JPH0366733B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0366733B2 JPH0366733B2 JP62315221A JP31522187A JPH0366733B2 JP H0366733 B2 JPH0366733 B2 JP H0366733B2 JP 62315221 A JP62315221 A JP 62315221A JP 31522187 A JP31522187 A JP 31522187A JP H0366733 B2 JPH0366733 B2 JP H0366733B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- continuous magnetic
- layer
- continuous
- base material
- heat
- Prior art date
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、フロツピーデイスク、ビデオ、オー
デイオの録音テープ等記録用媒体として幅広く使
用されている連続磁性媒体及びその製造方法に関
する。
デイオの録音テープ等記録用媒体として幅広く使
用されている連続磁性媒体及びその製造方法に関
する。
［従来の技術］
近年、磁気記録の高密度の要求に伴い磁性層が
磁性材料のみによつて形成される連続磁性媒体の
研究が盛んに行われている。連続磁性媒体は、真
空蒸着法、スパツタ法もしくはメツキ法によつて
製造されている。この連続磁性媒体は、磁性層が
連続薄膜であるため、長手方向の磁気記録は勿
論、垂直記録方式において、特に記録密度の飛躍
的向上が期待されている。また各磁気テープ又は
デイスク状磁気記録媒体等種々の製品形態への応
用開発が進められている。
磁性材料のみによつて形成される連続磁性媒体の
研究が盛んに行われている。連続磁性媒体は、真
空蒸着法、スパツタ法もしくはメツキ法によつて
製造されている。この連続磁性媒体は、磁性層が
連続薄膜であるため、長手方向の磁気記録は勿
論、垂直記録方式において、特に記録密度の飛躍
的向上が期待されている。また各磁気テープ又は
デイスク状磁気記録媒体等種々の製品形態への応
用開発が進められている。
殊に、長尺状の連続薄膜磁性媒体は、基材をス
パツタ装置内に上下対照的な位置に設けられた位
置決め用のリング及びサブストホルダ間を通し
て、搬送ガイドロールによりＳ字形に蛇行して搬
送し、リング側に設けられたターゲツトから、磁
性層をリングを経て基材両面に片面ずつ析出させ
ることにより製造されている。
パツタ装置内に上下対照的な位置に設けられた位
置決め用のリング及びサブストホルダ間を通し
て、搬送ガイドロールによりＳ字形に蛇行して搬
送し、リング側に設けられたターゲツトから、磁
性層をリングを経て基材両面に片面ずつ析出させ
ることにより製造されている。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、上述の連続磁性媒体は、塗布型
磁性媒体と異なり、磁性層中に結合剤、潤滑剤等
を全く含有しないので可撓性、潤滑性に乏しく耐
久性に問題を有している。
磁性媒体と異なり、磁性層中に結合剤、潤滑剤等
を全く含有しないので可撓性、潤滑性に乏しく耐
久性に問題を有している。
このため、第４図の如く連続磁性媒体面３２上
に、フツ素系潤滑剤、シリコーンオイル、高級脂
肪酸及びその誘導体を単独もしくは複合させた形
で媒体上に塗布することにより皮膜３３を形成し
たり、あるいは第５図に示すように非晶質の炭素
やSiOx（ｘ＝１〜２、）で表わされる化合物等の
連続保護膜４３を連続磁性層４２の表面上に形成
する試みが行われているが、いずれも十分な耐久
性を得るには至つていない。
に、フツ素系潤滑剤、シリコーンオイル、高級脂
肪酸及びその誘導体を単独もしくは複合させた形
で媒体上に塗布することにより皮膜３３を形成し
たり、あるいは第５図に示すように非晶質の炭素
やSiOx（ｘ＝１〜２、）で表わされる化合物等の
連続保護膜４３を連続磁性層４２の表面上に形成
する試みが行われているが、いずれも十分な耐久
性を得るには至つていない。
本発明は、上記欠点を鑑みてなされており、耐
熱基材上の連続磁性層の表面に、フツ化炭素薄膜
からなる保護層を形成して、十分な耐久性を有す
る連続磁性媒体及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
熱基材上の連続磁性層の表面に、フツ化炭素薄膜
からなる保護層を形成して、十分な耐久性を有す
る連続磁性媒体及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
［問題点を解決するための手段］
本発明によれば、耐熱基材と、この耐熱基材上
に磁性材料のみにより形成された連続磁性層と、
この連続磁性層上に形成された化学式（CxＦ）o
（ｘは１から２までの数、ｎは自然数である）で
表わされる保護層からなることを特徴とする連続
磁性媒体が得られる。
に磁性材料のみにより形成された連続磁性層と、
この連続磁性層上に形成された化学式（CxＦ）o
（ｘは１から２までの数、ｎは自然数である）で
表わされる保護層からなることを特徴とする連続
磁性媒体が得られる。
さらに、本発明によれば、耐熱基材上にスパツ
タ法により磁性材料のみの連続磁性層を形成し、
次にこの連続磁性層上にスパツタ法により炭素層
を形成し、続いてこの炭素層を弗素化するために
窒素及び弗素の混合ガス中にて200〜600℃の範囲
内の温度で加熱して、弗化炭素薄膜からなる保護
層を形成することを特徴とする連続磁性媒体の製
造方法が得られる。
タ法により磁性材料のみの連続磁性層を形成し、
次にこの連続磁性層上にスパツタ法により炭素層
を形成し、続いてこの炭素層を弗素化するために
窒素及び弗素の混合ガス中にて200〜600℃の範囲
内の温度で加熱して、弗化炭素薄膜からなる保護
層を形成することを特徴とする連続磁性媒体の製
造方法が得られる。
［作用］
本発明の作用について述べる。
低圧アルゴン雰囲気中で、高電圧を印加する
と、グロー放電等によりアルゴンプラズマを発生
する。プラズマの衝突によりターゲツトからはじ
き出された原子は、基材表面に衝突し、薄膜を形
成する。
と、グロー放電等によりアルゴンプラズマを発生
する。プラズマの衝突によりターゲツトからはじ
き出された原子は、基材表面に衝突し、薄膜を形
成する。
この時陰極ターゲツトを、Co・Crとした場合、
基材面に垂直な磁気異方性を有するCo・Cr薄膜
からなる連続磁性層が形成される。続いて、陰極
ターゲツトをＣとして、連続磁性層上に炭素薄膜
を形成する。
基材面に垂直な磁気異方性を有するCo・Cr薄膜
からなる連続磁性層が形成される。続いて、陰極
ターゲツトをＣとして、連続磁性層上に炭素薄膜
を形成する。
次に、この炭素薄膜を窒素・弗素混合気体中で
200〜600℃の範囲内の温度で加熱することにより
炭素薄膜は弗素化され弗化炭素の保護層が形成す
る。なお、加熱時間は約２時間程度が良い。
200〜600℃の範囲内の温度で加熱することにより
炭素薄膜は弗素化され弗化炭素の保護層が形成す
る。なお、加熱時間は約２時間程度が良い。
このようにして得られた連続磁性媒体は、連続
磁性層が弗化炭素保護膜で被われているため、耐
久性が極めて大きい。
磁性層が弗化炭素保護膜で被われているため、耐
久性が極めて大きい。
ここで、連続磁性層の磁性材料としては、
Co・Crの他に、Co・CrとNi・Feとの二層媒体
及いNi・Ｐ・Co等の連続薄膜が使用できる。
Co・Crの他に、Co・CrとNi・Feとの二層媒体
及いNi・Ｐ・Co等の連続薄膜が使用できる。
また、耐熱基材としては、厚さ50μｍ程度のポ
リイミドを使用できるが、これに限定されない。
リイミドを使用できるが、これに限定されない。
また、連続磁性層と炭素層のスパツタ法は同一
容器内にても可能である。
容器内にても可能である。
［実施例］
本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。第１図は、本発明に係る連続磁性媒体の
一例を示す断面図である。この図において、例え
ば厚さ50μｍのポリイミド等の適当なフイルム状
の耐熱基材１の両面全体に渡つてCo・Cr薄膜の
連続磁性層２が0.2μｍの厚さで形成されている。
さらに、この連続磁性層２の上に弗化炭素薄膜の
保護層３が形成されている。
明する。第１図は、本発明に係る連続磁性媒体の
一例を示す断面図である。この図において、例え
ば厚さ50μｍのポリイミド等の適当なフイルム状
の耐熱基材１の両面全体に渡つてCo・Cr薄膜の
連続磁性層２が0.2μｍの厚さで形成されている。
さらに、この連続磁性層２の上に弗化炭素薄膜の
保護層３が形成されている。
次に、上記の連続磁性媒体の製造方法を、順を
追つて説明する。
追つて説明する。
第２図ａは、本発明に係る連続磁性媒体の連続
磁性薄膜形成方法の一例を示す模式図である。こ
の図において、耐熱基材１は基板ホルダー１１に
設けられている。Co・Cr磁性材料のターゲツト
１０、ホルダー１１及び耐熱基材１は、真空容器
１２内にあり、この真空容器１２には、真空ポン
プ１３に連結する排気管及びアルゴンガス導入管
１４が設けられている。真空容器１２内を低圧ア
ルゴンガス雰囲気１５とし、耐熱基材１の両面上
に、スパツタ法により、0.2μｍ厚のCo・Cr薄膜
からなる連続磁性層２が形成される。即ち、ホル
ダー１１とターゲツト１０間に高電圧を印加し、
グロー放電を発生させ、アルゴンプラズマを発生
させる。このプラズマはターゲツト１０から、
Co・Cr粒子１０ａをたたき出し、たたき出され
たCo・Cr粒子１０ａは基材１の表面に衝突した
析出し、基材１の表面にCo・Cr薄膜２が形成さ
れる。
磁性薄膜形成方法の一例を示す模式図である。こ
の図において、耐熱基材１は基板ホルダー１１に
設けられている。Co・Cr磁性材料のターゲツト
１０、ホルダー１１及び耐熱基材１は、真空容器
１２内にあり、この真空容器１２には、真空ポン
プ１３に連結する排気管及びアルゴンガス導入管
１４が設けられている。真空容器１２内を低圧ア
ルゴンガス雰囲気１５とし、耐熱基材１の両面上
に、スパツタ法により、0.2μｍ厚のCo・Cr薄膜
からなる連続磁性層２が形成される。即ち、ホル
ダー１１とターゲツト１０間に高電圧を印加し、
グロー放電を発生させ、アルゴンプラズマを発生
させる。このプラズマはターゲツト１０から、
Co・Cr粒子１０ａをたたき出し、たたき出され
たCo・Cr粒子１０ａは基材１の表面に衝突した
析出し、基材１の表面にCo・Cr薄膜２が形成さ
れる。
第２図ｂは、本発明に係る連続磁性媒体の炭素
薄膜形成方法の一例を示す模式図である。
薄膜形成方法の一例を示す模式図である。
この図において、Co・Cr薄膜の連続磁性層２
が形成された耐熱基材１は、ホルダー１７に設け
られている。カーボンターゲツト（Ｃターゲツト
と略す）１６、上記の基材１及びホルダー１７
は、真空容器１８内にある。ここで、真空容器１
８に真空ポンプ１９に連結する排気管及びアルゴ
ンガス導入管１４が設けられている。真空容器１
８内を低圧アルゴンガス雰囲気２１とし、上記基
材１上の連続磁性層２の表面にスパツタ法により
200Aの厚さの薄膜からなる炭素層４を形成する。
が形成された耐熱基材１は、ホルダー１７に設け
られている。カーボンターゲツト（Ｃターゲツト
と略す）１６、上記の基材１及びホルダー１７
は、真空容器１８内にある。ここで、真空容器１
８に真空ポンプ１９に連結する排気管及びアルゴ
ンガス導入管１４が設けられている。真空容器１
８内を低圧アルゴンガス雰囲気２１とし、上記基
材１上の連続磁性層２の表面にスパツタ法により
200Aの厚さの薄膜からなる炭素層４を形成する。
第２図ｃは、本発明に係る連続磁性媒体の弗化
炭素薄膜形成方法の一例を示す模式図である。連
続磁性層２としてCo・Cr薄膜が形成され、続い
て炭素層４が形成された耐熱基材は、電気炉２２
に投入される。電気炉２２は密封構造で、加熱用
ヒータ２３、弗素と窒素の混合ガス導入管２４が
設けられている。これにより電気炉２２内は窒素
及び弗素の混合ガス２５により満たされている。
なお、２６，２７は、それぞれ窒素および弗素の
ガスボンベである。この混合ガス２５の雰囲気中
にて500℃の温度で２時間の加熱により耐熱基材
連続磁性層２上の炭素層４は、弗素化されて
（CxＦ）oで表わされる弗化炭素の保護層（第１図
の３）を形成する。
炭素薄膜形成方法の一例を示す模式図である。連
続磁性層２としてCo・Cr薄膜が形成され、続い
て炭素層４が形成された耐熱基材は、電気炉２２
に投入される。電気炉２２は密封構造で、加熱用
ヒータ２３、弗素と窒素の混合ガス導入管２４が
設けられている。これにより電気炉２２内は窒素
及び弗素の混合ガス２５により満たされている。
なお、２６，２７は、それぞれ窒素および弗素の
ガスボンベである。この混合ガス２５の雰囲気中
にて500℃の温度で２時間の加熱により耐熱基材
連続磁性層２上の炭素層４は、弗素化されて
（CxＦ）oで表わされる弗化炭素の保護層（第１図
の３）を形成する。
第３図は、連続磁性媒体の耐久性の試験結果を
示す。この図において、曲線２８は本発明の実施
例に係る連続磁性媒体のパス回数と再生出力との
関係を示し、再生出力はパス回数０のときの再生
出力を１としたときの相対値として示す。この曲
線２８から明らかな様に実施例に係る連続磁性媒
体の再生出力は、２×107パス回数においてもほ
とんど低下しないことが判る。
示す。この図において、曲線２８は本発明の実施
例に係る連続磁性媒体のパス回数と再生出力との
関係を示し、再生出力はパス回数０のときの再生
出力を１としたときの相対値として示す。この曲
線２８から明らかな様に実施例に係る連続磁性媒
体の再生出力は、２×107パス回数においてもほ
とんど低下しないことが判る。
この耐久試験は次のように行われた。市販の両
面用フロツピーデイスクドライバーにセツトし
て、記録密度10［KFRPI］、相対速度1.0［ｍ／ｓ］
で、パスウエアテストを行つた。
面用フロツピーデイスクドライバーにセツトし
て、記録密度10［KFRPI］、相対速度1.0［ｍ／ｓ］
で、パスウエアテストを行つた。
比較の為に、第４図、第５図で示される従来の
連続磁性媒体の試験結果を第３図の曲線３５、曲
線４５にそれぞれ示す。
連続磁性媒体の試験結果を第３図の曲線３５、曲
線４５にそれぞれ示す。
なお第４図のような連続磁性媒体においては、
耐熱基材３１上のCo・Cr薄膜の連続磁性層３２
は、実施例と同様にスパツタ法により形成され、
更に連続磁性層３２上に弗素系潤滑剤（商標クラ
イトツクスデユポン(株)製）をスピンコートにより
製造されている。また第５図のような連続磁性媒
体においては、耐熱基材４１上のCo・Cr薄膜の
連続磁性層４２は実施例と同様にスパツタ法によ
り形成され、更に磁性層４２上に200Aの厚さの
SiO2皮膜からなる保護層４３を形成されている。
耐熱基材３１上のCo・Cr薄膜の連続磁性層３２
は、実施例と同様にスパツタ法により形成され、
更に連続磁性層３２上に弗素系潤滑剤（商標クラ
イトツクスデユポン(株)製）をスピンコートにより
製造されている。また第５図のような連続磁性媒
体においては、耐熱基材４１上のCo・Cr薄膜の
連続磁性層４２は実施例と同様にスパツタ法によ
り形成され、更に磁性層４２上に200Aの厚さの
SiO2皮膜からなる保護層４３を形成されている。
［発明の効果］
以上述べたように、本発明によれば、連続磁性
層の表面に弗化炭素の薄膜を形成することにより
連続磁性層との密着性が優れ十分な耐久性を有す
る連続磁性媒体及びその製造方法が得られる。
層の表面に弗化炭素の薄膜を形成することにより
連続磁性層との密着性が優れ十分な耐久性を有す
る連続磁性媒体及びその製造方法が得られる。
第１図は、本発明の実施例に係る連続磁性媒体
を示す断面図、第２図ａ、第２図ｂ及び第２図ｃ
は、本発明の実施例に係る連続磁性媒体の製造方
法の説明に供する図、第３図は、本発明の実施例
に係る連続磁性媒体の耐久性を示す図、第４図
は、従来の連続磁性媒体の一例を示す断面図、第
５図は、従来の連続磁性媒体の他の一例を示す断
面図である。 図中１は耐熱基材、２は連続磁性層、３は保護
層、４は炭素層、１０はCo・Crターゲツト、１
６はＣターゲツト、１１及び１７はホルダー、１
２及び１８は真空容器、２２は電気炉、２３はヒ
ータ、２５は窒素及び弗素の混合ガス、３１は耐
熱基材、３２は連続磁性層、３３は皮膜、４１は
耐熱基材、４２は連続磁性層、４３は連続保護膜
である。
を示す断面図、第２図ａ、第２図ｂ及び第２図ｃ
は、本発明の実施例に係る連続磁性媒体の製造方
法の説明に供する図、第３図は、本発明の実施例
に係る連続磁性媒体の耐久性を示す図、第４図
は、従来の連続磁性媒体の一例を示す断面図、第
５図は、従来の連続磁性媒体の他の一例を示す断
面図である。 図中１は耐熱基材、２は連続磁性層、３は保護
層、４は炭素層、１０はCo・Crターゲツト、１
６はＣターゲツト、１１及び１７はホルダー、１
２及び１８は真空容器、２２は電気炉、２３はヒ
ータ、２５は窒素及び弗素の混合ガス、３１は耐
熱基材、３２は連続磁性層、３３は皮膜、４１は
耐熱基材、４２は連続磁性層、４３は連続保護膜
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 耐熱基材と、該耐熱基材上に磁性材料のみに
より形成された連続磁性層と、該連続磁性層上に
形成された化学式（CxＦ）o（ｘは１から２までの
数、ｎは自然数である）で表わされる保護層から
なることを特徴とする連続磁性媒体。 ２ 上記磁性材料は、Co・Cr、Ni・Fe、Ni・
Ｐ・Coのグループから選択された少くとも１種
からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の連続磁性媒体。 ３ 耐熱基材上にスパツタ法により磁性材料のみ
による連続磁性層を形成し、次に上記連続磁性層
上にスパツタ法により炭素層を形成し、続いて上
記炭素層を弗素化するため窒素及び弗素の混合ガ
ス中にて200〜600℃の範囲内の温度で加熱して、
弗化炭素薄膜からなる保護層を形成することを特
徴とする連続磁性媒体の製造方法。 ４ 上記磁性材料はCo・Cr、Ni・Fe、Ni・Ｐ・
Coのグループから選択された少くとも１種から
なることを特徴とする特許請求の範囲第３項記載
の連続磁性媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31522187A JPH01158614A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 連続磁性媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31522187A JPH01158614A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 連続磁性媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01158614A JPH01158614A (ja) | 1989-06-21 |
| JPH0366733B2 true JPH0366733B2 (ja) | 1991-10-18 |
Family
ID=18062854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31522187A Granted JPH01158614A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 連続磁性媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01158614A (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647926A (en) * | 1979-09-21 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium |
-
1987
- 1987-12-15 JP JP31522187A patent/JPH01158614A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01158614A (ja) | 1989-06-21 |
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