JPH043008B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フロツピーデイスク、ビデオ・オー
デイオの録音テープ等記録用媒体として幅広く使
用されている連続磁性媒体の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録の高密度の要求に伴い磁性層が
磁性材料のみによつて形成される連続磁性媒体の
研究が盛んに行われている。連続磁性媒体は、真
空蒸着法、スパツタ法もしくはメツキ法によつて
製造されている。この連続磁性媒体は、磁性層が
連続薄膜であるため、長手方向の磁気記録は勿
論、垂直記録方式において特に記録密度の飛躍的
向上が期待されている。また、各磁気テープ又は
デイスク状磁気記録媒体等、種々の製品形態への
応用開発が進められている。

殊に、長尺状の連続薄膜磁性媒体の連続磁性層
はスパツタ装置内において次のように形成され
る。即ち、耐熱基材を対称的な位置に設けられて
いる一対の位置決め用のリング、サブストホルダ
ー間を通して複数のガイドロールによりＳ字形に
搬送する。この基材は、上記リング、サブストホ
ルダー間通過の際に、リング側に設けられたター
ゲツトからリングの孔を経て基材表面に磁性材料
を折出させることにより、両面に連続的な磁性層
を形成されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上述のような連続磁性媒体は、
塗布型の磁性媒体と異なり、磁性層中に結合剤、
潤滑剤等を全く含有しないので可撓性、潤滑性に
乏しく耐久性に問題を有している。このため、第
４図のような連続磁性媒体面３２上に弗素系潤滑
剤、シリコーンオイル、高級脂肪酸及びその誘導
体等を単独もしくは複合させた形で塗布すること
により皮膜３３を形成したり、あるいは第５図の
ように、非晶質の炭素もしくはSio_x（ｘ＝１〜２）
で表わされる化合物等の保護層５３を連続磁性層
５２の表面上に形成する試みが行われているが、
いずれも十分な耐久性を得るには至つていない。

本発明は、上記欠点に鑑みてなされており、耐
熱基材上の連続磁性層の表面に弗素炭素薄膜から
なる保護層を形成して、十分な耐久性を有する連
続磁性媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によれば、耐熱基材上にスパツタ法によ
り、磁性材料のみによる連続磁性層を形成し、次
に上記連続磁性層上にスパツタ法により炭素層を
形成し、続いてこの炭素層に弗素イオンを照射す
ることにより弗素化して、弗化炭素薄膜からなる
保護層を形成することを特徴とする連続磁性媒体
の製造方法が得られる。

ここで、本発明において、弗素炭素薄膜は化学
式（C_xＦ）_o（ｘは１から２までの数、ｎは自然
数）で表わされる。

〔作用〕

本発明の作用について述べる。

低圧アルゴン雰囲気中で、高電圧印加してグロ
ー放電等の放電を行うと、アルゴンプラズマを発
生する。アルゴンプラズマは、ターゲツトに衝突
し、ターゲツトから高速粒子をはじき出す。高速
粒子は、耐熱基材表面に衝突し、基材表面に薄膜
を形成する。この時に陰極のターゲツトを磁性体
とした場合、耐熱基材面垂直に、磁気異方性を有
する磁性材料からなる連続磁性層が形成する。更
に、陰極ターゲツトをカーボンとして、連続磁性
層上に薄膜状の炭素層を形成する。次に、真空容
器内において、弗素ガスをイオンガンによつて弗
素イオンを炭素層に照射し、炭素層は弗化炭素薄
膜が生成することにより保護層が得られる。

このようにして得られた連続磁性媒体は、連続
磁性層が弗化炭素薄膜の保護層で被れているた
め、耐久性が極めて大きい。

ここで、連続磁性層の磁性材料としてはCo・
Crの他に、Co・Cr、Ni・Feの二層導体及び
Ni・Ｐ・Co等が使用できる。

また、耐熱基材としては、厚さ50μｍ程度のポ
リイミドを使用できるがこれに限定されない。

上記の連続磁性層及び炭素層のスパツタ法によ
る形成は同一容器内においても可能である。

〔実施例〕 本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。

第１図ａは、本発明に係る連続磁性媒体の磁性
薄膜形成方法の一例を示す模式図である。

この図において、耐熱基材１はポリアミド製で
ホルダー１１に設けられている。基材１、ホルダ
ー１１、及びCo・Crターゲツト１０は真空容器
１２内にあり、この真空容器１２には、真空ポン
プ１３に連結する排気管及びアルゴンガス導入管
１４が設けられている。真空容器１２内を低圧ア
ルゴンガス雰囲気中１５で、耐熱基材上にスパツ
タ法により、耐熱基材１両面に0.2μｍの厚さ
Co・Cr薄膜の連続磁性層２が形成される。

即ち、ホルダー１１とターゲツト１０間に高電
圧を印加し、容器内でグロー放電を発生させアル
ゴンプラズマを発生させる。このアルゴンプラズ
マは、Co・Crターゲツト１０からCo・Cr粒子１
０ａをたたき出し、たたき出されたCo・Cr粒子
１０ａは耐熱基材１表面に衝突して、その運動エ
ネルギを失つて基材面に析出し、Co・Cr薄膜を
連続的に形成する。

第１図ｂは、本発明に係る連続磁性媒体の炭素
薄膜形成方法の一例を示す模式図である。

この図において、Co・Cr薄膜の連続磁性層２
が形成された耐熱基材１はホルダー１７に設けら
れている。

カーボン(C)ターゲツト１６、磁性層付き基材１
及びホルダー１７は真空容器１８内にあり、この
真空容器１８に真空ポンプ１９に連結する排出管
及びアルゴンガス導入管１４が設けられている。
低圧アルゴンガス雰囲気中２１で、上記の連続磁
性層が形成された基材はスパツタ法により、両面
の連続磁性層２のうえに200Aの厚さの薄膜状の
炭素層４を形成する。

第１図ｃは、本発明に係る連続磁性媒体の弗化
炭素薄膜形成方法の一例を示す模式図である。連
続磁性層２としてCo・Cr薄膜の連続磁性層２が
形成され、続いて炭素層４が形成された耐熱基材
１は、真空容器４１内にあり、この真空容器は導
入管４３より導入された弗素ガス４２に満たされ
ており、イオンガン４３の照射方向の基板ホルダ
ー４４に設けられている。

さらに、真空容器４１には真空ポンプ４６に連
結する排出管が設けられている。イオンガン４３
により、弗素ガスは、弗素イオン（F⁺）となり
基板に向い、炭素層４面に衝突して反応し弗素炭
素の膜（第２図の３）を形成する。得られた連続
磁性体は第２図示の構造を有する。

第３図は、実施例に係る連続磁性媒体の耐久性
の試験結果を示す。この図において、曲線２９
は、本発明の実施例に係る連続磁性媒体のパス回
数と再生出力とのパス回数０の出力を１としたと
きの相対値を示す。この曲線２９から明らかな様
に実施例に係る連続磁性媒体の出力は、２×10⁷
パス回数においても、ほとんど低下しないことが
わかる。この耐久性試験は次のように行われた。

市販の両面用フロツピーデイスクドライバーに
セツト記録密度10〔KFRPI〕で、相対速度1.0
〔ｍ／ｓ〕でパスウエアテストを行つた。

比較の為に第４図、第５図で示される従来の連
続磁性媒体の試験の結果を、第３図の曲線３５、
曲線３６によつて各々示す。ここで、第４図の連
続磁性媒体においては、耐熱基材３１面上の
Co・Cr薄膜の連続磁性層３２は実施例と同様に
スパツタ法により形成され、更に形成された連続
磁性層３２上に弗素系潤滑剤（商標はクライトツ
クス デユポン(株)製）をスピンコートにより製造
されている。また第５図のような連続磁性媒体に
おいて、耐熱基材４１面上のCo・Cr薄膜の連続
磁性層４２は実施例と同様にスパツタ法により形
成され、更に形成された連続磁性層４２上に
200AのSiO₂皮膜からなる保護層４３として形成
されている。

〔発明の効果〕

以上述べたように、本発明によれば、耐熱基材
上の連続磁性層の表面に弗化炭素薄膜からなる保
護層を形成することにより、十分に耐久性を有す
る連続磁性媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図ａ，ｂ及びｃは、本発明の実施例に係る
連続磁性媒体の製造方法を工程順に示した図、第
２図は、本発明の実施例に係る連続磁性媒体の断
面図、第３図は、本発明の実施例に係る連続磁性
媒体の耐久性を示す図、第４図は、従来の連続磁
性媒体の一例を示す断面図、第５図は、従来の連
続磁性媒体の他の一例を示す断面図である。図中
１は耐熱基材、２は連続磁性層、３は保護層、４
は炭素層、１０はCo・Crターゲツト、１１及び
１７はホルダー、１６はＣターゲツト、１２，１
８及び４１は真空容器、４２は弗素ガス、４３は
イオンガン、４５は弗素イオン、４６はポンプ、
３１は耐熱基材、３２は連続磁性層、３３は皮
膜、５１は耐熱基材、５２は連続磁性層、５３は
保護層である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 耐熱基材上にスパツタ法により磁性材料のみ
   からなる連続磁性層を形成し、次に上記連続磁性
   層上にスパツタ法により炭素層を形成し、続いて
   上記炭素層に弗素イオンを照射することにより弗
   素化して弗化炭素薄膜からなる保護層を形成する
   ことを特徴とする連続磁性媒体の製造方法。 ２ 上記磁性材料はCo・Cr、Ni・Fe、Ni・Ｐ・
   Coのグループから選択された少なくとも１種か
   らなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
   載の連続磁性媒体の製造方法。