JPH04295624A - 磁気記録媒体用基板の再生方法及び再生用処理液 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録媒体用基板の再生方法及び再生用処理液に係り、特
に規格外の不良品を再生処理して利用するにあたり、該
磁気記録媒体上の下地層、磁性層、保護層を容易に除去
する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、磁気ディスク等の磁気記録媒体と
しては、アルミニウム、アルミニウム合金基板にアルマ
イトやＮｉ−Ｐメッキ等の非磁性メッキ処理を施した後
、クロム等の下地層を被覆し、次いでコバルト系合金の
磁性層を被覆し、さらにカ−ボン保護層を被覆したもの
が工業的に製造されている。

【０００３】この工業的に製造された磁気記録媒体は必
ずしも、すべてが品質規格に合格するものではなく、不
合格品が発生し、製造コストアップの原因となっている
。これらの不合格品は下地Ｃｒ層、磁性層、保護層の形
成時に起因することが多く、これらの層を除去し、非磁
性基板を再生して、再度これらの層を形成することによ
って合格品を製造することが可能である。

【０００４】特に、基板上の下地Ｃｒ層、磁性層、保護
層を容易に除去し、磁気記録媒体用基板を再生する方法
として特開平２−１６２５２４が提案されている。この
提案では、従来の溶媒による溶解法や研磨して各層を除
去する方法に代り、１４重量％以上の塩酸で磁気記録媒
体を数分〜１０数分間処理することにより、Ｎｉ−Ｐメ
ッキ層を損傷することなく、下地Ｃｒ層、磁性層、保護
層を容易に除去することができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た方法では１４重量％以上の高濃度の塩酸を使用するの
でその取扱い及び作業環境設備、排液処理設備の強化や
維持保全に特に注意が必要である。又材質の異なる各層
を溶解するために処理時間が長く、コストアップの要因
となっている。

【０００６】本発明はこれらの問題点に鑑みなされたも
のであって、その目的は規格不合格の磁気記録媒体用基
板を再生する方法とそのための再生用処理液を提供する
ことにある。特に非磁性基板を損傷することなく、効率
よく下地層、磁性層、保護層を除去する方法を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
を要旨とするものである。非磁性基板上に下地層、磁性
層、保護層を積層してなる磁気記録媒体から、下地層、
磁性層、保護層を除去する磁気記録媒体の再生方法であ
って、該磁気記録媒体を飽和量以上のアルミニウム塩と
ニッケルよりもイオン化傾向の小さい金属を含む塩を主
成分とする溶液で処理することを特徴とする磁気記録媒
体用基板の再生方法及び飽和量以上のアルミニウム塩と
ニッケルよりもイオン化傾向の小さい金属を含む塩を主
成分としてなる磁気記録媒体用基板の再生用処理液。

【０００８】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。本発明が適用される磁気記録媒体はアルミニウム等
の基板にＮｉ−Ｐメッキを施した非磁性基板をテクスチ
ャリング加工した後、メッキ法又はスパッタリング法に
より下地層、磁性層、保護層を形成した磁気記録媒体で
ある。

【０００９】ここで言う下地層は第１次、第２次下地層
を含む。すなわち、第１次下地層は非磁性基板の上に施
されているＮｉ−Ｐメッキ層を言う。第２次下地層は従
来技術で説明したスパッタリング法の場合はＣｒ下地層
であり、メッキ法の場合はない。

【００１０】以下、本発明をスパッタッリング法によっ
て作成された磁気記録媒体で説明する。非磁性基板とし
てはアルミニウム、アルミニウム合金、ガラス等が使用
される。アルミニウム基板上にＮｉ−Ｐメッキが施され
た後、テクスチャリング加工され、数１００Åの同心円
状の凹凸が形成されている。この基板上にスパッタリン
グ法により数１０００Åの下地Ｃｒ層が形成され、その
上に同様にスパッタリング法により約１０００Åの磁性
層、さらにその上に約２００Åのカーボン保護層が形成
された後、潤滑剤が塗布され磁気記録媒体が構成されて
いる。磁性層の材質はＣｏ合金、例えばＣｏ−Ｃｒ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ系合金等が好適である。保護層は
カーボンが最適であるがジルコニア、アルミナ、その他
セラミック材料の使用も可能である。

【００１１】このように構成されている磁気記録媒体は
外観検査他、保磁力等各種の品質検査により規格に適合
しているかどうか検査し、不合格品を検出する。これら
の不合格品は傷やその他の欠陥によるものであり、形成
された下地Ｃｒ層、磁性層、保護層を除去し、再度これ
らの層を形成することによって規格に合格するものを作
成することが可能である。ここで、重要なことは規格不
合格の磁気記録媒体から下地層、磁性層、保護層を容易
に除去し、損傷のない非磁性基板を得ることである。

【００１２】本発明はこれらの各層を容易に除去できる
再生用処理液と下地層、磁性層、保護層をこの再生用処
理液によって処理することを特徴とする磁気記録媒体の
再生方法であって、特にこの再生用処理液に特徴がある
。

【００１３】この再生用処理液は飽和量以上のアルミニ
ウム塩と、ニッケルよりもイオン化傾向の小さい金属を
含む塩を主成分としている。飽和量以上のアルミニウム
塩とは、例えばＡｌ２（ＳＯ４）３　、ＡｌＣｌ３、Ａ
ｌ（ＮＯ３）３などのアルミニウム塩であって、再生用
処理液中のアルミニウムイオン濃度が飽和濃度以上であ
るアルミニウム塩である。

【００１４】例えば、硝酸アルミニウム塩の場合、硝酸
アルミニウムは容易に水に溶け、水溶液となるが、水溶
液中ではＰＨにより異なる状態をとると考えられるが酸
性水溶液中では水を配位し、〔Ａｌ（Ｈ２Ｏ）ｘ（ＮＯ
３）２〕＋　とＮＯ３−　に解離している。ＰＨ４位で
水酸化アルミニウムが沈澱を始める。塩化アルミニウム
、硫酸アルミニウムも水に溶解して酸性溶液を呈する。

【００１５】ニッケルよりもイオン化傾向の小さい金属
を含む塩とは、例えば、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｃｕ、Ｈｇ、Ａｇ
、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ等を含む塩をいい、硝酸塩、硫酸塩
、塩化物、炭酸塩等いずれでもよい。この再生用処理液
は飽和量以上のアルミニウム塩と、ニッケルよりもイオ
ン化傾向の小さい金属を含む塩を水に溶解した水溶液で
ある。

【００１６】再生用処理溶液中のアルミニウムイオン濃
度が飽和濃度以上であるかどうかは再生処理温度におけ
る溶解度曲線又は再生用処理液中の沈澱の有無に従って
判断することができる。再生用処理液の温度はＮｉ−Ｐ
層の溶解速度を考えると高い方が好ましいが温度が高い
と添加するアルミニウム塩が多量に必要となる。常温に
おいても十分に除去可能であるので操作温度は常温付近
が好ましい。

【００１７】

【作用】本発明は飽和量以上のアルミニウム塩と、ニッ
ケルよりもイオン化傾向の小さい金属を含む塩を水に溶
解した水溶液を再生用処理液としているので（硝酸塩、
硫酸塩、塩化物、炭酸塩等いずれでもよい。）、非磁性
基板であるアルミニウム合金上に施した各種の層すなわ
ち、Ｎｉ−Ｐメッキ層、Ｃｏ合金からなる磁性層、カー
ボン保護層を次のメカニズムで溶解してゆく。

【００１８】保護層の微小孔より再生用処理液が流入し
、磁性層に達する。磁性層の成分は溶液中に溶出される
。この時、同時に保護層も剥離し、除去されていく。 第１次下地層であるＮｉ−Ｐメッキ層はこの再生用処理
液に含まれているニッケルイオンよりもイオン化傾向の
小さい金属とＮｉイオンが置換することにより、Ｎｉ−
Ｐメッキ層中のＮｉが溶液中に溶出し除去されてゆく。 Ｎｉ−Ｐメッキ層の除去がすべて完了した段階で非磁性
基板であるアルミニウムが再生用処理液と接することに
なるが再生用処理液中には飽和量以上のアルミニウム塩
があり、Ａｌイオンが存在するのでアルミニウム基板か
らのアルミの溶出は起こらない。従って良好な表面状態
を維持するアルミ合金基板を再生することができる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。表１に示
す品質規格外となった三種の３．５インチ磁気記録媒体
Ａ、Ｂ、Ｃを準備した。

【００２０】

【表１】

【００２１】処理槽中に表２に示す組成を有する再生用
処理液を（実施例１〜９）を準備した。これらの再生用
処理液中に磁気ディスクＡ、Ｂ、Ｃを常温で５分間浸漬
して処理した後、超純水にて洗浄、乾燥して再生基板を
得た。このようにして得られた再生基板について、基板
の表面の状態を観測した。その結果を表２に示したが何
れも各層の除去は可能であり、金属光沢を有する表面の
損傷のないアルミニウム基板を再生することができた。

【００２２】

【表２】

【００２３】

【比較例】実施例１〜９と同様、表１に示す品質規格外
の媒体を準備した。表３に示す組成を有する再生用処理
液（比較例１〜７）を準備した。これらの再生用処理液
中に実施例と同様、常温で５分間浸漬処理した後、超純
水にて洗浄、乾燥して再生基板を得た。基板の表面状態
は表３に示すとおり、Ｎｉイオンよりイオンか傾向の小
さいＦｅ３＋イオンを添加したもので、飽和量以下のア
ルミニウム塩を含むものは各層の除去は可能であったが
、基板のアルミニウムが溶出してしまい、基板表面が白
化した。

【００２４】又、Ｎｉイオンよりイオン化傾向の大きい
イオン、例えばＮａ＋　イオン（比較例４）を含む場合
は各層の除去は出来なかった。さらに、Ｎｉイオンより
イオン化傾向の大きいイオンを含まず、２．５規定の硝
酸で処理した場合はアルミニウム基板の表面は損傷され
白化し、再生使用できるアルミニウム基板は得られなか
った。

【００２５】

【表３】

【００２６】

【発明の効果】本発明の再生用処理液を用い、規格外の
磁気記録媒体を再生処理することによって、表面の損傷
がなく良好な非磁性基板を得ることができる。従来、廃
棄せざるを得なかった基板を再生使用することが可能に
なり、工業生産上多大の経済的効果をあげることができ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　非磁性基板上に下地層、磁性層、保護
   層を積層してなる磁気記録媒体から、下地層、磁性層、
   保護層を除去する磁気記録媒体用基板の再生方法であっ
   て、該磁気記録媒体を飽和量以上のアルミニウム塩とニ
   ッケルよりもイオン化傾向の小さい金属を含む塩を主成
   分とする溶液で処理することを特徴とする磁気記録媒体
   用基板の再生方法。
2. 【請求項２】　　飽和量以上のアルミニウム塩とニッケ
   ルよりもイオン化傾向の小さい金属を含む塩を主成分と
   してなる磁気記録媒体用基板の再生用処理液。