか
ら生成させるかあるいは感光層中に予め特定量の
カルボン酸成分を加えておくか、いずれかの操作
を施すことによつて製造されたものでなければな
らない。製造工程でかかる操作を施されずに製造
された画像形成用積層体をネガ型湿し水不要平版
印刷版として使用する場合は製版工程で、すなわ
ち画像露光の前か後で非画像部に特定量のカルボ
ン酸成分を生成させるため、画像部を含めて全面
露光を与えなければならない。 一方、ポジ型湿し水不要平版印刷版原版として
使用する場合には、時にかかる操作は必要としな
い。 かかる意味において同一の画像形成用積層体か
ら画像を得るため露光秒数の変更によつて、即ち
ポジフイルムまたはポジ原画を用いる場合には特
定量のカルボン酸成分が生成するように画像状に
露光を与えて、塩基処理と現像を行なう、一方ネ
ガフイルムまたはネガ原画を用いる場合には、通
常の画像露光を与えるが、その露光の前か後に特
定量のカルボン酸成分が非画像部に生成するよう
に画像部を含めて全面に露光を与えてから、塩基
処理と現像を行なう。このようにして一つの印刷
版原版からポジ型、ネガ型のいずれの型式からで
も同一の画像の印刷版が出来る。 かかる画像形成用積層体から画像形成のための
露光としては次のようなものが挙げられる。例え
ば真空密着されたネガまたはポジフイルムを通し
て活性光線で露光すること(密着露光)、あるい
は、ネガまたはポジフイルムを通して活性光線
(透過光)で投影露光すること(投影製版)、ネガ
またはポジ原画からの反射光で露光すること(直
接製版)などである。露光に際しては保護層、特
にカバーフイルムの有無による大きな影響はな
い。 この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊
富に発生するものであり、水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノンランプ、メタルハイランドラン
プ、蛍光灯などを使うことができる。さらに紫外
線以外にもレーザー光等が用いられる。 塩基処理は露光ずみの画像形成用積層体を現像
することなく、すなわち現像の前にあるいは現像
と同時に行なわれる。ここでいう現像と同時には
塩基を加えた現像液で現像操作を行なうことであ
る。現像で版面を現像液を含んだ現像用パツトで
こするとネガ型湿し水不要平版印刷版の場合、画
像露光されたシリコーンゴム層が場合によつては
感光層も共に除去され、インキ受容部となる感光
層または支持体表面が露出する。 ポジ型湿し水不要平版印刷版の場合、未露光部
のシリコーンゴム層が、場合によつて感光層も共
に除去され、インキ受容部となる感光層または支
持体表面が露出する。 本発明において用いられる現像液としては湿し
水不要平版印刷版の現像液としての公知のものが
使用できる。たとえば脂肪族炭化水素類(ヘキサ
ン、ヘプタン、“アイソパーE,H,G”(エツソ
化学製脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソ
リン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエン、
キシレンなど)あるいはハロゲン化炭化水素類
(トリクレンなど)に下記の極性溶媒を添加した
ものが好適である。 アルコール類(メタノール、エタノール、水な
ど) エーテル類(メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、
エチルカルビトール、ブチルカルビートル、ジオ
キサンなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンな
ど) エステル類(酢酸エチル、メチルセロソルブア
セテート、セロソルブアセテート、カルビトール
アセテートなど) またCV、アセトラゾンレツドなどの染料を現
像液に加えて現像と感光層の染色化を同時に行な
うこともできる。 以上において詳細に説明してきた画像形成用積
層体の処理方法、とりわけ選ばれた感光層とシリ
コーンゴム層からなる画像形成用積層体を湿し水
不要平版印刷版とする画像形成法において、得ら
れる印刷版は、次のような形のものである。 すなわち、非画像部は塩基処理する前の感光層
中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジア
ジド単位とカルボン酸成分のモル比が100/0〜
0/100において95/5〜40/60、より好ましく
は90/10〜50/50の範囲に相当する部分であり、
このカルボン酸成分を露光によつて画像状に生成
させた場合にポジ型の非画像部を形成し(ポジ型
とはポジ原画またはポジフイルムを用いて画像を
形成し、画像状の露光部が非画像部を形成するタ
イプ)、露光によつて全面に生成または予め添加
して含有させた場合にネガ型の非画像部を形成す
る(ネガ型とはネガ原画またはネガフイルムを用
いて画像を形成し、画像露光部が画像部を形成す
るタイプ)。 これに対する画像部は感光層中のキノンジアジ
ド構造を含む物質のキノンジアジド単位とカルボ
ン酸成分のモル比が非画像部相当以外の範囲、よ
り好ましくは100/0または30/70〜0/100の範
囲に相当する部分であり、実質的にカルボン酸成
分を含まない未露光部(100/0部分)がポジ型
の画像部を形成し、該当部分の感光層中のキノン
ジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の
70モル%以上が光分解するに足る露光を受けた部
分(30/70〜0/100部分に相当する画像露光部)
がネガ型の画像部を形成する。 本発明による作像を原理を詳細は不明である
が、露光による感光層の変化を塩基処理によつて
増幅することによる感光層の耐溶剤性の変化、感
光層とシリコーンゴム層との接着性の変化として
とらえたことにあると考えられる。 かかる変化において特定量のカルボン酸成分、
好ましくはキノンジアジドから光分解で生成した
カルボン酸成分が感光層に存在する場合のみ、塩
基処理による感光層とシリコーンゴム層の接着と
感光層の耐溶剤性の著しい向上が、本発明にもと
づく画像形成用積層体において実現される。特定
量以上に例えば露光によつてカルボン酸成分が生
成されたところは、かかる効果が期待できないた
め、感光層とシリコーンゴム層の接着が弱く、か
つ感光層の耐溶剤性も劣るため、現像操作により
相当するシリコーンゴム層または感光層を含めて
除去されることになる。 すなわち、本発明のポイントは従来の概念によ
る露光部と未露光部の現像にかかる接着力、溶解
性の差を利用して、即ち、露光によつてひきおこ
された直接的な変化を現像で感知して画像を形成
しているのではなく、露光部(通常の画像露光部
で特定量以上のカルボン酸成分が生成するように
画像露光した部分)と特定量のカルボン酸成分を
生成するように露光して、または特定量のカルボ
ン酸成分を含有させて塩基処理した部分あるいは
未露光部と特定量のカルボン酸成分を生成するよ
うに露光して塩基処理した部分の現像にかかわる
接着力、溶解性または膨潤性の差を利用して、即
ち、特定量のカルボン酸成分を含有するかしない
かのわずかな感光層の違いを塩基処理によつて増
幅してから現像で感知して画像を形成するもので
あり、画像部と非画像部のオン−オフが従来より
大きいという新しい概念による画像部、非画像部
の形成である。 このようにして得られた画像形成用積層体およ
びその画像形成法によれば、 (1) 特に感光層とシリコーンゴム層との接着が著
しく向上すること。 (2) 感光層の耐溶剤性ひいては画像形成用積層体
の耐溶剤性が著しく向上すること。 (3) 画像形成においてネガ型とポジ型版が同一版
材からできること。 (4) 露光部と未露光部の差(感光層とシリコーン
ゴム層との接着、感光層の耐溶剤性)が大きい
ので現像のラチチユードが著しく拡大し、温湿
度、現像時間等の外的因子の影響をうけにくく
なること。 (5) 版製造条件を広くとつても一定条件の品質の
印刷版を与えるこ(製造ラチチユードの拡大)。 (6) 高感度ポジ型湿し水不要平版印刷版材が得ら
れること。 (7) 露光で発生する窒素による焼きぼけが著しく
防止されること。 (8) 感光層の染色化ができるため、画像部はもち
ろん非画像部のシリコーン層のハガレも検出で
き、検版性が著しく向上すること。 (9) 塩基処理によつて非画像部は褐色に発色する
ので、現像操作および印刷版等において画像部
と非画像部の識別が容易であること。 (10) 印刷版の非画像部は塩基処理により、感光性
を失つているため明室下の印刷版の取扱いに何
らの注意を必要とすることがない。そのため特
別な定着も不要である。 などの効果が発現される。 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明
する。なお実施例中に用いられる部は前て重量部
である。 実施例 1 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にフエ
ノールホルムアルデヒドゾール樹脂(スミライト
レンジンPC−1、住友デユレズ製)を2μの厚み
に塗布し、190℃、3分間キユアしたものを支持
体として、この上に下記の感光性組成物を塗布
し、120℃、2分間加熱処理して厚さ2μの感光層
を設けた。 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツク
樹脂の部分エステル(IR法によるエステル化
度47%) 100重量部 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
30重量部 ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 ジオキサン 740重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組成
物を回転塗布後、120℃、露点30°、2分間湿熱硬
化させて2μのシリコーンゴム層を設けて、画像
形成用積層体を作成した。 ジメチルポリシロキサン(分子量約25000、末
端水酸基) 100重量部 ビニルトリス(メチルエチルケトキシム)シラ
ン 8重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
1重量部 アイソパーE(エツソ化学製、脂肪族炭化水素
系溶剤) 1800重量部 かかる画像形成用積層体にメタルハライドラン
プ(岩崎電子(株)製アイドルフイン2000)を用い、
1mの距離でUVメーター((株)オーク製作所ライ
トメジヤアタイプUV−402A)で11mW/cm2の強
度で全面露光を6秒施した。この露光により感光
層中のキノンジアジドの18モル%が光分解してカ
ルボン酸成分を生成したことが赤外スペクトルで
確認された 上記のように全面露光をして得られた画像形成
用積層体に真空密着した150線の網点画像を持つ
ネガフイルムを通して上記のメタルハライドラン
プを用い、1mの距離から60秒画像露光した。次
いで、ソフパツド(3M社製現像パツド)を塩基
処理液(アイソパーH/ブチルカルビトール/エ
チルセロソルブ/エタノールアミン=90/5/
5/0.1重量比)にひたし、露光ずみの版面を完
全にぬらす。1分間すると全面露光のみをした部
分が褐色に着色する。ゴムスキージーで版面上の
塩基処理液を除去し、次いで版面と現像パツドに
現像液(アイソパーH/ブチルカルビトール/エ
チルカルビトール=20/40重量比)を注き、現像
パツドで版面を軽くこすると画像状に露光された
部分のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面
が露出した。一方、全面露光のみをされた部分に
はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガ
フイムルを忠実に再現した画像が得られた。 この印刷版をオフセツト印刷機(小森スプリン
ト2カラー)に取り付け、東洋インキ製“アクワ
レスST蓋”を用いて、湿し水を用いないで印刷
したところ150線の網点5%〜95%が再現された
極めて良好な画像を持つ印刷物が得られた。5万
部刷了後も地汚れおよび版面の損傷は全く見られ
ず、さらに印刷を継続できる状態であつた。印刷
物の画像再現性も印刷期間を通じ全く変化がなか
つた。 一方、上記のようにして製造された画像形成用
積層体に先と同じメタルハライドランプとUVメ
ーターを用い、1mの距離で11mW/cm2の強度で
全面露光を60秒施した。この露光により感光層中
のキノンジアジドの95モル%が光分解しているこ
とが赤外スペクトルから判つた。以下、前記と同
様に画像露光、塩基処理、現像をしたところシリ
コーンゴム層が全面にわたつてハガレ、画像は形
成されなかつた。 実施例 2 実施例1に記載の通り製造し、かつ露光して得
られた画像形成用積層体と現像パツドに塩基入り
の現像液(アイソパーH/ブチルカルビトール/
エチルセロソルブ/モノエタノールアミン=90/
5/5/0.2重量比)を注ぎ、現像パツドで版面
を均一にぬらすと全面露光のみをうけた部分が褐
色に着色する。そこで、軽く現像パツドでこする
と画像状に露光された部分のシリコーンゴム層が
除去されて感光層表面が露出した。一方、全面露
光のみを受けた部分はシリコーンゴム層が強固に
残存しており、実施例1と同じく、ネガフイルム
に忠実な画像を再現した印刷版が得られた。 実施例 3 ネガフイルムを通して画像露光を行なつてから
メタルハライドランプによる全面露光を実施した
以外は、すべて実施例1に記載の通りに行なつた
ところ、実施例1で得られた印刷版と何ら変わる
ところのないものが得られた。 実施例 4 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にフエ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライ
トレンジンPC−1、住友デユレズ製)を1.7μの
厚みに塗布し、180℃、3分間キユアして支持体
とした。この支持体上に下記の感光層組成物を回
転塗布、120℃、2分間加熱硬化させ、厚み2.3μ
の感光層を設けた。 (a) エステル化度48%のフエノールホルムアルデ
ヒドノボラツク樹脂(スミライトレンジ
RP50235、住友デユレズ製)のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
100部 (b) 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアナート
30部 (c) ジブチル錫ジラウレート 0.2部 (d) ジオキサン 2000部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物をメーヤバーコータで塗布後、120℃、DP30
℃、4分で加熱硬化して厚み2.3μのシリコーンゴ
ム層を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約25000、
末端水酸基) 100部 (b) ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.1部 (d) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5部 (e) アイソパーE(エツソ科学製) 440部 上記のようにして得られた画像形成用積層体
に、150線の網点画像を有するポジフイルムを、
常法に従つて真空密着し、実施例1で用いたメタ
ルハライドランプを用いて1mの距離で実施例1
で用いたUVメーターで11mW/cm2の強度で9秒
露光を施した。続いてこの版をアイソパーH/プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル/エチル
セロソルブ/モノエタノールアミン=90/5/
5/0.3重量比)からなる塩基入り現像液に浸し、
現像パツドで軽くこすると、未露光部のシリコー
ンゴム層が除去されて感光層表面が露出し画像部
を形成するが、露光部シリコーンゴム層は現像液
に侵されずに残り、非画像部となり、原画フイル
ムに忠実な画像の印刷版が得られた。 この印刷版をオフセツト印刷機(小森スプリン
ト2カラー)に取り付け、東洋インキ製“アクワ
レスST蓋”を用いて、湿し水を用いないで印刷
したところ150線の網点5〜95%が再現された極
めて良好な画像を持つ印刷物が得られた。1万部
刷了後も地汚れおよび版面の損傷は全く見られ
ず、さらに印刷を継続できる状態であつた。 実施例 5 実施例4で得られた画像形成用積層体に、拡大
投影殖版機(大日本スクリーン製)を用い、原画
ポジフイルムの5倍の拡大サイズで実施例1の
UVメーターで3.6mW/cm2の強度下、15秒投影露
光した。かかる露光の後、実施例4で実施したよ
うに現像を行なうと、ポジ原画の5倍の画像を忠
実に再現した印刷版が得られた。 実施例 6 実施例4で得られた画像形成用積層体を用いて
反射原稿によるダイレクト製版を以下のように行
なつた。2本の2kWメタルハライドランプ(岩
崎電気(株)製)から20cmの距離にあるポジ原画を製
版カメラを通してその反射光でもつて画像形成用
積層体上に画像を結ばせ、画像形成用積層体上の
強度が1mW/cm2(実施例1で用いたUVメータ
ーで測定)の条件下でシヤツタースピード36秒の
露光をした。かかる露光の後、実施例4で実施し
たように現像を行なうと、ポジ原画を忠実に再現
した印刷版が得られた。 実施例 7 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にエステル
化度44%のフエノールホルムアルデヒドノボラツ
ク樹脂(住友ベークライト製;スミライトレジン
PR50235)のナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分
9.7重量%、エステル化度はIRスペクトルからの
定量)の3重量%ジオキサン溶液をホエラーで回
転塗布後60℃、3分間乾燥させて1.2μの感光層を
形成した。この上に次の組成を持つシリコーンガ
ム組成物の7%アイソパーE溶液に、シリコーン
組成物に対し4重量%のγ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン(UCC製;A1100)を添加し、均
一に撹拌後ホエラーで回転塗布した。乾燥後120
℃、DP25°4分間加熱硬化し2.2μのシリコーンゴ
ム層を得た。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
両末端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に
メタルハライドランプ(岩崎電気(株)製アイドルフ
イン2000)を用い、1mの距離で実施例1のUV
メーターで11mW/cm2の強度、10秒間の全面露光
(感光層中のキノンジアジドの25モル%が光分解
してカルボン酸成分を生成する光量)した。 かかる全面露光を施して得られた積層体に、真
空密着した150線の網点画像を持つネガフイルム
を通してメタルハライドランプ(岩崎電気製アイ
ドルフイン2000)を用い、1mの距離から60秒照
射した。露光された版の版面をエタノール8部、
アイソパーE2部、ベンジルアミン0.3部からなる
塩基入り現像液に浸漬し現像パツドで軽くこする
と、画像露光した部分はシリコーンゴム層と感光
層の両方が容易に除去されて化成処理アルミ表面
が露出し、一方全面露光のみをした部分にはシリ
コーンゴム層と感光層が強固に残存しており、ネ
ガフイルムを忠実に再現した画像が得られた。 この印刷版を実施例1と同じようにオフセツト
印刷機(小森スプリント2カラー)に取り付け、
東洋インキ製“アクアレスST蓋”を用いて、湿
し水を用いないで印刷したところ150線の網点5
%〜95%が再現された極めて良好な画像を持つ印
刷物が2万部印刷できた。 実施例 8 実施例7で得られた画像形成用積層体(いかな
る露光もされていない)に、真空密着した150線
の網点画像を持つポジフイルムを通してメタルハ
ライドランプ(岩崎電機(株)製アイドルフイン
2000)を用い、1mの距離から実施例1で用いた
UVメーターで11mW/cm2の強度で10秒照射し
た。版面をアイソパーE/エタノール/ベンジル
アミン=50/50/5(重量比)からなる塩基入り
現像液に浸漬してから、ソフパツド(大日本スク
リーン製)で軽くこすると未露光部のシリコーン
ゴム層が容易に除去され画線部となるが、露光部
のシリコーンゴム層は強固に接着して残存し非画
線部となる。このようにして得られた印刷版はポ
ジフイルムを忠実に再現した画像を有しており平
版印刷で湿し水を用いずに良好な印刷物を与え
る。 実施例 9 住友軽金属製、化成処理アルミ板(厚さ0.3mm)
に下記の感光層組成物を回転塗布し、120℃、2
分間加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。 (a) エステル化度44%のフエノールホルムアルデ
イヒドノボラツク樹脂(スミライトレジン
PR50235、住友デユレズ製)のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
100部 (b) 4,4′−フエニルメタンジイソシアナート
20部 (c) ジブチル錫ジウラレート 0.2部 (d) メチルセロソルブチアセテート 2000部 この上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(UCC製:A1100)の0.5重量%アイソパーE
(エツソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布後、
110℃、30秒間乾燥した。 続いてこの上に下記の組成物を回転塗布後、
120℃、DP30°、2分で加熱硬化して厚み2.2μの
シリコーン層を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
両末端水酸基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 (d) アイソパーE 1650部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に
超高圧水銀灯(オーク製作所製ジエツトライト
3300、2kW)を用い、1mの距離で実施例1の
UVメーターで11mW/cm2の強度で12秒全面露光
した。この露光により感光層中のキノンジアジド
の38モル%が光分解したことを赤外スペクトルで
確認した。 このようにして特定量のカルボン酸成分を感光
層に生成させた画像形成用積層体に真空密着した
150線の網点画像を持つネガフイルムを通して上
記水銀灯を用い、1mの距離から60秒画像露光し
た。 次いで、現像パツドに塩基入りの現像液(アイ
ソパーH/プロピレングリコールモノメチルエー
テル/エチルセロソルブ/モノエタノールアミン
=80/10/10/1重量比)をひたし、版面を均一
にごく軽くぬらして全面露光のみをうけた部分が
褐色に変化したら、現像パツドでこすると、画像
状に露光を受けた部分のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出し画像部を形成するが、
一方全面露光のみを受けた部分のシリコーンゴム
層は強固に残存し、非画像部を形成する。かくし
てネガフイルムに忠実な画像を再現した印刷版が
得られ、湿し水を用いずに平版印刷すると良好な
印刷物が2.5万枚印刷できた。 実施例 10 実施例9で得られた画像形成用積層体(全面露
光、画像露光とも未実施)に、真空密着した150
線の網点画像を持つポジフイルムを通してメタル
ハライドランプ(岩崎電機(株)製アイドルフイン
2000)を用い、1mの距離から実施例1で用いた
UVメーターで11mW/cm2の強度で15秒露光し
た。 次いで現像パツドに塩基入り現像液(アイソパ
ーH/プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル/エチルセロソルブ/モノエタノールアミン=
90/5/5/0.2重量比)をしみこませ、版面を
均一にぬらして露光部が褐色に変化したら、その
ままで現像パツドでこすると、未露光部のシリコ
ーンゴム層が除去され感光層が露出し、露光部の
シリコーンゴム層はしつかりと感光層共に残存し
ており、ポジフイルムを忠実に再現した画像が得
られた。 実施例 11 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にフエ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライ
トレジンPC−1、住友デユレズ製)を2μの厚み
に塗布し、200℃、3分間キユアしたものを支持
体として、この上にエステル化度44%のフエノー
ルホルムアルデヒドノボラツク樹脂(住友ベーク
ライト製:スミライトレジンPR50235)のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テル(エタノール可溶性成分9.7重量%、エステ
ル化度はIRスペクトルから定量)の7重量%ジ
オキサン溶液をホエラーで回転塗布後60℃、3分
間乾燥させて2.7μの感光層を形成した。 この上にγ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン(チツソ(株)製:A0800)の0.5重量%アイソパ
ーE(エツソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布
後、120℃、30秒間乾燥した。この上に次の組成
を持つシリコーン組成物の7%アイソパーE溶液
をホエラーで回転塗布後、120℃、DP30°4分加熱
硬化した。この場合得られたシリコーンゴム層の
厚みは2.2μであつた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000末
端OH基) 100部 (b) ビニルトリス(エチルメチルケトンオキシ
ム)シラン 6部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に
ケミカル灯(トーコー、マスタープリンターA3)
を用い、5cmの距離で実施例1のUVメーターで
2.5mW/cm2の強度で10秒全面露光した。この露
光量は予め検量線より求めておいた感光層のキノ
ンジアジドの15モル%が光分解する量に相当する
ものである。 このようして特定量のキノンジアジドをカルボ
ン酸に変化させた画像形成用積層体に真空密着し
た150線の網点画像を持つネガフイルムを通して
超高圧水銀灯(オーク製作所製ジエツトライト、
2kW)を用い、1mの距離から70秒画像露光し
た。 次いで現像パツドと露光版を塩基入り現像液
(アイソパーE/エタノール/水/2−アミノ−
2−メチル−1,3−プロパンジオール=35/
65/3/0.5重量比)につけて、全面露光のみが
されている部分が褐色に変化してから、版面を現
像液をふくませた現像パツドで軽くこすると、画
像露光の部分はシリコーンゴム層と感光層が容易
に除去されて支持体表面が露出し、一方全面露光
のみの部分はシリコーンゴム層と感光層はしつか
り残存しており、ネガフイルムを忠実に再現した
画像をもつ印刷版が得られた。 実施例 12 厚み0.3mmのアルミ板上に、厚み0.3mm、ゴム硬
度60(シヨアA)のクロロプレンゴム層を設けた
複合基板上に、エステル化度44%のフエノールホ
ルムアルデヒドノボラツク樹脂(住友ベークライ
ト製;スミライトレジンPR50235)のナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステル
の10重量%ジオキサン溶液を塗布し、60℃熱風中
で乾燥し、厚さ3μの感光層を設けた。この上に
次の組成を持つシリコーンゴム組成物の10重量%
n−ヘキサン溶液を塗布し、120℃、DP30°熱風
中で4分間加熱硬化して、厚さ2.5μのシリコーン
ゴム層を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量30000末端
水酸基) 100部 (b) メチルトリアセトキシシラン 6部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2部 (d) γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5部 (e) ジブトキシ、ビス(エチルアセトアセテー
ト)チタン 3部 上記のようにして得られた画像形成用積層体を
真空密着したネガフイルムを通して超高圧水銀灯
(オーク製作所製ジエツトライト2kW)を用い、
1mの距離から90秒画像露光した。次いでメタル
ハライドランプ(岩崎電気(株)アイドルフイン
2000)を用い、1mの距離でUVメーター((株)オ
ーク製作所ライトメジヤアタイプUV−302A)で
0.6mW/cm2の強度で全面露光を7秒した。 露光ずみの版は、エタノール65部/アイソパー
E35部/水3部/モノエタノールアミン0.2部から
なる現像液で版面をぬらし、全面露光のみした部
分が変色してから現像パツドで軽くこすると、画
像露光部分は容易に除去されて基板のゴム層が露
出し、一方全面露光のみの部分にはシリコーンゴ
ム層が強固に残存しており、ネガフイルムを忠実
に再現した印刷版を得た。 実施例 13 厚み0.2mmのポリエステルフイルム(東レ(株)製
ルミラー)の上に、厚み0.25mm、ゴム硬度(シヨ
アA)70のニトリルゴム層を設けた複合基板上
に、エステル化度44%のフエノールホルムアルデ
ヒドノボラツク樹脂(住友ベークライト製;スミ
ライトレジンPR50235)のナフトキノン−1,2
−ジアド−5−スルホン酸エステル(エタノール
可溶性成分9.7重量%、エステル化度はIRスペク
トルから定量)の7重量%ジオキサン溶液をホエ
ラーで回転塗布後60℃、3分間乾燥させて2.7μの
感光層を形成した。この上にγ−アミノプロピル
トリメトキシシラン(チツソ(株)製;A0800)の
0.5重量%アイソパーE(エツサ化学製)溶液をホ
エラーで回転塗布後、120℃、30秒間乾燥した。
この上に次の組成を持つシリコーン組成物の7%
アイソパーE溶液をホエラーで回転塗布、120℃、
D.P.30°4分加熱硬化した。この場合得られたシリ
コーンゴム層の厚みは2.2μであつた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000末
端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 このようにして得られた画像形成用積層体にメ
タルハライドランプ(岩崎電気(株)製アイドルフイ
ン2000)を用い、1mの距離で、実施例1で用い
たUVメーターで11mW/cm2の強度で9秒間全面
露光した。次いで真空密着した150線の網点画像
を持つネガフイルムを通して上記メタルハライド
ランプを用い、1mの距離から90秒画像露光し
た。 全面露光と画像露光した版は実施例12と同様に
現像することにより良好な画像を有する印刷版が
得られた。 実施例 14 厚み0.3mmのアルミ板上に、厚み0.3mm、ゴム硬
度60(シヨアA)のクロロプレンゴム層を設けた
複合基板上に下記の感光製組成物を塗布し、120
℃、2分間加熱処理して厚さ2μの感光層を設け
た。 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツク
樹脂の部分エステル(IR法によるエステル化
度47%) 100重量部 ポリ(フエニレンメチレン)ポリイソシアネー
ト(日本ポリウレタン製MR200) 30重量部 ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 ジオキサン 740重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、露点30°、2分間加熱
硬化させて2μのシリコーンゴム層を設けて、画
像形成積層体を作成した。 ジメチルポリシロキサン(分子量約25000、末
端水酸基) 100重量部 ビニルトリス(メチルエチルケトキシム)シ
ラン 8重量部 ジブチル錫アセテート 0.2重量部 γ−〔N−アミノエチルアミノプロピル〕トリ
メトキシシラン 1重量部 アイソパーE 1800重量部 かかる画像形成用積層体にメタルハライドラン
プ(岩崎電気(株)製アイドルフイン2000)を用い、
1mの距離でUVメーター((株)オーク製作所ライ
トメジヤアタイプUV−402A)で11mW/cm2の強
度で全面露光を13秒施した。 引き続き常法通り、真空密着した100線の網点
画像を持つネガフイルムを通して上記メタルハラ
イドランプを用い、1mの距離から75秒露光し
た。次いで、ソフトパツド(3M社製現像パツド)
を塩基処理液(アイソパーH/ブチルカルビトー
ル/エチルセロソルブ/モノエノールアミン=
90/5/5/0.1重量比)にひたし、版面を完全
にぬらす。1分間程度で全面露光のみをした部分
が黒褐色に着色する。その後、版面の塩基処理液
を除去し、現像パツドに現像液(アイソパーH/
ブチルカルビトール/エチルカルビトール=20/
40/40重量比)を充分しみこませ、現像パツドで
版面をこすると画像状に露光された部分のシリコ
ーンゴム層が除去され、感光層表面が露出する。
一方、全面露光のみの部分はシリコーン層が感光
層に強固に接着して残つている。 かくして画像露光部の露出した感光層が画線
部、全面露光のみの部分の残つたシリコーンゴム
層が非画線部となる。ネガフイルムに忠実な画像
を再現した印刷版が得られた。 実施例 15 実施例1において、メタルハライドランプによ
る全面露光を感光性組成物を塗布、熱処理した
後、すなわち、この上にシリコーンゴム層を塗設
する前に実施して、しかる後にシリコーンゴム層
を塗設して得られた画像形成用積層体に実施例1
と同様にネガフイルムを用いて画像露光して、塩
基処理と現像を施しても何ら変わるところのない
良好な画像印刷版が得られた。 実施例 16 実施例1で得られた画像形成用積層体に版面保
護、真空密着性向上のためのカバーフイルムとし
てポリプロピレンフイルム(厚さ8μ)をラミネ
ーターでラミネートする。然る後、この上から実
施例1に記載の通りに全面露光、画像露光あるい
は逆に画像露光、全面露光の順にしてから、カバ
ーフイルムをはぎとつて実施例1または2の記載
通りに塩基処理と現像をしても、焼きぼけのな
い、良好な画像の印刷版が得られた。 実施例 17 (A) 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にエステ
ル化度44%のフエノールホルムアルデヒドノボ
ラツク樹脂(スミライトレジンPR50235、住友
デユレズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル7部、塩素化ポリ
ブロプレン(“スーパークロン306”、山陽国策
パルプ製)3部、ジオキサン133部からなる組
成物をパーコーター(#24)を用いて塗布60°
で乾燥し、厚み2.8μの感光層を形成した。この
上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
(A1100、UCC製)の0.2重量%アイソパーE
(エツソ化学製)溶液をホエラーを用い回転塗
布後、110℃で1分間乾燥した。この上に次の
組成を持つシリコーン組成物の7重量%アイソ
パーE溶液をホエラーで回転塗布し、100℃、
2分間加熱硬化した。この場合得られたシリコ
ーンゴム層の厚みは2.2μであつた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000、
末端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に
メタルハライドランプ(岩崎電気(株)アイドルフイ
ン2000)を用い、1mの距離で実施例1で用いた
UVメーターで11mW/cm2の強度で5秒間全面露
光した。次いで、この全面露光した画像形成用積
層体に真空密着した100線の網点画像を持つネガ
フイルムを通してメタルハライドランプを用い1
mの距離から60秒照射した。版面をエタノール/
アイソパーE/ベンジルアミン(5/5/0.5)
混合液に浸漬して全面露光のみの部分が茶色に変
化してから現像パツドで軽くこすると画像露光部
のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露
出した。 一方、全面露光のみの部分にはシリコーンゴム
層が強固に残存しており、ネガフイルムを忠実に
再現した画像が得られた。 実施例 18 厚み0.24mmのアルミ板(住友軽金属製)にフエ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライ
トレジンPC−1、住友デユレズ製)を2μの厚み
に塗布し、190℃、3分間キユアしたものを支持
体として、この上に、下記の感光性組成物を塗布
し、120℃、2分間加熱処理して厚さ2μの感光性
を設けた。 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツク
ス樹脂の部分エステル(IR法によるエステル
化度47%) 100重量部 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
30重量部 ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 pトルエンスルホン酸 0.8重量部 ジオキサン 740重量部 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物を回転塗布後、120℃、露点30°3分間加熱硬
化させて2μのシリコーンゴム層を設けて、画像
形成用積層体を作成した。 ジメチルポリシロキサン(分子量約25000、末
端水酸基) 100重量部 ビニルトリス(メチルエチルケトキシム)シラ
ン 8重量部 ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
0.5重量部 アイソパーE(エツソ化学製) 1800重量部 かかる画像形成用積層体にメタルハライドラン
プ(岩崎電気(株)製アイドルフイン2000)を用い、
1mの距離でUVメーター((株)オーク製作所ライ
トメジヤアタイプUV−402A)で11mW/cm2の強
度で全面露光を10秒施した。 しかる後にカバーフイルムとして、厚さ13μの
ポリプロピレンフイルム(東レ(株)製)をラミネー
ターで版面上にラミネートする。 引き続きカバーフイルムをかけたまま常法通
り、真空密着した150線の網点画像を持つネガフ
イルムを通してメタルハライドランプを用い、1
mの距離から60秒画像露光した。次いで、カバー
フイルムをはぎとりソフパツド(3M製現像パツ
ド)を実施例1の塩基処理液にひたし、版面を完
全にぬらす。画像状に版面が褐色に着色したら、
塩基処理液を版面から拭きとつて、現像パツトで
現像液(アイソパーH/ブチルカルビトール/エ
チルカルビトール/2−エチルヘキサン酸/クリ
スタルバイオレツト=20/40/40/2/0.2重量
比)を用い版面を軽くこすること画像状に露光さ
れた部分のシリコーンゴム層が除去され、紫色に
染色された感光層表面が露出した。一方、全面露
光のみをされた部分のシリコーンゴム層は染色さ
れないで強固に接着して残存した。しかる後に常
法通り版面を水洗、乾燥して得られた印刷版はネ
ガフイルムを忠実に再現し、かつ非画線部(未染
色化)と画像部(染色化)の区別がはつきりして
おり、良好なものであつた。なお画線部の染色化
は現像と同時にでなくとも、即ち実施例1で用い
た現像液で現像して、しかる後、染色液(酢酸カ
ルビトール/エチレングリコール/クリスタルバ
イオレツト=30/70/3重量比)を用いて染色し
ても何わかわるところはない。 実施例 19 実施例1で得られた画像形成用積層体に実施例
1と同様な全面露光およびネガフイルムを通して
画像露光して得られた版を次表に示した塩基入り
現像液で現像したところ、良好ないしは適度の画
像の印刷版が得られた。
【表】
【表】 実施例 20 実施例1の支持体へ下記の感光性組成物を塗布
し、120℃、2分間加熱処理して厚さ2μの感光層
を設けた。 ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸とフエノールホルムアルデヒドノボラツク
樹脂の部分エステル 70重量部 同上の部分エステルを露光して完全にキノンジ
アジド成分を光分解してインデンカルボン酸成
分としたもの 30重量部 4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネート
30重量部 ジブチル錫ジラウレート 0.2重量部 p−トルエンスルホン酸 0.8重量部 ジオキサン 740重量部 続いてこの上に実施例1と同じシリコーンゴム
組成物を塗布キユアして、画像形成用積層体を作
成した。 かかる画像形成用積層体にメタルハライドラン
プ(岩崎電気製アイドルフイン2000)を用い、1
mの距離で真空密着させたネガフイルムを通して
60秒画像露光してから、実施例1と同様に塩基処
理、現像を行なつたところ、露光部のシリコーン
ゴム層が除去され、感光層が露出して忠実に画像
が形成された印刷版が得られた。 実施例 21 厚み200μの“ルミラー”(東レ(株)製ポリエステ
ルフイルム)上に厚み300μのゴム硬度70のNBR
層を設けた複合基板を支持体として、この上にエ
ステル化度50%のフエノールホルムアルデヒドノ
ボラツク樹脂(スミライトレジンPR50235、住友
デユレズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステルの4重量%ジオキサン
溶液をホエラで回転塗布し、100℃で2分間乾燥
して厚み2g/m2の感光層を設けた。 続いてこの上にジ−n−ブトキシ・ビス(アセ
チルアセテート)チタンの2.8重量%のアイソパ
ーE(エツソ化学製)溶液をバーコーターで塗布
後、120℃、1分間乾燥して厚み0.1g/m2の接着
層を設けた。 さらにこの接着層の上に下記の組成のシリコー
ンゴム組成物をホエラで塗布後、120℃、露点
30°4分で加熱硬化して厚み2.5g/m2のシリコー
ンゴム層を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約22000、
両末端水酸基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン/メチルトリア
セトキシシラン(1/1混合) 6部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.12部 (d) アイソパーE 1370部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に
超高圧水銀灯(オーク製作所製ジエツトライト
2kW)を用い、1mの距離から実施例1のUVメ
ーターで11mW/cm2の強度で8秒全面露光してか
ら、真空密着した100線のネガフイルムを通して
超高圧水銀灯(ジエツトライト2kW)を用い、
1mの距離から90秒露光した。続いてエタノー
ル/アイソパーE/モノエタノールアミン(65/
35/0.5)の現像液に浸漬し、画像状に黒褐色に
版面が変化してから現像パツドで軽くこすると、
画像露光部のシリコーンゴム層が感光層とともに
除去され、複合基板表面が露出し、原画フイルム
に忠実な画像の印刷版が得られた。 この印刷版を用いて直刷り印刷を行つたところ
良好な印刷物が2万枚得られた。 実施例 22 厚み0.24mmの生アルミ板(住友軽金属製)にレ
ゾール樹脂(スミライトレジンPC−1、住友デ
ユレズ製)を1g/m2の厚みに塗布し、190℃、
15分間キユアして支持体とした。 この支持体にフエノールホルムアルデヒドノボ
ラツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸エステルの1.4重量%のジオキサ
ン溶液をホエラで回転塗布し、100℃で2分間乾
燥して厚み0.5g/m2の感光層を設けた。 続いてこの上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物をバーコーターで塗布後、120℃、露点30℃
4分で加熱硬化して厚み2.3g/m2のシリコーン
ゴム層を設けた。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約22000両
末端水酸基) 100部 (b) ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シ
ラン 8部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.1部 (d) ジ−イソ−プロポキシ・ビス(アセチルアセ
トナト)チタン 4.9部 (e) アイソパーE 360部 上記のようにして得られた画像形成用積層体に
150線の網点画像を持つネガフイルムを真空密着
し、メタルハライドランプ(岩崎電気製アイドル
フイン2000)を用い、1mの距離から60秒露光し
た。さらにこの画像露光ずみ積層体に同じランプ
で実施例1で用いたUVメーターで版面上11m
W/cm2の強度で10秒全面露光した。次いで塩基入
り現像液(アイソパーE/ブチルカルビトール/
モノエタノールアミン=40/60/1wt%)に浸漬
し、現像パツドで軽くこすると画像露光部のシリ
コーン層と感光層が除去され、支持体表面が露出
したネガフイルムの画像を忠実に再現した印刷版
が得られた。 実施例 23 実施例1に記載された、ナフトキノン−1,2
−ジアジド−5−スルホン酸とフエノールホルム
アルデヒドノボラツク樹脂の部分エステルと4,
4′−ジフエニルメタンジイソシアネート以外はす
べて同じにして以下に示す画像形成用積層体が得
られた。 かかる画像形成用積層体も実施例1と同様に全
面露光して、次いで画像露光後、塩基処理と現像
を行なうと、ネガフイルムに忠実な画像の印刷版
が得られた。
【表】
【表】 【図面の簡単な説明】
第1図は画像形成用積層体、第2図および第3
図は画像形成用積層体からネガ型湿し水不要平版
印刷版を製版する手順を示す概略図の一例であ
り、第4図はポジ型湿し水不要平版印刷版を製版
する手順を示す概略図の一例である。 1:画像形成用積層体、3:ネガ型湿し水不要
平版印刷版、5:ポジ型湿し水不要平版印刷版。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体上にキノンジアジド構造を含む物質を
    構成成分とする感光層で、かつカルボ酸成分を含
    有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順に
    設けてなる画像形成用積層体を露光し、塩基処理
    した後現像するか、または塩基処理と同時に現像
    する画像形成用積層体の処理方法において、前記
    感光層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノ
    ンジアジド単位の5〜60モル%が光分解して生成
    した量に相当するカルボン酸成分を感光層の全面
    に予め添加させておくか、または露光により生成
    させ、次いで画像状に画像部分の感光層中のキノ
    ンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位
    の少なくとも70モル%以上を光分解させるに足る
    量の露光を施して(画像露光)から塩基処理した
    後現像するか、または塩基処理と同時に現像する
    ことによつて画像露光部の少なくともシリコーン
    ゴム層を除去してネガ型湿し水不要平版印刷版と
    することを特徴とする画像形成用積層体の処理方
    法。 2 支持体上にキノンジアジド構造を含む物質を
    構成成分とする感光層で、かつカルボン酸成分を
    含有する感光層およびシリコーンゴム層をこの順
    に設けてなる画像形成用積層体を露光し、塩基処
    理した後現像するか、または塩基処理と同時に現
    像する画像形成用積層体の処理方法において、画
    像状に画像部分の感光層中のキノンジアジド構造
    を含む物質のキノンジアジド単位の少なくとも70
    モル%以上を光分解するに足る量の露光を施して
    (画像露光)、次いで未露光部の感光層中のキノン
    ジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の
    5〜60モル%が光分解して生成する量に相当する
    カルボン酸成分を非画像部に生成させるために非
    画像部を含む感光層の全面に露光を与え、塩基処
    理した後現像するか、または塩基処理と同時に現
    像することによつて画像露光部の少なくともシリ
    コーンゴム層を除去してネガ型湿し水不要平版印
    刷版とすることを特徴とする画像形成用積層体の
    処理方法。
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