JPH0430043B2 - - Google Patents
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- JPH0430043B2 JPH0430043B2 JP57067803A JP6780382A JPH0430043B2 JP H0430043 B2 JPH0430043 B2 JP H0430043B2 JP 57067803 A JP57067803 A JP 57067803A JP 6780382 A JP6780382 A JP 6780382A JP H0430043 B2 JPH0430043 B2 JP H0430043B2
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- Japan
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- equipment
- workpiece
- interest
- processing
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B15/00—Systems controlled by a computer
- G05B15/02—Systems controlled by a computer electric
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
- Control By Computers (AREA)
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、多種の製品を生産する生産ラインに
おける生産制御方式に関するものである。
おける生産制御方式に関するものである。
加工開始より完了に至る間に半導体ウエハーな
どの被加工物が複数回処理をうける設備群と、１
回だけ処理を受ける設備とにより構成され、その
加工順序が製品の種類により異なるような製造ラ
インにおいては、繰り返し使用される設備群の前
には、新たに加工開始されたばかりのロツトの被
加工物と既に相当処理の進んだロツトの被加工物
とが同時に仕掛として存在する。
どの被加工物が複数回処理をうける設備群と、１
回だけ処理を受ける設備とにより構成され、その
加工順序が製品の種類により異なるような製造ラ
インにおいては、繰り返し使用される設備群の前
には、新たに加工開始されたばかりのロツトの被
加工物と既に相当処理の進んだロツトの被加工物
とが同時に仕掛として存在する。
通常のフローシヨツプ型ラインのようにロツト
が各設備を１回だけしか通過しない場合又は、品
種によつて通過工程が変わらない場合は、待ちロ
ツトの中から次に作業を行うロツトを選択する順
序がランダムであつても、或いはある規則に従つ
ても、全体仕掛分布状態、仕掛時間、各ロツトの
待ち時間に大差はない。しかし、前記のような繰
り返し使用される設備群が製造ラインに存在する
場合は、次に、作業すべき処理物、例えば半導体
ウエーハの選択順序によつてライン全体の仕掛状
態および各ウエーハの待ち時間に大きな影響を受
ける。又、最適な順序を決定するための要因が多
く、作業すべきウエーハの選択が複雑である。
が各設備を１回だけしか通過しない場合又は、品
種によつて通過工程が変わらない場合は、待ちロ
ツトの中から次に作業を行うロツトを選択する順
序がランダムであつても、或いはある規則に従つ
ても、全体仕掛分布状態、仕掛時間、各ロツトの
待ち時間に大差はない。しかし、前記のような繰
り返し使用される設備群が製造ラインに存在する
場合は、次に、作業すべき処理物、例えば半導体
ウエーハの選択順序によつてライン全体の仕掛状
態および各ウエーハの待ち時間に大きな影響を受
ける。又、最適な順序を決定するための要因が多
く、作業すべきウエーハの選択が複雑である。
ウエーハ製造工程の場合を例にとつて述べれ
ば、製造工程の性質上、製造工期の短縮および、
均一化は最も有効な品質改善、歩留向上のための
手段であり、仕掛の平均化、待ち時間の短縮は急
務であるとされている。
ば、製造工程の性質上、製造工期の短縮および、
均一化は最も有効な品質改善、歩留向上のための
手段であり、仕掛の平均化、待ち時間の短縮は急
務であるとされている。
しかし、従来のウエーハ製造ラインは工場に設
備を設置しただけのものであり、各設備間での情
報収集、情報提供の役割を担ういわば、神経組織
的な機能を持たなかつた。
備を設置しただけのものであり、各設備間での情
報収集、情報提供の役割を担ういわば、神経組織
的な機能を持たなかつた。
そのため、各設備の前に待機するウエーハの仕
掛から１つを選択するにも判断のための情報がな
く、作業者に頼らざるを得なかつた。したがつ
て、次に作業すべきウエーハの選択は、適正な選
択基準のないままに作業者の任意にまかされて行
われ、そのため、ウエーハの処理待ち時間の増
加、全体仕掛の偏在が引き起こされることが多
く、そのことが品質劣化、歩留低下にもつながつ
ていた。
掛から１つを選択するにも判断のための情報がな
く、作業者に頼らざるを得なかつた。したがつ
て、次に作業すべきウエーハの選択は、適正な選
択基準のないままに作業者の任意にまかされて行
われ、そのため、ウエーハの処理待ち時間の増
加、全体仕掛の偏在が引き起こされることが多
く、そのことが品質劣化、歩留低下にもつながつ
ていた。
これは一般の製造ラインにおいても同様であ
り、製造工期の短縮及び均一化、仕掛の削減は生
産コストダウンにつながるにもかかわらず、前記
のような理由で、最適な順序で作業することが不
可能なため、従来はなんら対処されていなかつ
た。
り、製造工期の短縮及び均一化、仕掛の削減は生
産コストダウンにつながるにもかかわらず、前記
のような理由で、最適な順序で作業することが不
可能なため、従来はなんら対処されていなかつ
た。
本発明は、前記問題点を解決し、製造工期の短
縮及び均一化を各設備の負荷を均一化するための
製造ラインを提供することにある。
縮及び均一化を各設備の負荷を均一化するための
製造ラインを提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明による生産制
御方式においては、着目設備と、分割工程と、検
出器と、制御装置と、保管棚と、表示装置とを有
し、被加工物が加工開始より完了に至るまでに被
加工物の処理に使用される設備群のうち、一部の
設備群は、被加工物の進行にしたがつて複数回使
用される製造ラインの各設備の負荷を均一化して
製造工期の短縮及び均一化を図る生産制御方式で
あつて、 着目設備は、被加工物が複数回処理を受ける設
備群のうち、最も頻繁に使用される設備群を特定
したものであり、 分割工程は、着目設備で被加工物が処理されて
から再度、この着目設備に戻つてくるまでの工程
を特定したものであり、全工程は、着目設備を区
切りとして分割され、 検出器は、各設備への被加工物の通過を検出し
て設備への被加工物の到着、処理の開始、完了な
どの情報を制御装置に出力するものであり、 制御装置は、検出器からの情報を処理するもの
で、情報処理にあたつては、まず、分割工程内で
の被加工物の進行状況を予め定められた規則で詳
細予測し、さらに分割工程より先の各被加工物の
進行を他の定められた規則で大まかに予測し、次
に保管棚に保管されている被加工物を前記２つの
予測結果と、予め定められた判断基準で順序付け
して表示装置に生産指示情報を出力するものであ
り、 保管棚は、着目設備群の近くに配置され、分割
工程の処理開始前の被加工物及び処理後の被加工
物を保管して待機させるものであり、 表示装置は、各保管棚に設置され、制御装置か
ら生産指示情報を受けて該当設備が次に処理を行
うべき被処理物を表示するものである。
御方式においては、着目設備と、分割工程と、検
出器と、制御装置と、保管棚と、表示装置とを有
し、被加工物が加工開始より完了に至るまでに被
加工物の処理に使用される設備群のうち、一部の
設備群は、被加工物の進行にしたがつて複数回使
用される製造ラインの各設備の負荷を均一化して
製造工期の短縮及び均一化を図る生産制御方式で
あつて、 着目設備は、被加工物が複数回処理を受ける設
備群のうち、最も頻繁に使用される設備群を特定
したものであり、 分割工程は、着目設備で被加工物が処理されて
から再度、この着目設備に戻つてくるまでの工程
を特定したものであり、全工程は、着目設備を区
切りとして分割され、 検出器は、各設備への被加工物の通過を検出し
て設備への被加工物の到着、処理の開始、完了な
どの情報を制御装置に出力するものであり、 制御装置は、検出器からの情報を処理するもの
で、情報処理にあたつては、まず、分割工程内で
の被加工物の進行状況を予め定められた規則で詳
細予測し、さらに分割工程より先の各被加工物の
進行を他の定められた規則で大まかに予測し、次
に保管棚に保管されている被加工物を前記２つの
予測結果と、予め定められた判断基準で順序付け
して表示装置に生産指示情報を出力するものであ
り、 保管棚は、着目設備群の近くに配置され、分割
工程の処理開始前の被加工物及び処理後の被加工
物を保管して待機させるものであり、 表示装置は、各保管棚に設置され、制御装置か
ら生産指示情報を受けて該当設備が次に処理を行
うべき被処理物を表示するものである。
以下、本発明をウエーハ製造工程に導入した実
施例を図面によつて説明する。
施例を図面によつて説明する。
ウエーハの一連の製造工程は、被加工物が複数
回処理を受ける設備群、たとえばウエーハス洗浄
装置、フオトレジスト塗布装置、露光装置、酸化
膜エツチング装置等と、被加工物が１回だけ処理
をうける設備群、たとえば各拡散炉、酸化炉、蒸
着装置、CVD装置等とから構成されている。そ
こで、特に被加工物が複数回処理を受ける設備群
のうち最も頻繁に使用される設備群、たとえばウ
エーハス洗浄装置を以下に着目設備と称し、この
着目設備で処理されてから再度この着目設備に戻
つてくるまでを分割工程と呼ぶ。
回処理を受ける設備群、たとえばウエーハス洗浄
装置、フオトレジスト塗布装置、露光装置、酸化
膜エツチング装置等と、被加工物が１回だけ処理
をうける設備群、たとえば各拡散炉、酸化炉、蒸
着装置、CVD装置等とから構成されている。そ
こで、特に被加工物が複数回処理を受ける設備群
のうち最も頻繁に使用される設備群、たとえばウ
エーハス洗浄装置を以下に着目設備と称し、この
着目設備で処理されてから再度この着目設備に戻
つてくるまでを分割工程と呼ぶ。
第１図は、本発明の実施例を示すブロツク図で
ある。第１図において、Sa，Sb，Sc，Sdは半導
体ウエーハ製造過程で繰り返えし使用される設備
群、たとえば、ウエーハス洗浄装置、フオトレジ
スト塗布装置、露光装置、酸化膜エツチング装置
等に対応付けられたセンサーであつて、Saはウ
エーハ製造工程で繰り返えし使用される設備群の
内、特に生産制御の要となる着目設備、実施例で
はウエーハス洗浄装置に取り付けられたセンサー
を示す。
ある。第１図において、Sa，Sb，Sc，Sdは半導
体ウエーハ製造過程で繰り返えし使用される設備
群、たとえば、ウエーハス洗浄装置、フオトレジ
スト塗布装置、露光装置、酸化膜エツチング装置
等に対応付けられたセンサーであつて、Saはウ
エーハ製造工程で繰り返えし使用される設備群の
内、特に生産制御の要となる着目設備、実施例で
はウエーハス洗浄装置に取り付けられたセンサー
を示す。
Ｓ１，１，Ｓ１，ｚ……Ｓ１，３……，Sy，
ｎは、ウエーハ製造過程で１回のみ使用される設
備群、たとえば各拡散炉、酸化炉、蒸着装置、
CVD装置等に取り付けられたセンサーを示して
いる。
ｎは、ウエーハ製造過程で１回のみ使用される設
備群、たとえば各拡散炉、酸化炉、蒸着装置、
CVD装置等に取り付けられたセンサーを示して
いる。
Siは、ウエーハの加工開始を検出するセンサー
であり、 Seは、全工程加工完了を検出するセンサーで
ある。
であり、 Seは、全工程加工完了を検出するセンサーで
ある。
各センサーは、各設備へのウエーハの到着、処
理の開始、完了のたびに、ウエーハロツト認識番
号を検出する機能と、各設備の点検故障等製品を
加工できない状態を検出する機能とをあわせて持
つ。本実施例においてはオンライン端末である。
理の開始、完了のたびに、ウエーハロツト認識番
号を検出する機能と、各設備の点検故障等製品を
加工できない状態を検出する機能とをあわせて持
つ。本実施例においてはオンライン端末である。
CNBは、前記着目設備群にて処理を行う前に、
ウエーハを保管しておく保管棚であり、CNDは
保管棚CNBに取りつけられた表示装置であり、
制御装置CNよりの生産指示情報を表示する。
ウエーハを保管しておく保管棚であり、CNDは
保管棚CNBに取りつけられた表示装置であり、
制御装置CNよりの生産指示情報を表示する。
ここで、生産指示情報とは、該当設備が次に処
理を行うべきウエーハロツト認識番号（以下、ロ
ツト番号という）である。
理を行うべきウエーハロツト認識番号（以下、ロ
ツト番号という）である。
CNは、前記表示装置CNBへ生産指示情報を出
力する制御装置であり、内部にシステム内、全ロ
ツトの全工程について各設備通過予定時刻と、全
設備負荷能力情報とを記憶されており、前記着目
設備前保管棚に待機するロツトの中から次に処理
すべきロツトを判断する機能を持つ。
力する制御装置であり、内部にシステム内、全ロ
ツトの全工程について各設備通過予定時刻と、全
設備負荷能力情報とを記憶されており、前記着目
設備前保管棚に待機するロツトの中から次に処理
すべきロツトを判断する機能を持つ。
制御装置CNによる、処理すべきロツトの判断
は下記順序によつて行なわれる。すなわち、 まず、各ロツトについて予定時刻からの遅れ時
間を計算する。次に遅れ時間の優先度の高いもの
から前記分割工程内での予測を行なう。この際、
各設備負荷能力を越えることが予測されれば、指
示対象からはずし、次の優先度のロツトについて
予測する。
は下記順序によつて行なわれる。すなわち、 まず、各ロツトについて予定時刻からの遅れ時
間を計算する。次に遅れ時間の優先度の高いもの
から前記分割工程内での予測を行なう。この際、
各設備負荷能力を越えることが予測されれば、指
示対象からはずし、次の優先度のロツトについて
予測する。
この結果、分割工程内で全工程負荷能力以下で
あることが予測されたものより、生産指示情報と
して表示装置CNBに送られる。本生産制御方式
に従うウエーハのロツトの流れ及び情報の流れを
第１図に基づいて説明する。
あることが予測されたものより、生産指示情報と
して表示装置CNBに送られる。本生産制御方式
に従うウエーハのロツトの流れ及び情報の流れを
第１図に基づいて説明する。
まず、ウエーハのロツトが投入されると、ロツ
ト番号と該当の品種名が制御装置CNに通知され
る。制御装置CNは、該当ロツトの全製造工程と
通過予定時刻を内部に作り出し、以後のセンサー
からの報告を待つことになる。
ト番号と該当の品種名が制御装置CNに通知され
る。制御装置CNは、該当ロツトの全製造工程と
通過予定時刻を内部に作り出し、以後のセンサー
からの報告を待つことになる。
投入されたロツトは、前記着目設備前の保管棚
CNBにまず収納される。制御装置CNが、該当ロ
ツトに対して予測を行つた時、 Ｓ１，１，Ｓ２，１，Ｓ３，１，……，Sb，
１，……，Sc，１……に対応する設備群の予想
仕掛状況が十分に能力内のとき、優先指示が表示
装置CNDに出力され、該当ロツトの処理が着目
設備で着手される。そして、センサーＳ１，１，
Ｓ２，１，Ｓ３，１等に応答する各分割工程専用
設備及びセンサーSb，Sc，Sd等に対応する各分
割工程共通設備を使用して処理され再度保管棚
CNBに戻り、再び優先指示を持つ。
CNBにまず収納される。制御装置CNが、該当ロ
ツトに対して予測を行つた時、 Ｓ１，１，Ｓ２，１，Ｓ３，１，……，Sb，
１，……，Sc，１……に対応する設備群の予想
仕掛状況が十分に能力内のとき、優先指示が表示
装置CNDに出力され、該当ロツトの処理が着目
設備で着手される。そして、センサーＳ１，１，
Ｓ２，１，Ｓ３，１等に応答する各分割工程専用
設備及びセンサーSb，Sc，Sd等に対応する各分
割工程共通設備を使用して処理され再度保管棚
CNBに戻り、再び優先指示を持つ。
このループが複数回繰り返され、ロツトの進行
は着目設備前で必ずチエツクされ、全体からみて
最適な順序で再調整される。
は着目設備前で必ずチエツクされ、全体からみて
最適な順序で再調整される。
前記のような手順で着目設備の作業が行われる
ことにより、本発明によれば、遅れている被加工
物や早く処理がすんだ被加工物の処理順序の調整
が行われ、また各分割工程の混雑度の均一化が行
われる。
ことにより、本発明によれば、遅れている被加工
物や早く処理がすんだ被加工物の処理順序の調整
が行われ、また各分割工程の混雑度の均一化が行
われる。
従つて、ウエーハの加工工期は均一化され、ま
た仕掛の平均化が行われ、各設備の有効利用が計
れる等の大きな効果を得られる。さらに作業者工
程管理者の工数も大幅に削減できる効果を有する
ものである。
た仕掛の平均化が行われ、各設備の有効利用が計
れる等の大きな効果を得られる。さらに作業者工
程管理者の工数も大幅に削減できる効果を有する
ものである。
第１図は、本発明の実施例を示すブロツク図で
ある。Sa，Sb，Sc，Sdは半導体ウエーハ製造過
程で燥り返えし使用される設備群、たとえば、ウ
エーハス洗浄装置、フオトレジスト塗布装置、露
光装置、酸化膜エツチング等に対応付けられたセ
ンサーを示す。Ｓ１，１，Ｓ１，２……Ｓ１，３
……，Sy，ｎは、ウエーハ製造過程で１回のみ
使用される設備群、たとえば各拡散炉、酸化炉、
蒸着装置、CVD装置等に取り付けられたセンサ
ーを示している。Ｓ１は、ウエーハの加工開始を
検出するセンサーであり、Seは全工程加工完了
を検出するセンサーである。CNは制御装置であ
り、CNBは前記着目設備群にて処理を行う前に
ウエーハを保管しておく保管棚であり、CNDは、
保管棚CNBに取りつけられた表示装置である。
ある。Sa，Sb，Sc，Sdは半導体ウエーハ製造過
程で燥り返えし使用される設備群、たとえば、ウ
エーハス洗浄装置、フオトレジスト塗布装置、露
光装置、酸化膜エツチング等に対応付けられたセ
ンサーを示す。Ｓ１，１，Ｓ１，２……Ｓ１，３
……，Sy，ｎは、ウエーハ製造過程で１回のみ
使用される設備群、たとえば各拡散炉、酸化炉、
蒸着装置、CVD装置等に取り付けられたセンサ
ーを示している。Ｓ１は、ウエーハの加工開始を
検出するセンサーであり、Seは全工程加工完了
を検出するセンサーである。CNは制御装置であ
り、CNBは前記着目設備群にて処理を行う前に
ウエーハを保管しておく保管棚であり、CNDは、
保管棚CNBに取りつけられた表示装置である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 着目設備と、分割工程と、検出器と、制御装
置と、保管棚と、表示装置とを有し、被加工物が
加工開始より完了に至るまでに被加工物の処理に
使用される設備群のうち、一部の設備群は、被加
工物の進行にしたがつて複数回使用される製造ラ
インの各設備の負荷を均一化して製造工期の短縮
及び均一化を図る生産制御方式であつて、 着目設備は、被加工物が複数回処理を受ける設
備群のうち、最も頻繁に使用される設備群を特定
したものであり、 分割工程は、着目設備で被加工物が処理されて
から再度、この着目設備に戻つてくるまでの工程
を特定したものであり、全工程は、着目設備を区
切りとして分割され、 検出器は、各設備への被加工物の通過を検出し
て設備への被加工物の到着、処理の開始、完了な
どの情報を制御装置に出力するものであり、 制御装置は、検出器からの情報を処理するもの
で、情報処理にあたつては、まず、分割工程内で
の被加工物の進行状況を予め定められた規則で詳
細予測し、さらに分割工程より先の各被加工物の
進行を他の定められた規則で大まかに予測し、次
に保管棚に保管されている被加工物を前記２つの
予測結果と、予め定められた判断基準で順序付け
して表示装置に生産指示情報を出力するものであ
り、 保管棚は、着目設備群の近くに配置され、分割
工程の処理開始前の被加工物及び処理後の被加工
物を保管して待機させるものであり、 表示装置は、各保管棚に設置され、制御装置か
ら生産指示情報を受けて該当設備が次に処理を行
うべき被処理物を表示するものであることを特徴
とする生産制御方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6780382A JPS58184604A (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 生産制御方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6780382A JPS58184604A (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 生産制御方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58184604A JPS58184604A (ja) | 1983-10-28 |
| JPH0430043B2 true JPH0430043B2 (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=13355468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6780382A Granted JPS58184604A (ja) | 1982-04-22 | 1982-04-22 | 生産制御方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58184604A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2569081B2 (ja) * | 1987-10-23 | 1997-01-08 | 株式会社日立製作所 | 生産制御装置 |
| JP2686977B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1997-12-08 | マツダ株式会社 | 自動車組立装置および自動車組立方法 |
| JPH0744004U (ja) * | 1991-10-02 | 1995-10-24 | 京兵衛 澤田 | ゴム風船の口栓体 |
| JP4965139B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2012-07-04 | エルピーダメモリ株式会社 | 生産管理方法及び生産管理システム |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56114650A (en) * | 1980-02-15 | 1981-09-09 | Hitachi Ltd | Production system for variety of products |
-
1982
- 1982-04-22 JP JP6780382A patent/JPS58184604A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58184604A (ja) | 1983-10-28 |
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