JPH04335210A - 磁気記録媒体用基板の再生方法 - Google Patents
磁気記録媒体用基板の再生方法Info
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- JPH04335210A JPH04335210A JP13214491A JP13214491A JPH04335210A JP H04335210 A JPH04335210 A JP H04335210A JP 13214491 A JP13214491 A JP 13214491A JP 13214491 A JP13214491 A JP 13214491A JP H04335210 A JPH04335210 A JP H04335210A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録媒体用基板の再生方法に係り、特に規格外の不良品
を再生処理して利用するにあたり、該磁気記録媒体上の
下地層、磁性層、保護層を容易に除去する方法に関する
ものである。
記録媒体用基板の再生方法に係り、特に規格外の不良品
を再生処理して利用するにあたり、該磁気記録媒体上の
下地層、磁性層、保護層を容易に除去する方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、磁気ディスク等の磁気記録媒体と
しては、アルミニウム、アルミニウム合金基板にアルマ
イト、Ni−P(ニッケル・リン)などの非磁性メッキ
を施した後、クロム等の下地層を被覆し、次いでコバル
ト系合金の磁性層を被覆し、さらにカ−ボン等の保護層
を被覆したものが工業的に製造されている。
しては、アルミニウム、アルミニウム合金基板にアルマ
イト、Ni−P(ニッケル・リン)などの非磁性メッキ
を施した後、クロム等の下地層を被覆し、次いでコバル
ト系合金の磁性層を被覆し、さらにカ−ボン等の保護層
を被覆したものが工業的に製造されている。
【0003】この工業的に製造された磁気記録媒体は必
ずしも、すべてが品質規格に合格するものではなく、不
合格品が発生し、製造コストアップの原因となっている
。これらの不合格品は下地層、磁性層および保護層の形
成時に起因することが多く、これらの層を除去し、非磁
性基板を再生して、再度これらの層を形成することによ
って合格品を製造することが可能である。
ずしも、すべてが品質規格に合格するものではなく、不
合格品が発生し、製造コストアップの原因となっている
。これらの不合格品は下地層、磁性層および保護層の形
成時に起因することが多く、これらの層を除去し、非磁
性基板を再生して、再度これらの層を形成することによ
って合格品を製造することが可能である。
【0004】非磁性基板上の下地層、磁性層および保護
層を容易に除去して磁気記録媒体用基板を再生する方法
として特開平2−162524が提案されている。この
提案によれば、従来の溶媒による溶解法や研磨して各層
を除去する方法に代り、例えば14重量%以上の塩酸で
磁気記録媒体を数分〜10数分間処理することにより、
非磁性基板を損傷することなく、効率よく下地層、磁性
層および保護層を容易に除去することができる。
層を容易に除去して磁気記録媒体用基板を再生する方法
として特開平2−162524が提案されている。この
提案によれば、従来の溶媒による溶解法や研磨して各層
を除去する方法に代り、例えば14重量%以上の塩酸で
磁気記録媒体を数分〜10数分間処理することにより、
非磁性基板を損傷することなく、効率よく下地層、磁性
層および保護層を容易に除去することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た方法では14重量%以上の高濃度の塩酸を使用するの
で、その取扱いおよび作業環境設備、排液処理設備の強
化や維持保全に特に注意が必要である。又材質の異なる
各層を溶解するために処理時間が長く、コストアップの
要因となっている。
た方法では14重量%以上の高濃度の塩酸を使用するの
で、その取扱いおよび作業環境設備、排液処理設備の強
化や維持保全に特に注意が必要である。又材質の異なる
各層を溶解するために処理時間が長く、コストアップの
要因となっている。
【0006】本発明はこれらの問題点に鑑みてなされた
ものであって、その目的は規格不合格の磁気記録媒体か
ら下地層、磁性層および保護層を効率よく除去し、非磁
性基板を損傷することなく、磁気記録媒体用基板を再生
する方法を提供することにある。
ものであって、その目的は規格不合格の磁気記録媒体か
ら下地層、磁性層および保護層を効率よく除去し、非磁
性基板を損傷することなく、磁気記録媒体用基板を再生
する方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
を要旨とするものである。非磁性基板上に下地層、磁性
層および保護層が積層されてなる磁気記録媒体から、下
地層、磁性層および保護層を除去する磁気記録媒体用基
板の再生方法であって、該磁気記録媒体を保護層の孔径
よりも直径が小さく、かつ、磁性層の主成分元素よりイ
オン化傾向の小さい金属イオンを含む溶液で処理するこ
とを特徴とする磁気記録媒体用基板の再生方法。
を要旨とするものである。非磁性基板上に下地層、磁性
層および保護層が積層されてなる磁気記録媒体から、下
地層、磁性層および保護層を除去する磁気記録媒体用基
板の再生方法であって、該磁気記録媒体を保護層の孔径
よりも直径が小さく、かつ、磁性層の主成分元素よりイ
オン化傾向の小さい金属イオンを含む溶液で処理するこ
とを特徴とする磁気記録媒体用基板の再生方法。
【0008】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。本発明が適用される磁気記録媒体は以下に説明する
ものであり、ここでいう下地層とは磁性層の結晶の配向
を制御する作用を有し、通常スパッタリングによって形
成されたクロム下地層を指すが、クロム系合金など、上
記の作用を有する、磁性層の下部に形成される層を意味
する。
る。本発明が適用される磁気記録媒体は以下に説明する
ものであり、ここでいう下地層とは磁性層の結晶の配向
を制御する作用を有し、通常スパッタリングによって形
成されたクロム下地層を指すが、クロム系合金など、上
記の作用を有する、磁性層の下部に形成される層を意味
する。
【0009】非磁性基板としてはアルミニウム、アルミ
ニウム合金またはガラス等が使用される。アルミニウム
基板上に無電解メッキによりNi−Pメッキが施された
後、テクスチャリング加工され、数100Åの同心円状
の凹凸が形成されている。この基板上に下地層としてス
パッタリング法により数1000Åのクロム下地層が形
成され、その上に同様にスパッタリング法により約10
00Åの磁性層、さらにその上に数100Åのカーボン
保護層が形成された後、潤滑剤が塗布され磁気記録媒体
が構成されている。磁性層の材質はCo合金、例えばC
o−Cr、Co−Ni、Co−Cr系合金、Co−Ni
系合金等が好適である。
ニウム合金またはガラス等が使用される。アルミニウム
基板上に無電解メッキによりNi−Pメッキが施された
後、テクスチャリング加工され、数100Åの同心円状
の凹凸が形成されている。この基板上に下地層としてス
パッタリング法により数1000Åのクロム下地層が形
成され、その上に同様にスパッタリング法により約10
00Åの磁性層、さらにその上に数100Åのカーボン
保護層が形成された後、潤滑剤が塗布され磁気記録媒体
が構成されている。磁性層の材質はCo合金、例えばC
o−Cr、Co−Ni、Co−Cr系合金、Co−Ni
系合金等が好適である。
【0010】保護層はカーボンが最適であるがジルコニ
ア、アルミナ、その他セラミック材料も使用できる。カ
ーボン保護層は通常アルゴンまたはヘリウム等の希ガス
の雰囲気下でスパッタリング法により形成され、アモー
ファス状の構造となっている。この保護層は通気孔を有
していて、その孔径は製造条件によっても異なるが通常
、最大径が2.5Åである。保護層がその他の材質、例
えばジルコニアやアルミナなどの場合はその孔径は異な
ってくる。
ア、アルミナ、その他セラミック材料も使用できる。カ
ーボン保護層は通常アルゴンまたはヘリウム等の希ガス
の雰囲気下でスパッタリング法により形成され、アモー
ファス状の構造となっている。この保護層は通気孔を有
していて、その孔径は製造条件によっても異なるが通常
、最大径が2.5Åである。保護層がその他の材質、例
えばジルコニアやアルミナなどの場合はその孔径は異な
ってくる。
【0011】このように構成されている磁気記録媒体は
外観検査他のほか、保磁力等各種の品質検査により規格
に適合しているかどうか検査し、不合格品を検出する。 これらの不合格品は傷やその他の欠陥によるものであり
、下地層、磁性層および保護層を除去し、再度これらの
層を形成することによって規格に合格するものを作成す
ることが可能である。ここで、重要なことは規格不合格
の磁気記録媒体から下地層、磁性層および保護層を容易
に除去し、損傷のない非磁性基板を得ることである。
外観検査他のほか、保磁力等各種の品質検査により規格
に適合しているかどうか検査し、不合格品を検出する。 これらの不合格品は傷やその他の欠陥によるものであり
、下地層、磁性層および保護層を除去し、再度これらの
層を形成することによって規格に合格するものを作成す
ることが可能である。ここで、重要なことは規格不合格
の磁気記録媒体から下地層、磁性層および保護層を容易
に除去し、損傷のない非磁性基板を得ることである。
【0012】この再生処理にあたって使用する溶液は保
護層の孔径よりも直径が小さく、かつ磁性層の主成分元
素よりイオン化傾向の小さい金属イオンを含むものであ
る。ここで、保護層の孔径よりも直径が小さい金属イオ
ンとは化学便覧基礎編II(日本化学会編改訂3版、丸
善株式会社、昭和63年1月25日第3刷発行)の71
7 〜718 頁に記載されているイオン半径によって
定義されるものである。すなわち、カーボン保護層の場
合はAg+ 、Pd2+ 、Bi2+ 、Cu2+、S
n4+、Fe3+ 、Mo6+ 、Mn2+ 、Ni2
+ などであるが、保護層の孔径または磁性層の合金の
主成分が変化したときはこの限りではない。
護層の孔径よりも直径が小さく、かつ磁性層の主成分元
素よりイオン化傾向の小さい金属イオンを含むものであ
る。ここで、保護層の孔径よりも直径が小さい金属イオ
ンとは化学便覧基礎編II(日本化学会編改訂3版、丸
善株式会社、昭和63年1月25日第3刷発行)の71
7 〜718 頁に記載されているイオン半径によって
定義されるものである。すなわち、カーボン保護層の場
合はAg+ 、Pd2+ 、Bi2+ 、Cu2+、S
n4+、Fe3+ 、Mo6+ 、Mn2+ 、Ni2
+ などであるが、保護層の孔径または磁性層の合金の
主成分が変化したときはこの限りではない。
【0013】これらの金属イオンの溶液中の濃度は0.
01〜 5.0 mol/リットルが好適であるが、さ
らに好ましくは0.05〜 0.5 mol/リットル
がよい。これらの金属イオンの濃度が0.01 mol
/リットル以下では再生処理に多大の時間を要し、5.
0 mol/リットル以上にしても処理時間は短くなら
ず、処理後の洗浄等に手間がかかるうえ、使用量が多く
なるので好ましくない。また、Ni2+ イオンのよう
に磁性層の主成分であるCo にイオン化傾向が近い金
属イオンを用いた場合には、再生処理に時間がかかる。 金属イオンとして加える方法としては、硝酸塩、塩化物
、硫酸塩または炭酸塩等いずれの形態であってもよい。
01〜 5.0 mol/リットルが好適であるが、さ
らに好ましくは0.05〜 0.5 mol/リットル
がよい。これらの金属イオンの濃度が0.01 mol
/リットル以下では再生処理に多大の時間を要し、5.
0 mol/リットル以上にしても処理時間は短くなら
ず、処理後の洗浄等に手間がかかるうえ、使用量が多く
なるので好ましくない。また、Ni2+ イオンのよう
に磁性層の主成分であるCo にイオン化傾向が近い金
属イオンを用いた場合には、再生処理に時間がかかる。 金属イオンとして加える方法としては、硝酸塩、塩化物
、硫酸塩または炭酸塩等いずれの形態であってもよい。
【0014】本発明の再生方法に用いる溶液は常温にお
いても十分活性であり、加熱等の操作を特に必要としな
いが、加熱、攪拌すればさらに効率はよい。また、下地
層、磁性層、保護層の溶解除去速度を増すために硝酸、
硫酸、塩酸等の酸を適量添加しても差支えない。
いても十分活性であり、加熱等の操作を特に必要としな
いが、加熱、攪拌すればさらに効率はよい。また、下地
層、磁性層、保護層の溶解除去速度を増すために硝酸、
硫酸、塩酸等の酸を適量添加しても差支えない。
【0015】
【作用】本発明は磁気記録媒体から磁気記録媒体用基板
を再生する際に、保護層の孔径よりも直径が小さく、か
つ磁性層の主成分元素よりイオン化傾向の小さい金属イ
オンを含む溶液で処理するので、保護層の微小孔よりこ
の溶液が流入し、磁性層、クロム下地層に達する。磁性
層の主成分、および下地層のクロムは溶液中に含まれて
いる金属イオンよりイオン化傾向が大きいので、溶液中
に溶出されてくる。この時、同時に保護層も剥離し、除
去されていく。
を再生する際に、保護層の孔径よりも直径が小さく、か
つ磁性層の主成分元素よりイオン化傾向の小さい金属イ
オンを含む溶液で処理するので、保護層の微小孔よりこ
の溶液が流入し、磁性層、クロム下地層に達する。磁性
層の主成分、および下地層のクロムは溶液中に含まれて
いる金属イオンよりイオン化傾向が大きいので、溶液中
に溶出されてくる。この時、同時に保護層も剥離し、除
去されていく。
【0016】クロム下地層が除去された段階でNi−P
メッキで被覆された非磁性基板が溶液と接することにな
るが、このクロム下地層の厚さはNi−Pメッキ層と比
較するとずっと薄いので、かなりの長時間そのままこの
溶液中で処理しないかぎり、Ni−Pメッキ層を除去す
ることは困難である。このようにしてNi−Pメッキ層
で被覆された非磁性基板を再生することができる。
メッキで被覆された非磁性基板が溶液と接することにな
るが、このクロム下地層の厚さはNi−Pメッキ層と比
較するとずっと薄いので、かなりの長時間そのままこの
溶液中で処理しないかぎり、Ni−Pメッキ層を除去す
ることは困難である。このようにしてNi−Pメッキ層
で被覆された非磁性基板を再生することができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を具体的に説明する。
表1に示す品質規格外となった三種の3.5インチ磁気
記録媒体A、BおよびCを準備した。
記録媒体A、BおよびCを準備した。
【0018】
【表1】
【0019】処理槽中に表2に示す金属イオンを含む溶
液(実施例1〜11)を準備した。これらの溶液中に磁
気ディスクA、BおよびCを常温で1.5 〜10分間
浸漬して処理した後、超純水にて洗浄、乾燥して非磁性
基板を再生した。このようにして得られた再生基板につ
いて、基板の表面の状態を観測した。その結果を表2に
示したが、何れも各層の除去は可能であり、金属光沢を
有する表面の損傷のないNi−Pメッキ層で被覆された
ム非磁性基板を再生することができた。
液(実施例1〜11)を準備した。これらの溶液中に磁
気ディスクA、BおよびCを常温で1.5 〜10分間
浸漬して処理した後、超純水にて洗浄、乾燥して非磁性
基板を再生した。このようにして得られた再生基板につ
いて、基板の表面の状態を観測した。その結果を表2に
示したが、何れも各層の除去は可能であり、金属光沢を
有する表面の損傷のないNi−Pメッキ層で被覆された
ム非磁性基板を再生することができた。
【0020】
【表2】
【0021】
【比較例】実施例と同様、表1に示す品質規格外の媒体
を準備した。表2に示す金属イオンを含む溶液(比較例
1〜9)を準備した。これらの溶液中に常温で10分間
浸漬処理した後、超純水にて洗浄、乾燥したが下地層、
磁性層、保護層のいずれも除去されず非磁性基板を再生
することはできなかった。
を準備した。表2に示す金属イオンを含む溶液(比較例
1〜9)を準備した。これらの溶液中に常温で10分間
浸漬処理した後、超純水にて洗浄、乾燥したが下地層、
磁性層、保護層のいずれも除去されず非磁性基板を再生
することはできなかった。
【0022】比較例1、2はPb2+ イオンを含む溶
液で処理したものである。Pb2+ イオンはCo よ
りイオン化傾向は小さいがそのイオン半径は1.33Å
と大きく、磁気記録媒体の保護層の最大孔径2.5 Å
を通り抜ける事が出来ず、非磁性基板を再生することが
不可能であった。また、Co よりもイオン化傾向の大
きいFe2+、Na+ 、Ba2+、Ca2+、Al3
+、Cr3+、 K+ 等を含む溶液(比較例 3〜9
)では全く溶解が起こらず、非磁性基板の再生はでき
なかった。
液で処理したものである。Pb2+ イオンはCo よ
りイオン化傾向は小さいがそのイオン半径は1.33Å
と大きく、磁気記録媒体の保護層の最大孔径2.5 Å
を通り抜ける事が出来ず、非磁性基板を再生することが
不可能であった。また、Co よりもイオン化傾向の大
きいFe2+、Na+ 、Ba2+、Ca2+、Al3
+、Cr3+、 K+ 等を含む溶液(比較例 3〜9
)では全く溶解が起こらず、非磁性基板の再生はでき
なかった。
【発明の効果】本発明の再生方法によれば、高濃度の酸
を使う必要がなく、したがって簡単な設備で安全に、短
時間で効率よく記録媒体用非磁性基板を再生することが
できる。従来、廃棄せざるを得なかった基板を再生使用
することが可能になり、工業生産上多大な経済的効果を
あげることができる。さらに、本発明の再生方法は使用
済または不用の回収された磁気記録媒体を再生するにも
敵しており、資源活用になる。
を使う必要がなく、したがって簡単な設備で安全に、短
時間で効率よく記録媒体用非磁性基板を再生することが
できる。従来、廃棄せざるを得なかった基板を再生使用
することが可能になり、工業生産上多大な経済的効果を
あげることができる。さらに、本発明の再生方法は使用
済または不用の回収された磁気記録媒体を再生するにも
敵しており、資源活用になる。
Claims (1)
- 【請求項1】 非磁性基板上に下地層、磁性層および
保護層が積層されてなる磁気記録媒体から、下地層、磁
性層および保護層を除去する磁気記録媒体用基板の再生
方法であって、該磁気記録媒体を、保護層の孔径よりも
直径が小さく、かつ磁性層の主成分元素よりイオン化傾
向の小さい金属イオンを含む溶液で処理することを特徴
とする磁気記録媒体用基板の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13214491A JPH04335210A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 磁気記録媒体用基板の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13214491A JPH04335210A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 磁気記録媒体用基板の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04335210A true JPH04335210A (ja) | 1992-11-24 |
Family
ID=15074391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13214491A Pending JPH04335210A (ja) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | 磁気記録媒体用基板の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04335210A (ja) |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP13214491A patent/JPH04335210A/ja active Pending
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