JPH04305036A - 透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 - Google Patents
透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH04305036A JPH04305036A JP6717891A JP6717891A JPH04305036A JP H04305036 A JPH04305036 A JP H04305036A JP 6717891 A JP6717891 A JP 6717891A JP 6717891 A JP6717891 A JP 6717891A JP H04305036 A JPH04305036 A JP H04305036A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zinc oxide
- oxide film
- zinc
- film
- transparent conductive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 62
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 3
- 229940006174 zinc valerate Drugs 0.000 abstract description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract 1
- -1 etc. Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical group [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- NHXVNEDMKGDNPR-UHFFFAOYSA-N zinc;pentane-2,4-dione Chemical compound [Zn+2].CC(=O)[CH-]C(C)=O.CC(=O)[CH-]C(C)=O NHXVNEDMKGDNPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUDAIZWUWHWZPQ-UHFFFAOYSA-L zinc;pentanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCC([O-])=O.CCCCC([O-])=O BUDAIZWUWHWZPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
- C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
- C23C18/1216—Metal oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1225—Deposition of multilayers of inorganic material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透明性導電性酸化亜鉛
膜の製造方法に関し、詳しくは、可視領域の透過性にす
ぐれると共に、眼に有害な４００ｎｍ以下の紫外線の遮
断性にすぐれ、従つて、デイスプレイパネル等に好適に
用いることができる透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法
に関する。
膜の製造方法に関し、詳しくは、可視領域の透過性にす
ぐれると共に、眼に有害な４００ｎｍ以下の紫外線の遮
断性にすぐれ、従つて、デイスプレイパネル等に好適に
用いることができる透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、導電性酸化亜鉛膜を製造するため
の方法としては、アルミニウム原子をトーパントとして
スパツタ法で製膜する方法（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ
． Ｐｈｙｓ．， ２４ （１９８５）Ｌ７８１）や、
ドーパントを用いることなく、スプレー法にて製膜し、
酸素空孔等にて導電性を発現させる方法 （Ｊ． Ｍａ
ｔｅｒ． Ｓｃｉ．， ２２ （１９８７） １３７９
） 等が知られている。しかしながら、上記スパツタ法
は、高価な設備を必要とし、しかも、量産性に劣り、一
方、スプレー法は、基盤となるガラスやセラミツクス等
の形状が制約を受ける等の欠点がある。
の方法としては、アルミニウム原子をトーパントとして
スパツタ法で製膜する方法（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ
． Ｐｈｙｓ．， ２４ （１９８５）Ｌ７８１）や、
ドーパントを用いることなく、スプレー法にて製膜し、
酸素空孔等にて導電性を発現させる方法 （Ｊ． Ｍａ
ｔｅｒ． Ｓｃｉ．， ２２ （１９８７） １３７９
） 等が知られている。しかしながら、上記スパツタ法
は、高価な設備を必要とし、しかも、量産性に劣り、一
方、スプレー法は、基盤となるガラスやセラミツクス等
の形状が制約を受ける等の欠点がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】現在、ＩＴＯ膜は、液
晶パネルやＥＬ、ＬＣＤ等のデイスプレイに広く用いら
れている。本発明者らは、従来の導電性酸化亜鉛膜の製
造における上記した問題を解決するために鋭意研究した
結果、基盤上に透明で導電性を有するＩＴＯ膜（酸化イ
ンジウム（ＩＩＩ）−酸化スズ膜）を形成し、その上に
酸化亜鉛膜を製膜することによつて、酸化亜鉛膜に導電
性が発現することを見出して、本発明に至つたものであ
る。
晶パネルやＥＬ、ＬＣＤ等のデイスプレイに広く用いら
れている。本発明者らは、従来の導電性酸化亜鉛膜の製
造における上記した問題を解決するために鋭意研究した
結果、基盤上に透明で導電性を有するＩＴＯ膜（酸化イ
ンジウム（ＩＩＩ）−酸化スズ膜）を形成し、その上に
酸化亜鉛膜を製膜することによつて、酸化亜鉛膜に導電
性が発現することを見出して、本発明に至つたものであ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明による透明性導電
性酸化亜鉛膜の製造方法は、基盤上に透明で導電性を有
するＩＴＯ膜を形成し、更に、その上に酸化亜鉛膜を製
膜することを特徴とする。即ち、本発明によれば、ガラ
スやセラミツクス等の基盤上に、透明で導電性を有する
ＩＴＯ膜を形成し、その上に酸化亜鉛膜を製膜すること
によつて、酸化亜鉛膜に導電性が発現し、しかも、酸化
亜鉛膜がＩＴＯ膜よりも屈折率が低いために、可視光の
透過率が当初のＩＴＯ膜を備えた基盤よりも高く、更に
、紫外線の遮断性も改善された透明性導電性酸化亜鉛膜
を得ることができる。
性酸化亜鉛膜の製造方法は、基盤上に透明で導電性を有
するＩＴＯ膜を形成し、更に、その上に酸化亜鉛膜を製
膜することを特徴とする。即ち、本発明によれば、ガラ
スやセラミツクス等の基盤上に、透明で導電性を有する
ＩＴＯ膜を形成し、その上に酸化亜鉛膜を製膜すること
によつて、酸化亜鉛膜に導電性が発現し、しかも、酸化
亜鉛膜がＩＴＯ膜よりも屈折率が低いために、可視光の
透過率が当初のＩＴＯ膜を備えた基盤よりも高く、更に
、紫外線の遮断性も改善された透明性導電性酸化亜鉛膜
を得ることができる。
【０００５】本発明の方法においては、ＩＴＯ膜は、ス
パツタリング法やイオンプレーテイング法等、従来、知
られているいずれの方法によつてガラス等の基盤上に形
成してもよい。また、本発明の方法においては、酸化亜
鉛膜は、例えば、予め加熱した基盤に酢酸亜鉛の水溶液
を噴霧するスプレー法等の熱分解法によつてもよく、ま
た、スパツタリング法やイオンプレーテイング法等、従
来、知られているいずれの方法によつてもよいが、好ま
しくは、酸化亜鉛膜は、基盤上にＩＴＯ膜を形成した後
、この基盤上に亜鉛化合物の溶液を塗布し、その亜鉛化
合物の塗膜を焼付けることによつて形成される。焼付け
温度は、通常、３００〜６００℃の範囲であるが、特に
これに限定されるものではない。このような方法は、上
述したような方法に比べて、簡単であり、工業上、有利
である。
パツタリング法やイオンプレーテイング法等、従来、知
られているいずれの方法によつてガラス等の基盤上に形
成してもよい。また、本発明の方法においては、酸化亜
鉛膜は、例えば、予め加熱した基盤に酢酸亜鉛の水溶液
を噴霧するスプレー法等の熱分解法によつてもよく、ま
た、スパツタリング法やイオンプレーテイング法等、従
来、知られているいずれの方法によつてもよいが、好ま
しくは、酸化亜鉛膜は、基盤上にＩＴＯ膜を形成した後
、この基盤上に亜鉛化合物の溶液を塗布し、その亜鉛化
合物の塗膜を焼付けることによつて形成される。焼付け
温度は、通常、３００〜６００℃の範囲であるが、特に
これに限定されるものではない。このような方法は、上
述したような方法に比べて、簡単であり、工業上、有利
である。
【０００６】ここに、本発明の方法においては、上記亜
鉛化合物の溶液としては、炭素数３〜７の脂肪酸の亜鉛
塩又は炭素数５〜８のジケトンの亜鉛キレート化合物等
を有機溶剤に溶解してなるものが好ましく用いられる。 上記脂肪酸の亜鉛塩としては、例えば、ｎ−吉草酸亜鉛
やｎ−カプロン酸亜鉛が好ましく用いられ、また、ジケ
トンの亜鉛キレート化合物としては、例えば、亜鉛アセ
チルアセトネート等が好ましく用いられるが、これらに
限定されるものではない。
鉛化合物の溶液としては、炭素数３〜７の脂肪酸の亜鉛
塩又は炭素数５〜８のジケトンの亜鉛キレート化合物等
を有機溶剤に溶解してなるものが好ましく用いられる。 上記脂肪酸の亜鉛塩としては、例えば、ｎ−吉草酸亜鉛
やｎ−カプロン酸亜鉛が好ましく用いられ、また、ジケ
トンの亜鉛キレート化合物としては、例えば、亜鉛アセ
チルアセトネート等が好ましく用いられるが、これらに
限定されるものではない。
【０００７】また、亜鉛化合物の溶液を形成するための
有機溶媒としては、例えば、ｎ−ブタノール、ジメチル
ホルムアミド、アセチルアセトン、エチルセルソルブ等
のような比較的沸点の高いアルコール、エステル、ケト
ン等が好ましく用いられるが、これらに限定されるもの
ではない。
有機溶媒としては、例えば、ｎ−ブタノール、ジメチル
ホルムアミド、アセチルアセトン、エチルセルソルブ等
のような比較的沸点の高いアルコール、エステル、ケト
ン等が好ましく用いられるが、これらに限定されるもの
ではない。
【０００８】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、基盤上
にＩＴＯ膜を製膜し、更に、その上に酸化亜鉛膜を製膜
することによつて、可視光の透過率がＩＴＯ膜を備えた
基盤よりも高く、しかも、紫外線の遮断性も改善された
透明性導電性酸化亜鉛膜を得ることができる。
にＩＴＯ膜を製膜し、更に、その上に酸化亜鉛膜を製膜
することによつて、可視光の透過率がＩＴＯ膜を備えた
基盤よりも高く、しかも、紫外線の遮断性も改善された
透明性導電性酸化亜鉛膜を得ることができる。
【０００９】従つて、かかる本発明による透明性導電性
酸化亜鉛膜は、例えば、デイスプレイパネル等に好適に
用いることができる。
酸化亜鉛膜は、例えば、デイスプレイパネル等に好適に
用いることができる。
【００１０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。吉草酸亜鉛１０重量部をアセチルアセトン９０重量
部に溶解してなる溶液に、ＩＴＯ膜を備えたガラスから
なる基盤を浸漬した後、３２０℃の温度で３０分間焼成
して、透明性導電性酸化亜鉛膜を形成した。酸化亜鉛膜
の表面抵抗は、平均３０Ω／□であつた。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。吉草酸亜鉛１０重量部をアセチルアセトン９０重量
部に溶解してなる溶液に、ＩＴＯ膜を備えたガラスから
なる基盤を浸漬した後、３２０℃の温度で３０分間焼成
して、透明性導電性酸化亜鉛膜を形成した。酸化亜鉛膜
の表面抵抗は、平均３０Ω／□であつた。
【００１１】ＩＴＯ膜は、その形成後に再加熱すると、
表面抵抗が増加することがよく知られている。上記ＩＴ
Ｏ膜を備えたガラス基盤は、当初、表面抵抗は２５Ω／
□であつたが、３２０℃で焼成すると、表面抵抗は６５
Ω／□であつた。従来のＩＴＯ膜を備えたガラス基盤と
、本発明に従つて、ＩＴＯ膜の上に更に酸化亜鉛膜を製
膜してなるガラス基盤の３５０〜７００ｎｍの透過率を
図１に示す。
表面抵抗が増加することがよく知られている。上記ＩＴ
Ｏ膜を備えたガラス基盤は、当初、表面抵抗は２５Ω／
□であつたが、３２０℃で焼成すると、表面抵抗は６５
Ω／□であつた。従来のＩＴＯ膜を備えたガラス基盤と
、本発明に従つて、ＩＴＯ膜の上に更に酸化亜鉛膜を製
膜してなるガラス基盤の３５０〜７００ｎｍの透過率を
図１に示す。
【００１２】従来のＩＴＯ膜を備えたガラス基盤は、約
５００ｎｍ以上の長波長領域において、透過率が減少し
ていくが、本発明によるガラス基盤では、むしろ、透過
率が増大している。しかも、本発明によるガラス基盤に
よれば、約４００ｎｍ以下の低波長領域において、紫外
線の遮断性が従来のＩＴＯ膜を備えたガラス基盤よりも
高い。
５００ｎｍ以上の長波長領域において、透過率が減少し
ていくが、本発明によるガラス基盤では、むしろ、透過
率が増大している。しかも、本発明によるガラス基盤に
よれば、約４００ｎｍ以下の低波長領域において、紫外
線の遮断性が従来のＩＴＯ膜を備えたガラス基盤よりも
高い。
【図１】は、ＩＴＯ膜を備えたガラス基盤と、更にその
上に酸化亜鉛膜を形成したガラス基盤のそれぞれの３５
０〜７００ｎｍにおける光透過率を示すグラフである。
上に酸化亜鉛膜を形成したガラス基盤のそれぞれの３５
０〜７００ｎｍにおける光透過率を示すグラフである。
Claims (3)
- 【請求項１】基盤上に透明で導電性を有するＩＴＯ膜を
形成し、更に、その上に酸化亜鉛膜を製膜することを特
徴とする透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法。 - 【請求項２】基盤上に透明で導電性を有するＩＴＯ膜を
形成し、この基盤を亜鉛化合物の溶液に浸漬した後、焼
成して、酸化亜鉛膜を製膜することを特徴とする透明性
導電性酸化亜鉛膜の製造方法。 - 【請求項３】亜鉛化合物の溶液が炭素数３〜７の脂肪酸
の亜鉛錯体又は炭素数５〜７のα，β−不飽和ケトンの
アセチルアセトン型錯体を有機溶剤に溶解したものであ
ることを特徴とする請求項２記載の透明性導電性酸化亜
鉛膜の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6717891A JPH04305036A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |
| DE69213782T DE69213782T2 (de) | 1991-02-22 | 1992-02-21 | Verfahren zur Herstellung transparenter Zinkoxidfilme |
| EP92301491A EP0500397B1 (en) | 1991-02-22 | 1992-02-21 | Method of producing transparent zinc oxide films |
| US07/840,754 US5252356A (en) | 1991-02-22 | 1992-02-24 | Method of producing transparent zinc oxide films |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6717891A JPH04305036A (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04305036A true JPH04305036A (ja) | 1992-10-28 |
Family
ID=13337376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6717891A Pending JPH04305036A (ja) | 1991-02-22 | 1991-03-29 | 透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04305036A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100788184B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2007-12-26 | 티디케이가부시기가이샤 | 투명 전기전도체 |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6717891A patent/JPH04305036A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100788184B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2007-12-26 | 티디케이가부시기가이샤 | 투명 전기전도체 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5387433A (en) | Protective layer on a conductive substrate | |
| JPH10509832A (ja) | 温度感受性基体用反射防止コーティング | |
| JPH0160548B2 (ja) | ||
| JP4349794B2 (ja) | 導電性を有する多層反射防止膜付透明基板の製造方法 | |
| JPH01132770A (ja) | チタン含有酸化物膜用組成物およびその膜の形成方法 | |
| JPS63274757A (ja) | ビスマス・錫酸化物膜 | |
| JP3219450B2 (ja) | 導電膜の製造方法、低反射導電膜とその製造方法 | |
| JP2002533902A (ja) | 光透過性の低抵抗コーティングを有する光透過性基板 | |
| CN108796452B (zh) | 一种二氧化钒薄膜及其制备方法和应用 | |
| JPH04305036A (ja) | 透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 | |
| JPH07249316A (ja) | 透明導電膜および該透明導電膜を用いた透明基体 | |
| US5252356A (en) | Method of producing transparent zinc oxide films | |
| JP4773145B2 (ja) | 増反射膜付きＡｇ又はＡｇ合金反射電極膜及びその製造方法 | |
| CN106245007B (zh) | 一种取向ito薄膜的制备方法 | |
| JP2539294B2 (ja) | 透光性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 | |
| JP3153961B2 (ja) | 透明性導電性酸化亜鉛膜の製造方法 | |
| JPH11142638A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| CN1170202C (zh) | 投影屏幕中增透抗反射保护组元的制作方法 | |
| JP2959014B2 (ja) | 透明電極基板の製造方法 | |
| JP2958384B2 (ja) | 透明導電体膜を含む多層膜の作製方法 | |
| JPS58156533A (ja) | 酸化亜鉛被膜の形成法 | |
| JPH0318737B2 (ja) | ||
| JP2011150918A (ja) | 透明導電性基板の製造方法 | |
| JPH07122359A (ja) | 電子レンジオーブンの窓部 | |
| JPH0687632A (ja) | 防眩効果を有する低反射導電膜及びその製造方法 |