JPH04314054A - 平版印刷版の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版の製造方法
に関するものである。
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】感光性印刷板は、一般に、アルミニウム
板等の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を通し
て紫外線等の活性光線を照射し、光が照射された部分を
重合あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非照射
部分を現像液に溶出させ、それぞれの部分を、水を反発
して油性インキを受容する画像部、および水を受容して
油性インキを反発する非画像部とすることにより得られ
る。
板等の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を通し
て紫外線等の活性光線を照射し、光が照射された部分を
重合あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非照射
部分を現像液に溶出させ、それぞれの部分を、水を反発
して油性インキを受容する画像部、および水を受容して
油性インキを反発する非画像部とすることにより得られ
る。
【0003】この場合における感光性組成物としては、
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されている
、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカ
リ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−442
02号に記載されている、ベンジルアルコール、アニオ
ン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からな
る現像液組成物、特開昭55−155355号に記載さ
れている、水に対する溶解度が常温において10重量%
以下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像液
組成物等が挙げられる。
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されている
、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカ
リ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−442
02号に記載されている、ベンジルアルコール、アニオ
ン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からな
る現像液組成物、特開昭55−155355号に記載さ
れている、水に対する溶解度が常温において10重量%
以下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像液
組成物等が挙げられる。
【0004】これらは、いずれも有機溶剤、界面活性剤
等の有機物を、現像液組成物中に含有している。しかし
ながら有機溶媒は、一般に毒性及び臭気があり、また火
災に対する危険性を持っており、さらに廃液においても
BOD規制を受けるなどの多くの欠点を有し、コストも
高くなる。これらの有機溶媒を実質上含まない現像液組
成物により、ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像しようとする試みは特開昭57−192952号、特
開昭58−27141号に記載されている。
等の有機物を、現像液組成物中に含有している。しかし
ながら有機溶媒は、一般に毒性及び臭気があり、また火
災に対する危険性を持っており、さらに廃液においても
BOD規制を受けるなどの多くの欠点を有し、コストも
高くなる。これらの有機溶媒を実質上含まない現像液組
成物により、ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像しようとする試みは特開昭57−192952号、特
開昭58−27141号に記載されている。
【0005】しかし、これらの現像液組成物はo−ナフ
トキノンジアジド化合物を感光性化合物として含むポジ
型感光性平版印刷版を現像する際に用いられており、こ
れらの実質上有機溶媒を含まない現像液組成物を用いて
、前述したジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現像
すると、ジアゾ樹脂が本質的にアルカリ水可溶性を有し
ていないため、残膜を生ずる事なく現像する事ができず
、さらに、未露光部が黄変する等、適正な現像性が得ら
れないという問題があった。
トキノンジアジド化合物を感光性化合物として含むポジ
型感光性平版印刷版を現像する際に用いられており、こ
れらの実質上有機溶媒を含まない現像液組成物を用いて
、前述したジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現像
すると、ジアゾ樹脂が本質的にアルカリ水可溶性を有し
ていないため、残膜を生ずる事なく現像する事ができず
、さらに、未露光部が黄変する等、適正な現像性が得ら
れないという問題があった。
【0006】一方、特開平2−189544号には、カ
ルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、スルフィ
ン酸基から選ばれた基を有する芳香族化合物を含む共縮
合ジアゾ樹脂を用いることによりジアゾ樹脂にアルカリ
水可溶性を持たせて、実質上有機溶媒を含まない現像液
での現像を可能ならしめることが記載されている。しか
しながら、実際に実質上有機溶媒を含まない現像液を用
いてこれらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像すると、ジアゾ樹脂が親水性であるため感光層表面の
感脂性が不足してしまう。現像後、平版印刷版は通常非
画像部の保護のためフィニッシャーにより不感脂化処理
を行う。
ルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホン酸基、スルフィ
ン酸基から選ばれた基を有する芳香族化合物を含む共縮
合ジアゾ樹脂を用いることによりジアゾ樹脂にアルカリ
水可溶性を持たせて、実質上有機溶媒を含まない現像液
での現像を可能ならしめることが記載されている。しか
しながら、実際に実質上有機溶媒を含まない現像液を用
いてこれらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像すると、ジアゾ樹脂が親水性であるため感光層表面の
感脂性が不足してしまう。現像後、平版印刷版は通常非
画像部の保護のためフィニッシャーにより不感脂化処理
を行う。
【0007】不感脂化処理の目的は現像済みの平版印刷
版に付着しているアルカリ現像液成分を除去し、平版印
刷版の非画像部を水に対し親和しやすい性質に変え、さ
らにキズや汚れを防ぐ皮膜を形成することにある。しか
し感光層表面の感脂性が低いと不感脂化が画像部までお
よぶため、このような平版印刷版を印刷機にかけると画
像部にインキが着肉しにくいという問題があった。
版に付着しているアルカリ現像液成分を除去し、平版印
刷版の非画像部を水に対し親和しやすい性質に変え、さ
らにキズや汚れを防ぐ皮膜を形成することにある。しか
し感光層表面の感脂性が低いと不感脂化が画像部までお
よぶため、このような平版印刷版を印刷機にかけると画
像部にインキが着肉しにくいという問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ジアゾ樹脂を含有する感光層を有する感光性平版印
刷版を、実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液
で現像処理して平版印刷版を製造する方法において現像
時の現像性がよく印刷時の着肉のよい平版印刷版の製造
方法を提供することである。
は、ジアゾ樹脂を含有する感光層を有する感光性平版印
刷版を、実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液
で現像処理して平版印刷版を製造する方法において現像
時の現像性がよく印刷時の着肉のよい平版印刷版の製造
方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討した結果、親水性の高いジアゾ樹脂
を用いた感光層を有する感光性平版印刷版をpHが12
以上でかつ実質上有機溶媒を含有しない現像液で現像し
てもアラビアゴムの含有率が0〜5重量%のフィニッシ
ャーで不感脂化処理することにより着肉が悪くならない
ことを見出し本発明に到達した。
達成すべく鋭意検討した結果、親水性の高いジアゾ樹脂
を用いた感光層を有する感光性平版印刷版をpHが12
以上でかつ実質上有機溶媒を含有しない現像液で現像し
てもアラビアゴムの含有率が0〜5重量%のフィニッシ
ャーで不感脂化処理することにより着肉が悪くならない
ことを見出し本発明に到達した。
【0010】すなわち本発明は支持体上にカルボキシル
基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸
基およびリンの酸素酸基からなる群から選ばれた少なく
とも1種を有する芳香族ジアゾニウム化合物を含有する
感光層を有する感光性平版印刷版を画像露光後、25℃
におけるpHが12以上でかつ実質上有機溶媒を含まな
い水性アルカリ現像液で現像した後アラビアゴム含有率
が0〜5重量%のフィニッシャーを用いて不感脂化処理
することを特徴とする平版印刷版の製造方法である。
基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸
基およびリンの酸素酸基からなる群から選ばれた少なく
とも1種を有する芳香族ジアゾニウム化合物を含有する
感光層を有する感光性平版印刷版を画像露光後、25℃
におけるpHが12以上でかつ実質上有機溶媒を含まな
い水性アルカリ現像液で現像した後アラビアゴム含有率
が0〜5重量%のフィニッシャーを用いて不感脂化処理
することを特徴とする平版印刷版の製造方法である。
【0011】以下に本発明を説明する。本発明に使用さ
れる、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち少な
くとも一種を有する芳香族ジアゾニウム化合物の例を以
下に示す。 (I)カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち少な
くとも一種を有する芳香族化合物と下記一般式(A)で
示される芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位として
含む共縮合ジアゾ樹脂:
れる、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち少な
くとも一種を有する芳香族ジアゾニウム化合物の例を以
下に示す。 (I)カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち少な
くとも一種を有する芳香族化合物と下記一般式(A)で
示される芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位として
含む共縮合ジアゾ樹脂:
【0012】
【化1】
【0013】式中、R1 は水素原子、置換基を有して
いてもよいアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシエ
ステル基又はカルボキシル基を示し、好ましくは水素原
子、炭素数1〜5個のアルキル基又はヒドロキシル基を
示す。R2 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基
を示し、好ましくは水素原子又はメトキシ基を示す。R
3 は水素原子アルキル基又はアルコキシ基を示し好ま
しくは水素原子を示す。
いてもよいアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシエ
ステル基又はカルボキシル基を示し、好ましくは水素原
子、炭素数1〜5個のアルキル基又はヒドロキシル基を
示す。R2 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基
を示し、好ましくは水素原子又はメトキシ基を示す。R
3 は水素原子アルキル基又はアルコキシ基を示し好ま
しくは水素原子を示す。
【0014】X− はアニオンを示し好ましくは脂肪族
又は芳香族スルホン酸アニオンを示しYは−NH−,−
O−又は−S−を示す。該芳香族化合物の芳香族環とし
ては、好ましくはフェニル基、ナフチル基を挙げること
ができる。また前記のカルボキシル基、フェノール性水
酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素
酸基は芳香族環に直接結合していてもよく、連結基を介
して結合していてもよい。凍結基としては例えばエーテ
ル結合を含む炭素数1以上の基を挙げることができる。
又は芳香族スルホン酸アニオンを示しYは−NH−,−
O−又は−S−を示す。該芳香族化合物の芳香族環とし
ては、好ましくはフェニル基、ナフチル基を挙げること
ができる。また前記のカルボキシル基、フェノール性水
酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素
酸基は芳香族環に直接結合していてもよく、連結基を介
して結合していてもよい。凍結基としては例えばエーテ
ル結合を含む炭素数1以上の基を挙げることができる。
【0015】本発明に利用される分子中にカルボキシル
基を有する芳香族化合物の具体例としては安息香酸、o
−クロロ安息香酸、m−クロロ安息香酸、p−クロロ安
息香酸、フタル酸、テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フ
ェノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、3−フェノ
キシプロピオン酸、2−フェノキシプロピオン酸、2−
フェノキシブタン酸、4−(4−メトキシフェノキシ)
ブタン酸、3−(2,4−ジメチルフェノキシ)ブタン
酸、6−フェノキシヘキサン酸、フェニル酢酸、4−メ
トキシフェニル酢酸、4−メチルフェニル酢酸、フェニ
ルプロピオン酸、フェニルブタン酸、p−メトキシ安息
香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメチル
安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、p−メトキシフェ
ニル酢酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキシ
アニリノ安息香酸、4−(p−メトキシベンゾイル)安
息香酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香酸、4−フ
ェニルスルホニル安息香酸、サリチル酸、4−メチルサ
リチル酸、6−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル
酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル酸
、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジメチルサリチ
ル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒド
ロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸
、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4
−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6−
メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,
6−ジヒドロキシ−4−メチル安息香酸、4−クロロ−
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−2,6
−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログルシンカルボ
ン酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、m−ガロ
イル没食子酸、タンニン酸、m−ベンゾイル没食子酸、
m−(p−トルイル)没食子酸、プロトカテクオイル−
没食子酸、4,6−ジヒドロキシフタル酸、(2,4−
ジヒドロキシフェニル)酢酸、(2,6−ジヒドロキシ
フェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒドロキシフェニ
ル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロ
キシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)
メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安
息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息
香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4
−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カ
ルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)アミン、4−(p
−ヒドロキシフェニルスルホニル)安息香酸、4−(p
−ヒドロキシフェニルチオ)安息香酸等があげられる。
基を有する芳香族化合物の具体例としては安息香酸、o
−クロロ安息香酸、m−クロロ安息香酸、p−クロロ安
息香酸、フタル酸、テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フ
ェノキシ酢酸、p−メトキシフェニル酢酸、3−フェノ
キシプロピオン酸、2−フェノキシプロピオン酸、2−
フェノキシブタン酸、4−(4−メトキシフェノキシ)
ブタン酸、3−(2,4−ジメチルフェノキシ)ブタン
酸、6−フェノキシヘキサン酸、フェニル酢酸、4−メ
トキシフェニル酢酸、4−メチルフェニル酢酸、フェニ
ルプロピオン酸、フェニルブタン酸、p−メトキシ安息
香酸、2,4−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメチル
安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、p−メトキシフェ
ニル酢酸、4−アニリノ安息香酸、4−(m−メトキシ
アニリノ安息香酸、4−(p−メトキシベンゾイル)安
息香酸、4−(p−メチルアニリノ)安息香酸、4−フ
ェニルスルホニル安息香酸、サリチル酸、4−メチルサ
リチル酸、6−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル
酸、6−プロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル酸
、6−ステアリルサリチル酸、4,6−ジメチルサリチ
ル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒド
ロキシ安息香酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸
、2,6−ジメチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4
−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6−
メチル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,
6−ジヒドロキシ−4−メチル安息香酸、4−クロロ−
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、4−メトキシ−2,6
−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログルシンカルボ
ン酸、2,4,5−トリヒドロキシ安息香酸、m−ガロ
イル没食子酸、タンニン酸、m−ベンゾイル没食子酸、
m−(p−トルイル)没食子酸、プロトカテクオイル−
没食子酸、4,6−ジヒドロキシフタル酸、(2,4−
ジヒドロキシフェニル)酢酸、(2,6−ジヒドロキシ
フェニル)酢酸、(3,4,5−トリヒドロキシフェニ
ル)酢酸、p−ヒドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロ
キシエチル安息香酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)
メチル安息香酸、4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安
息香酸、4−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息
香酸、4−(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4
−(p−ヒドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カ
ルボキシ−4−ヒドロキシフェニル)アミン、4−(p
−ヒドロキシフェニルスルホニル)安息香酸、4−(p
−ヒドロキシフェニルチオ)安息香酸等があげられる。
【0016】本発明に利用されるフェノール性水酸基を
有する芳香族化合物の具体例としてはフェノール、(o
,m,p)クレゾール、キシレノール、レゾルシン、2
−メチルレゾルシン、(o,m,p)−メトキシフェノ
ール、m−エトキシフェノール、カテコール、フロログ
ルシン、p−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトール
、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシベンジ
ルアルコール、4−クロロレゾルシン、ビフェニル4,
4−ジオール、1,2,4−ベンゼントリオール、ビス
フェノールA、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、p−ヒド
ロキシアセトフェノン、4,4−ジヒドロキシジフェニ
ルエーテル、4,4−ジヒドロキシジフェニルアミン、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、クミル
フェノール、(o,m,p)−クロロフェノール、(o
,m,p)−ブロモフェノール、等があげられる。
有する芳香族化合物の具体例としてはフェノール、(o
,m,p)クレゾール、キシレノール、レゾルシン、2
−メチルレゾルシン、(o,m,p)−メトキシフェノ
ール、m−エトキシフェノール、カテコール、フロログ
ルシン、p−ヒドロキシエチルフェノール、ナフトール
、ピロガロール、ヒドロキノン、p−ヒドロキシベンジ
ルアルコール、4−クロロレゾルシン、ビフェニル4,
4−ジオール、1,2,4−ベンゼントリオール、ビス
フェノールA、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、p−ヒド
ロキシアセトフェノン、4,4−ジヒドロキシジフェニ
ルエーテル、4,4−ジヒドロキシジフェニルアミン、
4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、クミル
フェノール、(o,m,p)−クロロフェノール、(o
,m,p)−ブロモフェノール、等があげられる。
【0017】本発明に利用されるスルホン酸基及び/又
はスルフィン酸基を有する芳香族化合物の具体例として
はベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベン
ゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、アニリ
ン−2−スルホン酸、4−アミノ−m−トルエンスルホ
ン酸、2,5−ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナフ
タレンスルホン酸1−アミノ−2−ナフタレンスルホン
酸、5−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−アミ
ノ−1,3−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ−1
,5−ナフタレンジスルホン酸、2−スルホ安息香酸等
があげられる。
はスルフィン酸基を有する芳香族化合物の具体例として
はベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ベン
ゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィン酸、アニリ
ン−2−スルホン酸、4−アミノ−m−トルエンスルホ
ン酸、2,5−ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナフ
タレンスルホン酸1−アミノ−2−ナフタレンスルホン
酸、5−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−アミ
ノ−1,3−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ−1
,5−ナフタレンジスルホン酸、2−スルホ安息香酸等
があげられる。
【0018】これらは、遊離のスルホン酸又はスルフィ
ン酸であっても良いし、ナトリウム、カリウム、リチウ
ム、セシウム、カルシウム、バリウム、マグネシウム、
アルミニウム、亜鉛などの金属塩又は、無置換もしくは
置換アンモニウム塩であってもよい。本発明に用いられ
る分子中にリンの酸素酸基を有する芳香族化合物の具体
例としては、フェニルリン酸、フェニル亜リン酸、フェ
ニルホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、フェニル亜ホスフィン酸、4−ヒドロキシフ
ェニルリン酸、4−ヒドロキシフェニル亜リン酸、4−
ヒドロキシフェニルホスホン酸、4−ヒドロキシフェニ
ル亜ホスホン酸、4−ヒドロキシフェニルホスフィン酸
、4−ヒドロキシフェニル亜ホスフィン酸、4−メチル
フェニルリン酸、4−メチルフェニル亜リン酸、4−メ
チルフェニルホスホン酸、4−メチルフェニル亜ホスホ
ン酸、4−メチルフェニルホスフィン酸、4−メチルフ
ェニル亜ホスフィン酸、4−t−ブチルフェニルリン酸
、4−t−ブチルフェニル亜リン酸、4−t−ブチルフ
ェニルホスホン酸、4−t−ブチルフェニル亜ホスホン
酸、4−t−ブチルフェニルホスフィン酸、4−t−ブ
チルフェニル亜ホスフィン酸、4−アミノフェニルリン
酸、4−アミノフェニル亜リン酸、4−アミノフェニル
ホスホン酸、4−アミノフェニル亜ホスホン酸、4−ア
ミノフェニルホスフィン酸、4−アミノフェニル亜ホス
フィン酸、4−メトキシフェニルリン酸、4−メトキシ
フェニル亜リン酸、4−メトキシフェニルホスホン酸、
4−メトキシフェニル亜ホスホン酸、4−メトキシフェ
ニルホスフィン酸、4−メトキシフェニル亜ホスフィン
酸、4−エトキシフェニルリン酸、4−エトキシフェニ
ル亜リン酸、4−エトキシフェニルホスホン酸、4−エ
トキシフェニル亜ホスホン酸、4−エトキシフェニルホ
スフィン酸、4−エトキシフェニル亜ホスフィン酸、4
−エチルフェニルリン酸、4−エチルフェニル亜リン酸
、4−エチルフェニルホスホン酸、4−エチルフェニル
亜ホスホン酸、4−エチルフェニルホスフィン酸、4−
エチルフェニル亜ホスフィン酸、2−アミノフェニルリ
ン酸、2−アミノフェニル亜リン酸、2−アミノフェニ
ルホスホン酸、2−アミノフェニル亜ホスホン酸、2−
アミノフェニルホスフィン酸、2−アミノフェニル亜ホ
スフィン酸、2,4−ジメチルフェニルリン酸、2,4
−ジメチルフェニル亜リン酸、2,4−ジメチルフェニ
ルホスホン酸、2,4−ジメチルフェニル亜ホスホン酸
、2,4−ジメチルフェニルホスフィン酸、2,4−ジ
メチルフェニル亜ホスフィン酸、2,6−ジアミノフェ
ニルリン酸、2,6−ジアミノフェニル亜リン酸、2,
6−ジアミノフェニルホスホン酸、2,6−ジアミノフ
ェニル亜ホスホン酸、2,6−ジアミノフェニルホスフ
ィン酸、2,6−ジアミノフェニル亜ホスフィン酸、2
,5−ジヒドロキシフェニルリン酸、2,5−ジヒドロ
キシフェニル亜リン酸、2,5−ジヒドロキシフェニル
ホスホン酸、2,5−ジヒドロキシフェニル亜ホスホン
酸、2,5−ジヒドロキシフェニルホスフィン酸、2,
5−ジヒドロキシフェニル亜ホスフィン酸、2−アミノ
−4−ヒドロキシフェニルリン酸、2−アミノ−4−ヒ
ドロキシフェニル亜リン酸、2−アミノ−4−ヒドロキ
シフェニルホスホン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフ
ェニル亜ホスホン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェ
ニルホスフィン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル亜ホスフィン酸、メシチルリン酸、メシチル亜リン酸
、メシチルホスホン酸、メシチル亜ホスホン酸、メシチ
ルホスフィン酸、メシチル亜ホスフィン酸、2,4−ジ
ヒドロキシ−6−メチルフェニルリン酸、2,4−ジヒ
ドロキシ−6−メチルフェニル亜リン酸、2,4−ジヒ
ドロキシ−6−メチルフェニルホスホン酸、2,4−ジ
ヒドロキシ−6−メチルフェニル亜ホスホン酸、2,4
−ジヒドロキシ−6−メチルフェニルホスフィン酸、2
,4−ジヒドロキシ−6−メチルフェニル亜ホスフィン
酸、ベンジルリン酸、ベンジル亜リン酸、ベンジルホス
ホン酸、ベンジル亜ホスホン酸、ベンジルホスフィン酸
、ベンジル亜ホスフィン酸、4−メトキシベンジルリン
酸、4−メトキシベンジル亜リン酸、4−メトキシベン
ジルホスホン酸、4−メトキシベンジル亜ホスホン酸、
4−メトキシベンジルホスフィン酸、4−メトキシベン
ジル亜ホスフィン酸、4−ヒドロキシベンジルリン酸、
4−ヒドロキシベンジル亜リン酸、4−ヒドロキシベン
ジルホスホン酸、4−ヒドロキシベンジル亜ホスホン酸
、4−ヒドロキシベンジルホスフィン酸、4−ヒドロキ
シベンジル亜ホスフィン酸、4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェニルリン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フ
ェニル亜リン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニ
ルホスホン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
亜ホスホン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
ホスフィン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
亜ホスフィン酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェ
ニルエチル亜リン酸、2−フェニルエチルホスホン酸、
2−フェニルエチル亜ホスホン酸、2−フェニルエチル
ホスフィン酸、2−フェニルエチル亜ホスフィン酸、1
−ナフチルリン酸、1−ナフチル亜リン酸、1−ナフチ
ルホスホン酸、1−ナフチル亜ホスホン酸、1−ナフチ
ルホスフィン酸、1−ナフチル亜ホスフィン酸、2−ナ
フチルリン酸、2−ナフチル亜リン酸、2−ナフチルホ
スホン酸、2−ナフチル亜ホスホン酸、2−ナフチルホ
スフィン酸、2−ナフチル亜ホスフィン酸、2−アミノ
−1−ナフチルリン酸、2−アミノ−1−ナフチル亜リ
ン酸、2−アミノ−1−ナフチルホスホン酸、2−アミ
ノ−1−ナフチル亜ホスホン酸、2−アミノ−1−ナフ
チルホスフィン酸、2−アミノ−1−ナフチル亜ホスフ
ィン酸、4−アミノ−1−ナフチルリン酸、4−アミノ
−1−ナフチル亜リン酸、4−アミノ−1−ナフチルホ
スホン酸、4−アミノ−1−ナフチル亜ホスホン酸、4
−アミノ−1−ナフチルホスフィン酸、4−アミノ−1
−ナフチル亜ホスフィン酸、5−アミノ−2−ナフチル
リン酸、5−アミノ−2−ナフチル亜リン酸、5−アミ
ノ−2−ナフチルホスホン酸、5−アミノ−2−ナフチ
ル亜ホスホン酸、5−アミノ−2−ナフチルホスフィン
酸、5−アミノ−2−ナフチル亜ホスフィン酸、4−ア
ミノ−3−ヒドロキシ−1−ナフチルリン酸、4−アミ
ノ−3−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、4−ア
ミノ−5−ヒドロキシ−1−ナフチルリン酸、4−アミ
ノ−5−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、7−ア
ミノ−3−ヒドロキシ−2−ナフチルリン酸、7−アミ
ノ−3−ヒドロキシ−2−ナフチルホスホン酸、5−ジ
メチルアミノ−2−ナフチルリン酸、5−ジメチルアミ
ノ−2−ナフチルホスホン酸、5−ヒドロキシ−1−ナ
フチルリン酸、5−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン
酸、5−メトキシ−2−ナフチルリン酸、5−メトキシ
−2−ナフチルホスホン酸、4−フェノキシフェニルリ
ン酸、4−フェノキシフェニルホスホン酸、4−(4−
メトキシフェノキシ)フェニルリン酸、4−(4−メト
キシフェノキシ)フェニルホスホン酸、4−ジフェニル
アミノリン酸、4−ジフェニルアミノ亜リン酸、4−ジ
フェニルアミノホスホン酸、4−ジフェニルアミノ亜ホ
スホン酸、4−ジフェニルアミノホスフィン酸、4−ジ
フェニルアミノ亜ホスフィン酸、4′−メトキシ−4−
ジフェニルアミノリン酸、4′−メトキシ−4−ジフェ
ニルアミノ亜リン酸、4′−メトキシ−4−ジフェニル
アミノホスホン酸、2−フェノキシエチルリン酸、2−
フェノキシエチル亜リン酸、2−フェノキシエチルホス
ホン酸、2−フェノキシエチル亜ホスホン酸、2−フェ
ノキシエチルホスフィン酸、2−フェノキシエチル亜ホ
スフィン酸、ベンジル(2−ジヒドロキシホスフィニル
オキシ)アセテート、ベンジル(2−ジヒドロキシホス
フィニル)アセテート、4−メトキシベンジル 2−
ジヒドロキシホスフィニルオキシアセテート、4−メト
キシベンジル2−ジヒドロキシホスフィニルアセテート
、3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピオン酸フ
ェニル、3−ジヒドロキシホスフィニルプロピオン酸フ
ェニル、3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピオ
ン酸(3−メトキシフェニル)、4−ジヒドロキシホス
フィニル酪酸(3−メトキシフェニル)、4−ジヒドロ
キシホスフィニルオキシ酪酸(4−ヒドロキシフェニル
)、3−ジヒドロキシホスフィニルプロピオン酸(4−
ヒドロキシフェニル)、2,4,6−トリメチル−1,
3−ベンゼン−ビス−リン酸、2,4,6−トリメチル
−1,3−ベンゼン−ビス−ホスホン酸、2,5−ジヒ
ドロキシ−1,4−ベンゼン−ビス−リン酸、2,5−
ジヒドロキシ−1,4−ベンゼン−ビス−ホスホン酸、
2,5−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼン−ビス−リン
酸、2,5−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼン−ビス−
ホスホン酸、1,5−ナフタレン−ビス−リン酸、1,
5−ナフタレン−ビス−ホスホン酸、2,6−ナフタレ
ン−ビス−リン酸、2,6−ナフタレン−ビス−ホスホ
ン酸、7−アミノ−1,3−ナフタレン−ビス−リン酸
、7−アミノ−1,3−ナフタレン−ビス−ホスホン酸
、3−メトキシ−2,7−ナフタレン−ビス−リン酸、
3−メトキシ−2,7−ナフタレン−ビス−ホスホン酸
などが挙げられる。
ン酸であっても良いし、ナトリウム、カリウム、リチウ
ム、セシウム、カルシウム、バリウム、マグネシウム、
アルミニウム、亜鉛などの金属塩又は、無置換もしくは
置換アンモニウム塩であってもよい。本発明に用いられ
る分子中にリンの酸素酸基を有する芳香族化合物の具体
例としては、フェニルリン酸、フェニル亜リン酸、フェ
ニルホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、フェニル亜ホスフィン酸、4−ヒドロキシフ
ェニルリン酸、4−ヒドロキシフェニル亜リン酸、4−
ヒドロキシフェニルホスホン酸、4−ヒドロキシフェニ
ル亜ホスホン酸、4−ヒドロキシフェニルホスフィン酸
、4−ヒドロキシフェニル亜ホスフィン酸、4−メチル
フェニルリン酸、4−メチルフェニル亜リン酸、4−メ
チルフェニルホスホン酸、4−メチルフェニル亜ホスホ
ン酸、4−メチルフェニルホスフィン酸、4−メチルフ
ェニル亜ホスフィン酸、4−t−ブチルフェニルリン酸
、4−t−ブチルフェニル亜リン酸、4−t−ブチルフ
ェニルホスホン酸、4−t−ブチルフェニル亜ホスホン
酸、4−t−ブチルフェニルホスフィン酸、4−t−ブ
チルフェニル亜ホスフィン酸、4−アミノフェニルリン
酸、4−アミノフェニル亜リン酸、4−アミノフェニル
ホスホン酸、4−アミノフェニル亜ホスホン酸、4−ア
ミノフェニルホスフィン酸、4−アミノフェニル亜ホス
フィン酸、4−メトキシフェニルリン酸、4−メトキシ
フェニル亜リン酸、4−メトキシフェニルホスホン酸、
4−メトキシフェニル亜ホスホン酸、4−メトキシフェ
ニルホスフィン酸、4−メトキシフェニル亜ホスフィン
酸、4−エトキシフェニルリン酸、4−エトキシフェニ
ル亜リン酸、4−エトキシフェニルホスホン酸、4−エ
トキシフェニル亜ホスホン酸、4−エトキシフェニルホ
スフィン酸、4−エトキシフェニル亜ホスフィン酸、4
−エチルフェニルリン酸、4−エチルフェニル亜リン酸
、4−エチルフェニルホスホン酸、4−エチルフェニル
亜ホスホン酸、4−エチルフェニルホスフィン酸、4−
エチルフェニル亜ホスフィン酸、2−アミノフェニルリ
ン酸、2−アミノフェニル亜リン酸、2−アミノフェニ
ルホスホン酸、2−アミノフェニル亜ホスホン酸、2−
アミノフェニルホスフィン酸、2−アミノフェニル亜ホ
スフィン酸、2,4−ジメチルフェニルリン酸、2,4
−ジメチルフェニル亜リン酸、2,4−ジメチルフェニ
ルホスホン酸、2,4−ジメチルフェニル亜ホスホン酸
、2,4−ジメチルフェニルホスフィン酸、2,4−ジ
メチルフェニル亜ホスフィン酸、2,6−ジアミノフェ
ニルリン酸、2,6−ジアミノフェニル亜リン酸、2,
6−ジアミノフェニルホスホン酸、2,6−ジアミノフ
ェニル亜ホスホン酸、2,6−ジアミノフェニルホスフ
ィン酸、2,6−ジアミノフェニル亜ホスフィン酸、2
,5−ジヒドロキシフェニルリン酸、2,5−ジヒドロ
キシフェニル亜リン酸、2,5−ジヒドロキシフェニル
ホスホン酸、2,5−ジヒドロキシフェニル亜ホスホン
酸、2,5−ジヒドロキシフェニルホスフィン酸、2,
5−ジヒドロキシフェニル亜ホスフィン酸、2−アミノ
−4−ヒドロキシフェニルリン酸、2−アミノ−4−ヒ
ドロキシフェニル亜リン酸、2−アミノ−4−ヒドロキ
シフェニルホスホン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフ
ェニル亜ホスホン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェ
ニルホスフィン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル亜ホスフィン酸、メシチルリン酸、メシチル亜リン酸
、メシチルホスホン酸、メシチル亜ホスホン酸、メシチ
ルホスフィン酸、メシチル亜ホスフィン酸、2,4−ジ
ヒドロキシ−6−メチルフェニルリン酸、2,4−ジヒ
ドロキシ−6−メチルフェニル亜リン酸、2,4−ジヒ
ドロキシ−6−メチルフェニルホスホン酸、2,4−ジ
ヒドロキシ−6−メチルフェニル亜ホスホン酸、2,4
−ジヒドロキシ−6−メチルフェニルホスフィン酸、2
,4−ジヒドロキシ−6−メチルフェニル亜ホスフィン
酸、ベンジルリン酸、ベンジル亜リン酸、ベンジルホス
ホン酸、ベンジル亜ホスホン酸、ベンジルホスフィン酸
、ベンジル亜ホスフィン酸、4−メトキシベンジルリン
酸、4−メトキシベンジル亜リン酸、4−メトキシベン
ジルホスホン酸、4−メトキシベンジル亜ホスホン酸、
4−メトキシベンジルホスフィン酸、4−メトキシベン
ジル亜ホスフィン酸、4−ヒドロキシベンジルリン酸、
4−ヒドロキシベンジル亜リン酸、4−ヒドロキシベン
ジルホスホン酸、4−ヒドロキシベンジル亜ホスホン酸
、4−ヒドロキシベンジルホスフィン酸、4−ヒドロキ
シベンジル亜ホスフィン酸、4−(2−ヒドロキシエチ
ル)フェニルリン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フ
ェニル亜リン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニ
ルホスホン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
亜ホスホン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
ホスフィン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
亜ホスフィン酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェ
ニルエチル亜リン酸、2−フェニルエチルホスホン酸、
2−フェニルエチル亜ホスホン酸、2−フェニルエチル
ホスフィン酸、2−フェニルエチル亜ホスフィン酸、1
−ナフチルリン酸、1−ナフチル亜リン酸、1−ナフチ
ルホスホン酸、1−ナフチル亜ホスホン酸、1−ナフチ
ルホスフィン酸、1−ナフチル亜ホスフィン酸、2−ナ
フチルリン酸、2−ナフチル亜リン酸、2−ナフチルホ
スホン酸、2−ナフチル亜ホスホン酸、2−ナフチルホ
スフィン酸、2−ナフチル亜ホスフィン酸、2−アミノ
−1−ナフチルリン酸、2−アミノ−1−ナフチル亜リ
ン酸、2−アミノ−1−ナフチルホスホン酸、2−アミ
ノ−1−ナフチル亜ホスホン酸、2−アミノ−1−ナフ
チルホスフィン酸、2−アミノ−1−ナフチル亜ホスフ
ィン酸、4−アミノ−1−ナフチルリン酸、4−アミノ
−1−ナフチル亜リン酸、4−アミノ−1−ナフチルホ
スホン酸、4−アミノ−1−ナフチル亜ホスホン酸、4
−アミノ−1−ナフチルホスフィン酸、4−アミノ−1
−ナフチル亜ホスフィン酸、5−アミノ−2−ナフチル
リン酸、5−アミノ−2−ナフチル亜リン酸、5−アミ
ノ−2−ナフチルホスホン酸、5−アミノ−2−ナフチ
ル亜ホスホン酸、5−アミノ−2−ナフチルホスフィン
酸、5−アミノ−2−ナフチル亜ホスフィン酸、4−ア
ミノ−3−ヒドロキシ−1−ナフチルリン酸、4−アミ
ノ−3−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、4−ア
ミノ−5−ヒドロキシ−1−ナフチルリン酸、4−アミ
ノ−5−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、7−ア
ミノ−3−ヒドロキシ−2−ナフチルリン酸、7−アミ
ノ−3−ヒドロキシ−2−ナフチルホスホン酸、5−ジ
メチルアミノ−2−ナフチルリン酸、5−ジメチルアミ
ノ−2−ナフチルホスホン酸、5−ヒドロキシ−1−ナ
フチルリン酸、5−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン
酸、5−メトキシ−2−ナフチルリン酸、5−メトキシ
−2−ナフチルホスホン酸、4−フェノキシフェニルリ
ン酸、4−フェノキシフェニルホスホン酸、4−(4−
メトキシフェノキシ)フェニルリン酸、4−(4−メト
キシフェノキシ)フェニルホスホン酸、4−ジフェニル
アミノリン酸、4−ジフェニルアミノ亜リン酸、4−ジ
フェニルアミノホスホン酸、4−ジフェニルアミノ亜ホ
スホン酸、4−ジフェニルアミノホスフィン酸、4−ジ
フェニルアミノ亜ホスフィン酸、4′−メトキシ−4−
ジフェニルアミノリン酸、4′−メトキシ−4−ジフェ
ニルアミノ亜リン酸、4′−メトキシ−4−ジフェニル
アミノホスホン酸、2−フェノキシエチルリン酸、2−
フェノキシエチル亜リン酸、2−フェノキシエチルホス
ホン酸、2−フェノキシエチル亜ホスホン酸、2−フェ
ノキシエチルホスフィン酸、2−フェノキシエチル亜ホ
スフィン酸、ベンジル(2−ジヒドロキシホスフィニル
オキシ)アセテート、ベンジル(2−ジヒドロキシホス
フィニル)アセテート、4−メトキシベンジル 2−
ジヒドロキシホスフィニルオキシアセテート、4−メト
キシベンジル2−ジヒドロキシホスフィニルアセテート
、3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピオン酸フ
ェニル、3−ジヒドロキシホスフィニルプロピオン酸フ
ェニル、3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピオ
ン酸(3−メトキシフェニル)、4−ジヒドロキシホス
フィニル酪酸(3−メトキシフェニル)、4−ジヒドロ
キシホスフィニルオキシ酪酸(4−ヒドロキシフェニル
)、3−ジヒドロキシホスフィニルプロピオン酸(4−
ヒドロキシフェニル)、2,4,6−トリメチル−1,
3−ベンゼン−ビス−リン酸、2,4,6−トリメチル
−1,3−ベンゼン−ビス−ホスホン酸、2,5−ジヒ
ドロキシ−1,4−ベンゼン−ビス−リン酸、2,5−
ジヒドロキシ−1,4−ベンゼン−ビス−ホスホン酸、
2,5−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼン−ビス−リン
酸、2,5−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼン−ビス−
ホスホン酸、1,5−ナフタレン−ビス−リン酸、1,
5−ナフタレン−ビス−ホスホン酸、2,6−ナフタレ
ン−ビス−リン酸、2,6−ナフタレン−ビス−ホスホ
ン酸、7−アミノ−1,3−ナフタレン−ビス−リン酸
、7−アミノ−1,3−ナフタレン−ビス−ホスホン酸
、3−メトキシ−2,7−ナフタレン−ビス−リン酸、
3−メトキシ−2,7−ナフタレン−ビス−ホスホン酸
などが挙げられる。
【0019】これらのうち特に好ましいのは、4−メト
キシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安
息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、フェニルリン酸、フェノキシメチルフォ
スフォン酸である。
キシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメトキ
シ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ安
息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロキ
シ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタレ
ンスルホン酸、フェニルリン酸、フェノキシメチルフォ
スフォン酸である。
【0020】本発明に使用される、酸基を有する芳香族
化合物と芳香族ジアゾ化合物とを構成単位として含む、
活性カルボニル化合物との縮合型樹脂(以下ジアゾ共縮
合樹脂という)は、公知の方法、例えば、フォトグラフ
ィック・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Ph
oto, Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631 号、同
第2,679,498 号、特公昭49−48001号
公報に記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中
でジアゾニウム塩、酸基を有する芳香族化合物およびア
ルデヒド類、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、 is
o−ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケト
ン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、アセトフ
ェノンのような活性カルボニル化合物又はそれらのアセ
タールとを重縮合させることによって得られる。
化合物と芳香族ジアゾ化合物とを構成単位として含む、
活性カルボニル化合物との縮合型樹脂(以下ジアゾ共縮
合樹脂という)は、公知の方法、例えば、フォトグラフ
ィック・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Ph
oto, Sci., Eng.)第17巻、第33頁
(1973)、米国特許第2,063,631 号、同
第2,679,498 号、特公昭49−48001号
公報に記載の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中
でジアゾニウム塩、酸基を有する芳香族化合物およびア
ルデヒド類、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、 is
o−ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケト
ン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、アセトフ
ェノンのような活性カルボニル化合物又はそれらのアセ
タールとを重縮合させることによって得られる。
【0021】また、これら分子中に酸基を有する芳香族
化合物、芳香族ジアゾ化合物および活性カルボニル化合
物又はそれらのアセタールは相互に組合せ自由であり、
さらに各々2種以上を混ぜて共縮合することも可能であ
る。またさらに酸基を有しない共縮合可能な芳香族化合
物を添加して共縮合させることもできる。ここで、共縮
合可能な芳香族化合物としては、例えば、特公昭49−
48001号公報に記載の芳香族化合物が挙げられる。
化合物、芳香族ジアゾ化合物および活性カルボニル化合
物又はそれらのアセタールは相互に組合せ自由であり、
さらに各々2種以上を混ぜて共縮合することも可能であ
る。またさらに酸基を有しない共縮合可能な芳香族化合
物を添加して共縮合させることもできる。ここで、共縮
合可能な芳香族化合物としては、例えば、特公昭49−
48001号公報に記載の芳香族化合物が挙げられる。
【0022】また、前記活性カルボニル化合物又はそれ
らのアセタールの代わりに、特公昭49−45322号
及び同49−45323号公報に記載されているような
メチロール誘導体、又は特開昭58−187925号公
報に記載されているようなオレフィン性不飽和化合物を
用いることもできる。なお、これらの共縮合成分の仕込
みモル比を変えることによって、生成するジアゾ樹脂の
酸基含有量を調整することができる。
らのアセタールの代わりに、特公昭49−45322号
及び同49−45323号公報に記載されているような
メチロール誘導体、又は特開昭58−187925号公
報に記載されているようなオレフィン性不飽和化合物を
用いることもできる。なお、これらの共縮合成分の仕込
みモル比を変えることによって、生成するジアゾ樹脂の
酸基含有量を調整することができる。
【0023】その際、酸基を有する芳香族化合物と芳香
族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜0.1
:1;好ましくは1:0.2〜0.2:1、より好まし
くは1:0.5〜0.2:1である。またこの場合酸基
を有する芳香族化合物および芳香族ジアゾ化合物の合計
と活性カルボニル化合物とをモル比で通常1:0.6〜
1.5、好ましくは1:0.7〜1.2で仕込み、低温
で短時間、例えば1〜20時間程度反応させることによ
りジアゾ共縮合樹脂が得られる。
族ジアゾ化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜0.1
:1;好ましくは1:0.2〜0.2:1、より好まし
くは1:0.5〜0.2:1である。またこの場合酸基
を有する芳香族化合物および芳香族ジアゾ化合物の合計
と活性カルボニル化合物とをモル比で通常1:0.6〜
1.5、好ましくは1:0.7〜1.2で仕込み、低温
で短時間、例えば1〜20時間程度反応させることによ
りジアゾ共縮合樹脂が得られる。
【0024】(II)、以下の一般式(B)で示される
繰り返し単位を少なくとも1個有しているジアゾ樹脂
繰り返し単位を少なくとも1個有しているジアゾ樹脂
【
0025】
0025】
【化2】
【0026】式中、R4 はカルボキシル基、フェノー
ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリン
の酸素酸基のうち1個の基であるかもしくはこれらを少
なくとも1個有する炭素数15以下の基である。R1
、R2 、R3 、X− およびYは前記一般式(A)
で示された基と同じである。本発明に用いるジアゾ樹脂
(II)の合成法としては、例えば、4−ジアゾジフェ
ニルアミン骨格、4−ジアゾジフェニルエーテル骨格又
は4−ジアゾジフェニルスルフィド骨格を有するジアゾ
単量体とカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホ
ン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち1
個を有するアルデヒド又はそのアセタールとをモル比で
各々好ましくは1:10〜1:0.05、さらに好まし
くは1:2〜1:0.2の割合において酸性媒体中で縮
合させる方法が挙げられる。縮合反応を行う際には、生
成するジアゾ樹脂の酸価ならびに分子量を調整するため
に、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、 iso−ブチルアル
デヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、メチルエチルケ
トン又はアセトフェノンのような活性カルボニル化合物
又はそれらのアセタールを縮合剤として併用することが
できる。上記の活性カルボニル化合物としては、ホルム
アルデヒドが最も好ましく、その仕込み比はジアゾ単量
体に対してモル比で好ましくは、0〜5、さらに好まし
くは、0.1〜1である。なお、カルボキシル基、フェ
ノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基および
リンの酸素酸基のうち1つを有するアルデヒドと有して
いない活性カルボニル化合物を併用する場合、まず、ジ
アゾ単量体と上記アルカリ可溶性基を有するアルデヒド
とを酸性媒体中で縮合させ、ついで、より反応性の高い
、例えば、ホルムアルデヒドのような活性カルボニル化
合物又はそれらのアセタールを用いて後縮合を行なうと
、より高分子量のジアゾ樹脂を得ることができる。
ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリン
の酸素酸基のうち1個の基であるかもしくはこれらを少
なくとも1個有する炭素数15以下の基である。R1
、R2 、R3 、X− およびYは前記一般式(A)
で示された基と同じである。本発明に用いるジアゾ樹脂
(II)の合成法としては、例えば、4−ジアゾジフェ
ニルアミン骨格、4−ジアゾジフェニルエーテル骨格又
は4−ジアゾジフェニルスルフィド骨格を有するジアゾ
単量体とカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホ
ン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち1
個を有するアルデヒド又はそのアセタールとをモル比で
各々好ましくは1:10〜1:0.05、さらに好まし
くは1:2〜1:0.2の割合において酸性媒体中で縮
合させる方法が挙げられる。縮合反応を行う際には、生
成するジアゾ樹脂の酸価ならびに分子量を調整するため
に、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、 iso−ブチルアル
デヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、メチルエチルケ
トン又はアセトフェノンのような活性カルボニル化合物
又はそれらのアセタールを縮合剤として併用することが
できる。上記の活性カルボニル化合物としては、ホルム
アルデヒドが最も好ましく、その仕込み比はジアゾ単量
体に対してモル比で好ましくは、0〜5、さらに好まし
くは、0.1〜1である。なお、カルボキシル基、フェ
ノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基および
リンの酸素酸基のうち1つを有するアルデヒドと有して
いない活性カルボニル化合物を併用する場合、まず、ジ
アゾ単量体と上記アルカリ可溶性基を有するアルデヒド
とを酸性媒体中で縮合させ、ついで、より反応性の高い
、例えば、ホルムアルデヒドのような活性カルボニル化
合物又はそれらのアセタールを用いて後縮合を行なうと
、より高分子量のジアゾ樹脂を得ることができる。
【0027】また、上記の活性カルボニル化合物又はそ
れらのアセタールの代わりに、特公昭49−45322
号及び同49−45323号明細書に記載されているよ
うなメチロール誘導体、又は特開昭58−187925
号明細書に記載されているようなオレフィン性不飽和化
合物を用いることもできる。上記、カルボキシル基、フ
ェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およ
びリンの酸素酸基のうち1個を有するアルデヒド又はそ
のアセタールとしては、好ましくは下記一般式(C)で
示される構造を有するアルデヒド又はそれらのアセター
ルが含まれる。
れらのアセタールの代わりに、特公昭49−45322
号及び同49−45323号明細書に記載されているよ
うなメチロール誘導体、又は特開昭58−187925
号明細書に記載されているようなオレフィン性不飽和化
合物を用いることもできる。上記、カルボキシル基、フ
ェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およ
びリンの酸素酸基のうち1個を有するアルデヒド又はそ
のアセタールとしては、好ましくは下記一般式(C)で
示される構造を有するアルデヒド又はそれらのアセター
ルが含まれる。
【0028】
Z−R5 −CHO
(C)式中、R5 は単結合又は置換基を有してい
てもよい2価炭素数0〜14の有機基(例えば、脂肪族
炭化水素基、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基など)を
示す。R5 に置換しうる基としては、例えばアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシ基、置換あるいは無置換アミノ基
、カルボキシエステル基又はカルボキシル基などが含ま
れる。Zはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スル
ホン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち
1個の基を示す。
(C)式中、R5 は単結合又は置換基を有してい
てもよい2価炭素数0〜14の有機基(例えば、脂肪族
炭化水素基、芳香族炭化水素基又はヘテロ環基など)を
示す。R5 に置換しうる基としては、例えばアルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロ
ゲン原子、ヒドロキシ基、置換あるいは無置換アミノ基
、カルボキシエステル基又はカルボキシル基などが含ま
れる。Zはカルボキシル基、フェノール性水酸基、スル
ホン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち
1個の基を示す。
【0029】カルボキシル基を有するアルデヒド又はそ
のアセタールの具体例としては、例えばグリオキシル酸
、マロンアルデヒド酸、スクシンアルデヒド酸、2−メ
チルスクシンアルデヒド酸、2−メトキシスクシンアル
デヒド酸、2−ヒドロキシスクシンアルデヒド酸、2−
クロロスクシンアルデヒド酸、2−アミノスクシンアル
デヒド酸、グルタルアルデヒド酸、2−メチルグルタル
アルデヒド酸、2−メトキシグルタルアルデヒド酸、2
−ヒドロキシグルタルアルデヒド酸、2−クロログルタ
ルアルデヒド酸、アジピンアルデヒド酸、ピメリンアル
デヒド酸、スベリンアルデヒド酸、アゼラインアルデヒ
ド酸、セバシンアルデヒド酸、2−ホルミルメチルコハ
ク酸、2−ホルミルエチルコハク酸、ホルミルメチルマ
ロン酸、ホルミルエチルマロン酸、N−(2−ホルミル
−2−ヒドロキシエチル)グリシン、N−(2−ホルミ
ル−2−ヒドロキシビニル)グリシン、4,6−ジオキ
ソ−ヘキサン酸、6−オキソ−2,4−ヘキサジエン酸
、3−ホルミルシクロヘキサンカルボン酸、4−ホルミ
ルフェニル酢酸、マレアルデヒド酸、フマルアルデヒド
酸、ジブロモマレアルデヒド酸、グルクロン酸、ガラク
トロン酸、マンヌロン酸、イドロン酸、グルロン酸、フ
タルアルデヒド酸、3,4−ジメトキシフタルアルデヒ
ド酸、イソフタルアルデヒド酸、テレフタルアルデヒド
酸、3−ホルミル−4−メトキシ安息香酸、4−ホルミ
ルフタル酸、5−ホルミルイソフタル酸、4−ホルミル
メチルフタル酸、4−ホルミルエチルフタル酸、4−ホ
ルミルエトキシフタル酸、5−ホルミルエトキシイソフ
タル酸、4−カルボキシメチルフタル酸、3−ホルミル
−1−ナフトエ酸、6−ホルミル−1−ナフトエ酸、又
は、それらのアセタール等が挙げられる。
のアセタールの具体例としては、例えばグリオキシル酸
、マロンアルデヒド酸、スクシンアルデヒド酸、2−メ
チルスクシンアルデヒド酸、2−メトキシスクシンアル
デヒド酸、2−ヒドロキシスクシンアルデヒド酸、2−
クロロスクシンアルデヒド酸、2−アミノスクシンアル
デヒド酸、グルタルアルデヒド酸、2−メチルグルタル
アルデヒド酸、2−メトキシグルタルアルデヒド酸、2
−ヒドロキシグルタルアルデヒド酸、2−クロログルタ
ルアルデヒド酸、アジピンアルデヒド酸、ピメリンアル
デヒド酸、スベリンアルデヒド酸、アゼラインアルデヒ
ド酸、セバシンアルデヒド酸、2−ホルミルメチルコハ
ク酸、2−ホルミルエチルコハク酸、ホルミルメチルマ
ロン酸、ホルミルエチルマロン酸、N−(2−ホルミル
−2−ヒドロキシエチル)グリシン、N−(2−ホルミ
ル−2−ヒドロキシビニル)グリシン、4,6−ジオキ
ソ−ヘキサン酸、6−オキソ−2,4−ヘキサジエン酸
、3−ホルミルシクロヘキサンカルボン酸、4−ホルミ
ルフェニル酢酸、マレアルデヒド酸、フマルアルデヒド
酸、ジブロモマレアルデヒド酸、グルクロン酸、ガラク
トロン酸、マンヌロン酸、イドロン酸、グルロン酸、フ
タルアルデヒド酸、3,4−ジメトキシフタルアルデヒ
ド酸、イソフタルアルデヒド酸、テレフタルアルデヒド
酸、3−ホルミル−4−メトキシ安息香酸、4−ホルミ
ルフタル酸、5−ホルミルイソフタル酸、4−ホルミル
メチルフタル酸、4−ホルミルエチルフタル酸、4−ホ
ルミルエトキシフタル酸、5−ホルミルエトキシイソフ
タル酸、4−カルボキシメチルフタル酸、3−ホルミル
−1−ナフトエ酸、6−ホルミル−1−ナフトエ酸、又
は、それらのアセタール等が挙げられる。
【0030】フェノール性水酸基、スルホン酸基又はス
ルフィン酸基を有するアルデヒド又は、そのアセタール
の具体例としては、例えばp−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド、2−オキソ−1−エタンスルホン酸、3−オキソ
−1−プロパンスルホン酸、4−オキソ−1−ブタンス
ルホン酸、5−オキソ−1−ペンタンスルホン酸、6−
オキソ−1−ヘキサンスルホン酸、2−ホルミルベンゼ
ンスルホン酸、3−ホルミルベンゼンスルホン酸、4−
ホルミルベンゼンスルホン酸、4−ホルミルベンゼンス
ルフィン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロ
パンスルホン酸、2,3−ジメチル−4−オキソ−1−
ブタンスルホン酸、2−メチル−6−オキソ−1−ヘキ
サンスルホン酸、2−ホルミル−4−メトキシベンゼン
スルホン酸、4−アミノ−3−ホルミルベンゼンスルホ
ン酸、4−(2−オキソエチル)ベンゼンスルホン酸、
3−(3−オキソプロピル)ベンゼンスルホン酸、4−
ホルミル−1,3−ベンゼンスルホン酸、2−ホルミル
−1,3−ベンゼンスルホン酸、2−ホルミル−1−ナ
フタレンスルホン酸、4−ホルミル−1−ナフタレンス
ルホン酸、4−ホルミル−1−ナフタレンスルフィン酸
、5−ホルミル−2−ナフタレンスルホン酸、7−ホル
ミル−1,4−ナフタレンジスルホン酸、5−アミノ−
7−ホルミル−2−ナフタレンスルホン酸、5−ホルミ
ル−2−フランスルホン酸、3−ホルミル−2−フラン
スルホン酸、5−ホルミル−3−フランスルホン酸、1
−オキソ−1−メタンスルホン酸、4−ホルミルフェノ
キシ−3−プロパンスルホン酸、4−ホルミルフェノキ
シ−4−ブタンスルホン酸、3−ホルミルフェノキシ−
3−ブタンスルホン酸、p−ホルミル−N−(2−スル
ホニルエチル)ベンズアミド、m−ホルミル−N−(3
−スルホニルプロピル)ベンズアミド、p−ホルミル安
息香酸−2−スルホニルエチル、p−ホルミル安息香酸
−3−スルホニルプロピル、m−ホルミル安息香酸−4
−スルホニルブチル、p−スルホニル安息香酸−2−ホ
ルミルエチル、p−スルホニル安息香酸−3−ホルミル
プロピル、3−ホルミルプロピオン酸−m−スルホニル
フェニル、N−(2−スルホニルエチル)−3−ホルミ
ルプロピオンアミド、3−ホルミルプロピオン酸−2−
スルホニルエチル、N−(3−スルホニルフェニル)グ
リオキシル酸アミド、N−(2−スルホニルエチル)グ
リオキシル酸アミド、グリオキシル酸−2−スルホニル
エチル、又はそれらのアセタールがあげられる。
ルフィン酸基を有するアルデヒド又は、そのアセタール
の具体例としては、例えばp−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド、2−オキソ−1−エタンスルホン酸、3−オキソ
−1−プロパンスルホン酸、4−オキソ−1−ブタンス
ルホン酸、5−オキソ−1−ペンタンスルホン酸、6−
オキソ−1−ヘキサンスルホン酸、2−ホルミルベンゼ
ンスルホン酸、3−ホルミルベンゼンスルホン酸、4−
ホルミルベンゼンスルホン酸、4−ホルミルベンゼンス
ルフィン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロ
パンスルホン酸、2,3−ジメチル−4−オキソ−1−
ブタンスルホン酸、2−メチル−6−オキソ−1−ヘキ
サンスルホン酸、2−ホルミル−4−メトキシベンゼン
スルホン酸、4−アミノ−3−ホルミルベンゼンスルホ
ン酸、4−(2−オキソエチル)ベンゼンスルホン酸、
3−(3−オキソプロピル)ベンゼンスルホン酸、4−
ホルミル−1,3−ベンゼンスルホン酸、2−ホルミル
−1,3−ベンゼンスルホン酸、2−ホルミル−1−ナ
フタレンスルホン酸、4−ホルミル−1−ナフタレンス
ルホン酸、4−ホルミル−1−ナフタレンスルフィン酸
、5−ホルミル−2−ナフタレンスルホン酸、7−ホル
ミル−1,4−ナフタレンジスルホン酸、5−アミノ−
7−ホルミル−2−ナフタレンスルホン酸、5−ホルミ
ル−2−フランスルホン酸、3−ホルミル−2−フラン
スルホン酸、5−ホルミル−3−フランスルホン酸、1
−オキソ−1−メタンスルホン酸、4−ホルミルフェノ
キシ−3−プロパンスルホン酸、4−ホルミルフェノキ
シ−4−ブタンスルホン酸、3−ホルミルフェノキシ−
3−ブタンスルホン酸、p−ホルミル−N−(2−スル
ホニルエチル)ベンズアミド、m−ホルミル−N−(3
−スルホニルプロピル)ベンズアミド、p−ホルミル安
息香酸−2−スルホニルエチル、p−ホルミル安息香酸
−3−スルホニルプロピル、m−ホルミル安息香酸−4
−スルホニルブチル、p−スルホニル安息香酸−2−ホ
ルミルエチル、p−スルホニル安息香酸−3−ホルミル
プロピル、3−ホルミルプロピオン酸−m−スルホニル
フェニル、N−(2−スルホニルエチル)−3−ホルミ
ルプロピオンアミド、3−ホルミルプロピオン酸−2−
スルホニルエチル、N−(3−スルホニルフェニル)グ
リオキシル酸アミド、N−(2−スルホニルエチル)グ
リオキシル酸アミド、グリオキシル酸−2−スルホニル
エチル、又はそれらのアセタールがあげられる。
【0031】もちろんこれらは、遊離のスルホン酸又は
スルフィン酸であっても良いし、ナトリウム、カリウム
、リチウム、セシウム、カルシウム、バリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、亜鉛などの金属塩又は、無置換
もしくは置換アンモニウム塩であってもよい。リンの酸
素酸基を有するアルデヒド又はそのアセタールの具体例
としては、例えば、2−オキソ−1−エチルリン酸、2
−オキソ−1−エチル亜リン酸、2−オキソ−1−エチ
ルホスホン酸、2−オキソ−1−エチル亜ホスホン酸、
2−オキソ−1−エチルホスフィン酸、2−オキソ−1
−エチル亜ホスフィン酸、3−オキソ−1−プロピルリ
ン酸、3−オキソ−1−プロピル亜リン酸、3−オキソ
−1−プロピルホスホン酸、3−オキソ−1−プロピル
亜ホスホン酸、3−オキソ−1−プロピルホスフィン酸
、3−オキソ−1−プロピル亜ホスフィン酸、4−オキ
ソ−1−ブチルリン酸、4−オキソ−1−ブチル亜リン
酸、4−オキソ−1−ブチルホスホン酸、4−オキソ−
1−ブチル亜ホスホン酸、4−オキソ−1−ブチルホス
フィン酸、4−オキソ−1−ブチル亜ホスフィン酸、5
−オキソ−1−ペンチルリン酸、5−オキソ−1−ペン
チル亜リン酸、5−オキソ−1−ペンチルホスホン酸、
5−オキソ−1−ペンチル亜ホスホン酸、5−オキソ−
1−ペンチルホスフィン酸、5−オキソ−1−ペンチル
ホスフィン酸、5−オキソ−1−ペンチル亜ホスフィン
酸、6−オキソ−1−ヘキシルリン酸、6−オキソ−1
−ヘキシル亜リン酸、6−オキソ−1−ヘキシルホスホ
ン酸、6−オキソ−1−ヘキシル亜ホスホン酸、6−オ
キソ−1−ヘキシルホスフィン酸、6−オキソ−1−ヘ
キシル亜ホスフィン酸、2−ホルミルフェニルリン酸、
2−ホルミルフェニル亜リン酸、2−ホルミルフェニル
ホスホン酸、2−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、2−
ホルミルフェニルホスフィン酸、2−ホルミルフェニル
亜ホスフィン酸、3−ホルミルフェニルリン酸、3−ホ
ルミルフェニル亜リン酸、3−ホルミルフェニルホスホ
ン酸、3−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、3−ホルミ
ルフェニルホスフィン酸、3−ホルミルフェニル亜ホス
フィン酸、4−ホルミルフェニルリン酸、4−ホルミル
フェニル亜リン酸、4−ホルミルフェニルホスホン酸、
4−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、4−ホルミルフェ
ニルホスフィン酸、4−ホルミルフェニル亜ホスフィン
酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピルリン
酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピル亜リ
ン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピルホ
スホン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピ
ル亜ホスホン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−
プロピルホスフィン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ
−1−プロピル亜ホスフィン酸、2,3−ジメチル−4
−オキソ−1−ブチルリン酸、2,3−ジメチル−4−
オキソ−1−ブチルホスホン酸、2−メチル−6−オキ
ソ−1−ヘキシルリン酸、2−メチル−6−オキソ−1
−ヘキシルホスホン酸、2−ホルミル−4−メトキシフ
ェニルリン酸、2−ホルミル−4−メトキシフェニルホ
スホン酸、4−アミノ−3−ホルミルフェニルリン酸、
4−アミノ−3−ホルミルフェニルホスホン酸、4−(
2−オキソエチル)フェニルリン酸、4−(2−オキソ
エチル)フェニルホスホン酸、3−(3−オキソプロピ
ル)フェニルリン酸、3−(3−オキソプロピル)フェ
ニルホスホン酸、2,4−ビス−(ジヒドロキシホスフ
ィニルオキシ)ベンズアルデヒド、2,4−ビス−(ジ
ヒドロキシホスフィニル)ベンズアルデヒド、2,6−
ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキシ)ベンズアル
デヒド、2,6−ビス−(ジヒドロキシホスフィニル)
ベンズアルデヒド、2−ホルミル−1−ナフチルリン酸
、2−ホルミル−1−ナフチルホスホン酸、4−ホルミ
ル−1−ナフチルリン酸、4−ホルミル−1−ナフチル
ホスホン酸、5−ホルミル−2−ナフチルリン酸、5−
ホルミル−2−ナフチルホスホン酸、1,4−ビス−(
ジヒドロキシホスフィニルオキシ)−7−ナフチルアル
デヒド、1,4−(ビス−(ジヒドロキシホスフィニル
)−7−ナフチルアルデヒド、5−アミノ−7−ホルミ
ル−2−ナフチルリン酸、5−アミノ−7−ホルミル−
2−ナフチルホスホン酸、5−ホルミル−2−フリルリ
ン酸、5−ホルミル−2−フリルホスホン酸、3−ホル
ミル−2−フリルリン酸、3−ホルミル−2−フリルホ
スホン酸、5−ホルミル−3−フリルリン酸、5−ホル
ミル−3−フリルホスホン酸、1−オキソ−1−メチル
リン酸、1−オキソ−1−メチルホスホン酸、3−(4
−ホルミルフェノキシ)−1−プロピルリン酸、3−(
4−ホルミルフェノキシ)−1−プロピルホスホン酸、
4−(4−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルリン酸、
4−(4−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルホスホン
酸、3−(3−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルリン
酸、3−(3−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルホス
ホン酸、4−ホルミル−2−(2−ジヒドロキシホスフ
ィニルオキシエチル)安息香酸、4−ホルミル−3−(
2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)安息香酸、4−
ホルミル−3−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシ
プロピル)安息香酸、4−ホルミル−2−(3−ジヒド
ロキシホスフィニル)安息香酸、4−ホルミル−4−(
4−ジヒドロキシホスフィニルオキシブチル)安息香酸
、又はそれらのアセタールなどが挙げられる。
スルフィン酸であっても良いし、ナトリウム、カリウム
、リチウム、セシウム、カルシウム、バリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、亜鉛などの金属塩又は、無置換
もしくは置換アンモニウム塩であってもよい。リンの酸
素酸基を有するアルデヒド又はそのアセタールの具体例
としては、例えば、2−オキソ−1−エチルリン酸、2
−オキソ−1−エチル亜リン酸、2−オキソ−1−エチ
ルホスホン酸、2−オキソ−1−エチル亜ホスホン酸、
2−オキソ−1−エチルホスフィン酸、2−オキソ−1
−エチル亜ホスフィン酸、3−オキソ−1−プロピルリ
ン酸、3−オキソ−1−プロピル亜リン酸、3−オキソ
−1−プロピルホスホン酸、3−オキソ−1−プロピル
亜ホスホン酸、3−オキソ−1−プロピルホスフィン酸
、3−オキソ−1−プロピル亜ホスフィン酸、4−オキ
ソ−1−ブチルリン酸、4−オキソ−1−ブチル亜リン
酸、4−オキソ−1−ブチルホスホン酸、4−オキソ−
1−ブチル亜ホスホン酸、4−オキソ−1−ブチルホス
フィン酸、4−オキソ−1−ブチル亜ホスフィン酸、5
−オキソ−1−ペンチルリン酸、5−オキソ−1−ペン
チル亜リン酸、5−オキソ−1−ペンチルホスホン酸、
5−オキソ−1−ペンチル亜ホスホン酸、5−オキソ−
1−ペンチルホスフィン酸、5−オキソ−1−ペンチル
ホスフィン酸、5−オキソ−1−ペンチル亜ホスフィン
酸、6−オキソ−1−ヘキシルリン酸、6−オキソ−1
−ヘキシル亜リン酸、6−オキソ−1−ヘキシルホスホ
ン酸、6−オキソ−1−ヘキシル亜ホスホン酸、6−オ
キソ−1−ヘキシルホスフィン酸、6−オキソ−1−ヘ
キシル亜ホスフィン酸、2−ホルミルフェニルリン酸、
2−ホルミルフェニル亜リン酸、2−ホルミルフェニル
ホスホン酸、2−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、2−
ホルミルフェニルホスフィン酸、2−ホルミルフェニル
亜ホスフィン酸、3−ホルミルフェニルリン酸、3−ホ
ルミルフェニル亜リン酸、3−ホルミルフェニルホスホ
ン酸、3−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、3−ホルミ
ルフェニルホスフィン酸、3−ホルミルフェニル亜ホス
フィン酸、4−ホルミルフェニルリン酸、4−ホルミル
フェニル亜リン酸、4−ホルミルフェニルホスホン酸、
4−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、4−ホルミルフェ
ニルホスフィン酸、4−ホルミルフェニル亜ホスフィン
酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピルリン
酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピル亜リ
ン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピルホ
スホン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロピ
ル亜ホスホン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−
プロピルホスフィン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ
−1−プロピル亜ホスフィン酸、2,3−ジメチル−4
−オキソ−1−ブチルリン酸、2,3−ジメチル−4−
オキソ−1−ブチルホスホン酸、2−メチル−6−オキ
ソ−1−ヘキシルリン酸、2−メチル−6−オキソ−1
−ヘキシルホスホン酸、2−ホルミル−4−メトキシフ
ェニルリン酸、2−ホルミル−4−メトキシフェニルホ
スホン酸、4−アミノ−3−ホルミルフェニルリン酸、
4−アミノ−3−ホルミルフェニルホスホン酸、4−(
2−オキソエチル)フェニルリン酸、4−(2−オキソ
エチル)フェニルホスホン酸、3−(3−オキソプロピ
ル)フェニルリン酸、3−(3−オキソプロピル)フェ
ニルホスホン酸、2,4−ビス−(ジヒドロキシホスフ
ィニルオキシ)ベンズアルデヒド、2,4−ビス−(ジ
ヒドロキシホスフィニル)ベンズアルデヒド、2,6−
ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキシ)ベンズアル
デヒド、2,6−ビス−(ジヒドロキシホスフィニル)
ベンズアルデヒド、2−ホルミル−1−ナフチルリン酸
、2−ホルミル−1−ナフチルホスホン酸、4−ホルミ
ル−1−ナフチルリン酸、4−ホルミル−1−ナフチル
ホスホン酸、5−ホルミル−2−ナフチルリン酸、5−
ホルミル−2−ナフチルホスホン酸、1,4−ビス−(
ジヒドロキシホスフィニルオキシ)−7−ナフチルアル
デヒド、1,4−(ビス−(ジヒドロキシホスフィニル
)−7−ナフチルアルデヒド、5−アミノ−7−ホルミ
ル−2−ナフチルリン酸、5−アミノ−7−ホルミル−
2−ナフチルホスホン酸、5−ホルミル−2−フリルリ
ン酸、5−ホルミル−2−フリルホスホン酸、3−ホル
ミル−2−フリルリン酸、3−ホルミル−2−フリルホ
スホン酸、5−ホルミル−3−フリルリン酸、5−ホル
ミル−3−フリルホスホン酸、1−オキソ−1−メチル
リン酸、1−オキソ−1−メチルホスホン酸、3−(4
−ホルミルフェノキシ)−1−プロピルリン酸、3−(
4−ホルミルフェノキシ)−1−プロピルホスホン酸、
4−(4−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルリン酸、
4−(4−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルホスホン
酸、3−(3−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルリン
酸、3−(3−ホルミルフェノキシ)−1−ブチルホス
ホン酸、4−ホルミル−2−(2−ジヒドロキシホスフ
ィニルオキシエチル)安息香酸、4−ホルミル−3−(
2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)安息香酸、4−
ホルミル−3−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシ
プロピル)安息香酸、4−ホルミル−2−(3−ジヒド
ロキシホスフィニル)安息香酸、4−ホルミル−4−(
4−ジヒドロキシホスフィニルオキシブチル)安息香酸
、又はそれらのアセタールなどが挙げられる。
【0032】(III) カルボキシル基、フェノー
ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリン
の酸素酸基のうち少なくとも一個を一般式(D)、(E
)又は(F)で示されるような形で有する芳香族ジアゾ
ニウム化合物と、アルデヒド又はケトンもしくはそれら
の活性カルボニル化合物の等価体との縮合反応により得
られるジアゾ樹脂
ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリン
の酸素酸基のうち少なくとも一個を一般式(D)、(E
)又は(F)で示されるような形で有する芳香族ジアゾ
ニウム化合物と、アルデヒド又はケトンもしくはそれら
の活性カルボニル化合物の等価体との縮合反応により得
られるジアゾ樹脂
【0033】
【化3】
【0034】式中、R6 及びR7 は少なくとも一方
がカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基
、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち1個の基
であり酸基でない場合は水素原子である。R1 、R2
、R3 、X− およびYは前記一般式(A)と同じ
である。 一般式(D)、(E)又は(F)で示される化合物とし
ては具体的には、例えば、4−ジアゾジフェニルアミン
−4′−カルボン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2
−カルボン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−3−カル
ボン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2′−カルボン
酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−2
′−カルボン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン−2−カルボン酸、4′−メトキシ−4−ジア
ゾジフェニルアミン−3−カルボン酸、4′−ヒドロキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾジフェニ
ルアミン−4′−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルア
ミン−2−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−
3−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2′−
スルホン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニルア
ミン−2′−スルホン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾ
ジフェニルアミン−2−スルホン酸、4′−メトキシ−
4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルホン酸、4′−
エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−2′−スルホ
ン酸、4′−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−
2−スルホン酸、4′−エトキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン−3−スルホン酸、4′−メチル−4−ジアゾ
ジフェニルアミン−2′−スルホン酸、4′−メチル−
4−ジアゾジフェニルアミン−2−スルホン酸、4′−
メチル−4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルホン酸
、4′−エチル−4−ジアゾジフェニルアミン−2′−
スルホン酸、4′−エチル−4−ジアゾジフェニルアミ
ン−2−スルホン酸、4′−エチル−4−ジアゾジフェ
ニルアミン−3−スルホン酸、4−ジアゾ−4′−(2
−スルホニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−スルホニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ
−4′−スルホニルメトキシジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−4′−(2−スルホニルエトキシ)ジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−4′−(3−スルホニルプロポキシ
)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(3−スルホ
ニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5
−ジスルホニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2,5−ビス−(2−スルホニルエチル)ジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(3−スルホニルプ
ロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−(3−ス
ルホニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3
−スルホニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3
−(2−スルホニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2,5−ジスルホニルメトキシジフェニルアミン
、4−ジアゾ−3−スルホニルメトキシジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−2−(3−スルホニルプロポキシ)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(2−ス
ルホニルエトキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2
,5−ビス−(3−スルホニルプロポキシ)ジフェニル
アミン、4−ジアゾジフェニルエーテル−4′−スルホ
ン酸、4−ジアゾジフェニルスルフィド−4′−スルホ
ン酸、4−ジアゾジフェニルエーテル−2−スルホン酸
、4−ジアゾジフェニルエーテル−3−スルホン酸、4
−ジアゾジフェニルスルフィド−2−スルホン酸、4−
ジアゾジフェニルスルフィド−3−スルホン酸、4−ジ
アゾ−4′−スルホニルメチルジフェニルエーテル、4
−ジアゾ−4′−(2−スルホニルエチル)ジフェニル
エーテル、4−ジアゾ−4′−スルホニルメチルジフェ
ニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−スルホニル
エチル)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−ス
ルホニルメトキシジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4
′−(2−スルホニルエトキシ)ジフェニルスルフィド
、4−ジアゾ−2−(2−スルホニルエチル)ジフェニ
ルエーテル、4−ジアゾ−3−スルホニルメチルジフェ
ニルエーテル、4−ジアゾ−2−(2−スルホニルエチ
ル)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−3−スルホニ
ルメチルジフェニルスルフィド、4−ジアゾジフェニル
アミン−4′−スルフィン酸、4−ジアゾジフェニルア
ミン−2−スルフィン酸、4−ジアゾジフェニルアミン
−3−スルフィン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2
′−スルフィン酸、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホ
スフィニルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン
、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルオキシジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフ
ィニルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキ
シホスフィニルオキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2′−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフ
ィニル−4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ
−2′−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−メト
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシ
ホスフィニル−4′−メトキシジフェニルアミン、4−
ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−
メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロ
キシホスフィニル−4′−エトキシジフェニルアミン、
4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4
′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジ
ヒドロキシホスフィニル−4′−エトキシジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニルオ
キシ−4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−
3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エトキシジフェ
ニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニ
ルオキシ−4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチ
ルジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシ
ホスフィニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、
4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エ
チルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−ジヒドロキ
シホスフィニル−4′−エチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル
)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルアミン、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−(2−ジヒドロキシホスホニルオキシエトキシ)
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロ
キシホスホニルオキシエトキシ)ジフェニルアミン、4
−ジアゾ−4′−(3−ジヒドロキシホスホニルプロポ
キシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(3−ジ
ヒドロキシホスフィニルオキシプロポキシ)ジフェニル
アミン、4−ジアゾ−4′−(3−ジヒドロキシホスフ
ィニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′
−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピル)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒド
ロキシホスフィニルメチル)ジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2,5−ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキ
シメチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビ
ス−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(2−ジヒドロ
キシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2,5−ビス−(3−ジヒドロキシホスフィ
ニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5
−ビス−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピ
ル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−(3−ジヒド
ロキシホスフィニルプロピル)ジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプ
ロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロ
キシホスフィニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ
−3−ジヒドロキシオキシホスフィニルメチルジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−3−(2−ジヒドロキシホスフ
ィニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−(
2−ジヒドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒドロキシ
ホスフィニルメトキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ
−2,5−ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキシメ
トキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス
−(3−ジヒドロキシホスフィニルプロポキシ)ジフェ
ニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(3−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシプロポキシ)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルジフ
ェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−
ジヒドロキシホスフィニルジフェニルスルフィド、4−
ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフェ
ニルスルフィド、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフ
ィニルジフェニルエーテル、4−シジアゾ−2−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシジフェニルエーテル、4−ジ
アゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルエーテ
ル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシオキシジフェニルエ
ーテル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルジ
フェニルスルフィド、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホ
スフィニルオキシジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−
4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジフェニルエー
テル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルオ
キシメチルジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−(
2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニルエー
テル、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィ
ニルオキシエチル)ジフェニルエーテル、4−ジアゾ−
4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジフェニルスル
フィド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニル
オキシメチルジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′
−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニル
スルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホ
スフィニルオキシエチル)ジフェニルスルフィド、4−
ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメトキシジフ
ェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシメトキシジフェニルエーテル、4−ジア
ゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエトキシ)
ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシエトキシ)ジフェニルスル
フィド、4−ジアゾ−2−(2−ジヒドロキシホスフィ
ニルエチル)ジフェニルエーテル、4−ジアゾ−2−(
2−ジヒドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニ
ルスルフィド、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィ
ニルメチルジフェニルエーテル、4−ジアゾ−3−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシメチルジフェニルスルフィ
ド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノオキシ
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホ
スフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ヒドロ
キシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−
ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−3−ジヒドロキシホスフィノオキシジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィノジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィノオ
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシ
ホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ヒド
ロキシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′
−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノオキシメチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフ
ィノメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒ
ドロキシホスフィノオキシメトキシジフェニルアミン、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノメトキシジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキ
シホスフィノオキシエトキシ)ジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィノエトキシ
)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホ
スフィノオキシメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2−ジヒドロキシホスフィノメトキシジフェニルアミン
、4−ジアゾ−2′−(2−ヒドロキシホスフィノエチ
ル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−(2−ヒド
ロキシホスフィニルエトキシ)ジフェニルアミンなどが
挙げられる。
がカルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基
、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち1個の基
であり酸基でない場合は水素原子である。R1 、R2
、R3 、X− およびYは前記一般式(A)と同じ
である。 一般式(D)、(E)又は(F)で示される化合物とし
ては具体的には、例えば、4−ジアゾジフェニルアミン
−4′−カルボン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2
−カルボン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−3−カル
ボン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2′−カルボン
酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−2
′−カルボン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン−2−カルボン酸、4′−メトキシ−4−ジア
ゾジフェニルアミン−3−カルボン酸、4′−ヒドロキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミン、4−ジアゾジフェニ
ルアミン−4′−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルア
ミン−2−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−
3−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2′−
スルホン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニルア
ミン−2′−スルホン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾ
ジフェニルアミン−2−スルホン酸、4′−メトキシ−
4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルホン酸、4′−
エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−2′−スルホ
ン酸、4′−エトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−
2−スルホン酸、4′−エトキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン−3−スルホン酸、4′−メチル−4−ジアゾ
ジフェニルアミン−2′−スルホン酸、4′−メチル−
4−ジアゾジフェニルアミン−2−スルホン酸、4′−
メチル−4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルホン酸
、4′−エチル−4−ジアゾジフェニルアミン−2′−
スルホン酸、4′−エチル−4−ジアゾジフェニルアミ
ン−2−スルホン酸、4′−エチル−4−ジアゾジフェ
ニルアミン−3−スルホン酸、4−ジアゾ−4′−(2
−スルホニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−スルホニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ
−4′−スルホニルメトキシジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−4′−(2−スルホニルエトキシ)ジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−4′−(3−スルホニルプロポキシ
)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(3−スルホ
ニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5
−ジスルホニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2,5−ビス−(2−スルホニルエチル)ジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(3−スルホニルプ
ロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−(3−ス
ルホニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3
−スルホニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3
−(2−スルホニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2,5−ジスルホニルメトキシジフェニルアミン
、4−ジアゾ−3−スルホニルメトキシジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−2−(3−スルホニルプロポキシ)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(2−ス
ルホニルエトキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2
,5−ビス−(3−スルホニルプロポキシ)ジフェニル
アミン、4−ジアゾジフェニルエーテル−4′−スルホ
ン酸、4−ジアゾジフェニルスルフィド−4′−スルホ
ン酸、4−ジアゾジフェニルエーテル−2−スルホン酸
、4−ジアゾジフェニルエーテル−3−スルホン酸、4
−ジアゾジフェニルスルフィド−2−スルホン酸、4−
ジアゾジフェニルスルフィド−3−スルホン酸、4−ジ
アゾ−4′−スルホニルメチルジフェニルエーテル、4
−ジアゾ−4′−(2−スルホニルエチル)ジフェニル
エーテル、4−ジアゾ−4′−スルホニルメチルジフェ
ニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−スルホニル
エチル)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−ス
ルホニルメトキシジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4
′−(2−スルホニルエトキシ)ジフェニルスルフィド
、4−ジアゾ−2−(2−スルホニルエチル)ジフェニ
ルエーテル、4−ジアゾ−3−スルホニルメチルジフェ
ニルエーテル、4−ジアゾ−2−(2−スルホニルエチ
ル)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−3−スルホニ
ルメチルジフェニルスルフィド、4−ジアゾジフェニル
アミン−4′−スルフィン酸、4−ジアゾジフェニルア
ミン−2−スルフィン酸、4−ジアゾジフェニルアミン
−3−スルフィン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2
′−スルフィン酸、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホ
スフィニルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン
、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルオキシジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフ
ィニルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキ
シホスフィニルオキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2′−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフ
ィニル−4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ
−2′−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−メト
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシ
ホスフィニル−4′−メトキシジフェニルアミン、4−
ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−
メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロ
キシホスフィニル−4′−エトキシジフェニルアミン、
4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4
′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジ
ヒドロキシホスフィニル−4′−エトキシジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニルオ
キシ−4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−
3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エトキシジフェ
ニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニ
ルオキシ−4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチ
ルジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシ
ホスフィニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、
4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エ
チルジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−ジヒドロキ
シホスフィニル−4′−エチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル
)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルアミン、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
4′−(2−ジヒドロキシホスホニルオキシエトキシ)
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロ
キシホスホニルオキシエトキシ)ジフェニルアミン、4
−ジアゾ−4′−(3−ジヒドロキシホスホニルプロポ
キシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(3−ジ
ヒドロキシホスフィニルオキシプロポキシ)ジフェニル
アミン、4−ジアゾ−4′−(3−ジヒドロキシホスフ
ィニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′
−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピル)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒド
ロキシホスフィニルメチル)ジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2,5−ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキ
シメチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビ
ス−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(2−ジヒドロ
キシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2,5−ビス−(3−ジヒドロキシホスフィ
ニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5
−ビス−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピ
ル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−(3−ジヒド
ロキシホスフィニルプロピル)ジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプ
ロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロ
キシホスフィニルメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ
−3−ジヒドロキシオキシホスフィニルメチルジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−3−(2−ジヒドロキシホスフ
ィニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−(
2−ジヒドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒドロキシ
ホスフィニルメトキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ
−2,5−ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキシメ
トキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス
−(3−ジヒドロキシホスフィニルプロポキシ)ジフェ
ニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(3−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシプロポキシ)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルジフ
ェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−
ジヒドロキシホスフィニルジフェニルスルフィド、4−
ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフェ
ニルスルフィド、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフ
ィニルジフェニルエーテル、4−シジアゾ−2−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシジフェニルエーテル、4−ジ
アゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルエーテ
ル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシオキシジフェニルエ
ーテル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルジ
フェニルスルフィド、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホ
スフィニルオキシジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−
4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジフェニルエー
テル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルオ
キシメチルジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−(
2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニルエー
テル、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィ
ニルオキシエチル)ジフェニルエーテル、4−ジアゾ−
4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジフェニルスル
フィド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニル
オキシメチルジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′
−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニル
スルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホ
スフィニルオキシエチル)ジフェニルスルフィド、4−
ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメトキシジフ
ェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシメトキシジフェニルエーテル、4−ジア
ゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエトキシ)
ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシエトキシ)ジフェニルスル
フィド、4−ジアゾ−2−(2−ジヒドロキシホスフィ
ニルエチル)ジフェニルエーテル、4−ジアゾ−2−(
2−ジヒドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニ
ルスルフィド、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィ
ニルメチルジフェニルエーテル、4−ジアゾ−3−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシメチルジフェニルスルフィ
ド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノオキシ
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホ
スフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ヒドロ
キシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−
ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−3−ジヒドロキシホスフィノオキシジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィノジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィノオ
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシ
ホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ヒド
ロキシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′
−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノオキシメチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフ
ィノメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒ
ドロキシホスフィノオキシメトキシジフェニルアミン、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノメトキシジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキ
シホスフィノオキシエトキシ)ジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィノエトキシ
)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホ
スフィノオキシメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2−ジヒドロキシホスフィノメトキシジフェニルアミン
、4−ジアゾ−2′−(2−ヒドロキシホスフィノエチ
ル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−(2−ヒド
ロキシホスフィニルエトキシ)ジフェニルアミンなどが
挙げられる。
【0035】本発明に用いられる式(III )のジア
ゾ樹脂の合成法としては、例えば、カルボキシル基、フ
ェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およ
びリンの酸素酸基のうち1個を有するジアゾニウム化合
物とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、iso −ブチルアル
デヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、メチルエチルケ
トン又はアセトフェノンのような酸基を有していない活
性カルボニル化合物又はそれらのアセタールとをモル比
で各々好ましくは1:100〜1:0.2、さらに好ま
しくは1:10〜1:0.5の割合において酸性媒体中
で縮合させる方法が挙げられる。縮合反応を行う際には
、生成するジアゾ樹脂の酸基含有量を調整するために、
酸基を有していないジアゾニウム化合物及び/又は、酸
基、ジアゾニウム基をともに有しない芳香族化合物を併
用することができる。
ゾ樹脂の合成法としては、例えば、カルボキシル基、フ
ェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およ
びリンの酸素酸基のうち1個を有するジアゾニウム化合
物とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、iso −ブチルアル
デヒド、ベンズアルデヒド、アセトン、メチルエチルケ
トン又はアセトフェノンのような酸基を有していない活
性カルボニル化合物又はそれらのアセタールとをモル比
で各々好ましくは1:100〜1:0.2、さらに好ま
しくは1:10〜1:0.5の割合において酸性媒体中
で縮合させる方法が挙げられる。縮合反応を行う際には
、生成するジアゾ樹脂の酸基含有量を調整するために、
酸基を有していないジアゾニウム化合物及び/又は、酸
基、ジアゾニウム基をともに有しない芳香族化合物を併
用することができる。
【0036】本発明に用いるジアゾ樹脂(I)、(II
)又は(III )を合成する際に使用する酸性媒体の
具体例としては、例えば、塩酸、リン酸、メタンスルホ
ン酸又は硫酸などの強酸が挙げられる。これらの媒体は
少なくとも30重量%、有利には70〜100重量%の
濃度で使用される。一般に残りは水であるが、部分的に
又は完全に有機溶剤、例えばメタノール、酢酸、N−メ
チルピロリドン等から成っていてもよい。良好な結果は
例えば85〜93%−リン酸、80〜98%−硫酸また
は90%−メタンスルホン酸又はこれらの酸の混合物に
よって達成される。
)又は(III )を合成する際に使用する酸性媒体の
具体例としては、例えば、塩酸、リン酸、メタンスルホ
ン酸又は硫酸などの強酸が挙げられる。これらの媒体は
少なくとも30重量%、有利には70〜100重量%の
濃度で使用される。一般に残りは水であるが、部分的に
又は完全に有機溶剤、例えばメタノール、酢酸、N−メ
チルピロリドン等から成っていてもよい。良好な結果は
例えば85〜93%−リン酸、80〜98%−硫酸また
は90%−メタンスルホン酸又はこれらの酸の混合物に
よって達成される。
【0037】縮合の際の温度は、約0〜70℃、好まし
くは約0〜50℃である。次にジアゾ樹脂(I)、(I
I)又(III )の対アニオンX− について説明す
る。X− は、脂肪族又は芳香族スルホン酸アニオンを
示すがその中でも好ましい例としては、メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのフルオロアル
カンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスル
ホコハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンフ
ァースルホン酸、トリルオキシ−3−プロパンスルホン
酸、ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニ
ルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノ
キシ−3−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−
3−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−3−プ
ロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸
、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレ
ンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、2,5
−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサリチル酸、2
,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチルベン
ゼンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸
、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼン
スルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−クロ
ロ−5−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンス
ルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシ
ベンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン
酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸、イソプロピルナフタレンスルホン酸
、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンス
ルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシナ
フタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスルホ
ン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフ
タレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフトー
ル−5−スルホン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、ナ
フタリン−2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフタ
レン−3,6−ジスルホン酸、4,4′−ジアジド−ス
チルベン−3,3′−ジスルホン酸、1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−5−スルホン酸及び1,2−ナ
フトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸のアニオン
もしくは、これらのアニオンの混合物が含まれる。これ
らのアニオンの中で特に好ましいものは、ブチルナフタ
レンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオ
クチルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンス
ルホン酸等のアルキル置換ナフタレンスルホン酸のアニ
オンである。
くは約0〜50℃である。次にジアゾ樹脂(I)、(I
I)又(III )の対アニオンX− について説明す
る。X− は、脂肪族又は芳香族スルホン酸アニオンを
示すがその中でも好ましい例としては、メタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのフルオロアル
カンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスル
ホコハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンフ
ァースルホン酸、トリルオキシ−3−プロパンスルホン
酸、ノニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ノニ
ルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノ
キシ−3−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−
3−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−3−プ
ロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−4−ブタンス
ルホン酸、ジノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン酸
、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレ
ンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、2,5
−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサリチル酸、2
,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、p−アセチルベン
ゼンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸
、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼン
スルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−クロ
ロ−5−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンス
ルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシ
ベンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン
酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベ
ンゼンスルホン酸、イソプロピルナフタレンスルホン酸
、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンス
ルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシナ
フタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスルホ
ン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフ
タレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフトー
ル−5−スルホン酸、ナフタリン−1−スルホン酸、ナ
フタリン−2−スルホン酸、1,8−ジニトロ−ナフタ
レン−3,6−ジスルホン酸、4,4′−ジアジド−ス
チルベン−3,3′−ジスルホン酸、1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド−4−スルホン酸、1,2−ナフト
キノン−2−ジアジド−5−スルホン酸及び1,2−ナ
フトキノン−1−ジアジド−4−スルホン酸のアニオン
もしくは、これらのアニオンの混合物が含まれる。これ
らのアニオンの中で特に好ましいものは、ブチルナフタ
レンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオ
クチルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンス
ルホン酸等のアルキル置換ナフタレンスルホン酸のアニ
オンである。
【0038】本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
乃至100,000のものが使用可能であるが、好まし
くは、約800乃至5,000のものが適当である。上
記の感光性ジアゾ樹脂は、アルカリ可溶性もしくは膨潤
性の親油性高分子化合物をバインダー樹脂として使用し
て、これと組合わせて使用するのが望ましい。
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
乃至100,000のものが使用可能であるが、好まし
くは、約800乃至5,000のものが適当である。上
記の感光性ジアゾ樹脂は、アルカリ可溶性もしくは膨潤
性の親油性高分子化合物をバインダー樹脂として使用し
て、これと組合わせて使用するのが望ましい。
【0039】この親油性高分子化合物としては、下記(
1) 〜(15)に示すモノマーをその構造単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。 (1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸
エステル類及びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−(4−
ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−,m−,
p−ヒドロキシスチレン、o−,m−,p−ヒドロキシ
フェニル−アクリレート又はメタクリレート、(2)
脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメ
タクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシエチルア
クリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
(3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸、(4) アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル
、アクリル酸オクチル、アクリル酸−2−クロロエチル
、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチル
アクリレート等の(置換)アルキルアクリレート、(5
) メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)アルキルメタクリレート、(6) アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シク
ロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロ
フェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルア
クリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルア
ミド類、(7) エチルビニルエーテル、2−クロロエ
チルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル
、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オ
クチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、(8) ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等
のビニルエステル類、(9) スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(10)
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピル
ビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン
類、(11) エチレン、プロピレン、イソブチレン
、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、(12)
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等、(13) マレイミド、N−アクリロイル
アクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−
プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベン
ゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド、(14)
N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニルメ
タクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニル)
ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホ
ニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリル酸アミド
類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類
、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−
アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−
アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等のメタク
リル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有するア
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。(1
5) N−〔2−(メタクリロイルオキシ)−エチル
〕−2,3−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメート
などの側鎖に光架橋性基を有する不飽和モノマー。
1) 〜(15)に示すモノマーをその構造単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。 (1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸
エステル類及びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−(4−
ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−,m−,
p−ヒドロキシスチレン、o−,m−,p−ヒドロキシ
フェニル−アクリレート又はメタクリレート、(2)
脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメ
タクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシエチルア
クリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
(3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸、(4) アクリル酸
メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル
、アクリル酸オクチル、アクリル酸−2−クロロエチル
、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチル
アクリレート等の(置換)アルキルアクリレート、(5
) メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)アルキルメタクリレート、(6) アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアク
リルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シク
ロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロ
フェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルア
クリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルア
ミド類、(7) エチルビニルエーテル、2−クロロエ
チルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル
、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オ
クチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビ
ニルエーテル類、(8) ビニルアセテート、ビニルク
ロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等
のビニルエステル類、(9) スチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(10)
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピル
ビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン
類、(11) エチレン、プロピレン、イソブチレン
、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、(12)
N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等、(13) マレイミド、N−アクリロイル
アクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−
プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベン
ゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド、(14)
N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニルメ
タクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニル)
ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホ
ニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリル酸アミド
類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類
、また、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート
、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−
アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−
アミノスルホニルナフチル)メタクリレート等のメタク
リル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有するア
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。(1
5) N−〔2−(メタクリロイルオキシ)−エチル
〕−2,3−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメート
などの側鎖に光架橋性基を有する不飽和モノマー。
【0040】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。上記モノマーの共重合によっ
て得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート等によって修飾したものも
含まれるがこれらに限られるものではない。更に具体的
には、上記(1) 、(2) 、(14)に掲げたモノ
マー等を含有する、水酸基又はスルホンアミド基を有す
る共重合体が好ましく、芳香族性水酸基又はスルホンア
ミド基を有する共重合体が更に好ましい。
ーを共重合させてもよい。上記モノマーの共重合によっ
て得られる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート等によって修飾したものも
含まれるがこれらに限られるものではない。更に具体的
には、上記(1) 、(2) 、(14)に掲げたモノ
マー等を含有する、水酸基又はスルホンアミド基を有す
る共重合体が好ましく、芳香族性水酸基又はスルホンア
ミド基を有する共重合体が更に好ましい。
【0041】上記共重合体には(3) に掲げた不飽和
カルボン酸を含有することが好ましく、共重合体の好ま
しいカルボン酸価の値は0〜3meq /g、さらに好
ましくは、0.5〜2.5meq /gである。上記共
重合体の好ましい分子量は1〜15万である。また上記
共重合体には必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂
、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、
ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。
カルボン酸を含有することが好ましく、共重合体の好ま
しいカルボン酸価の値は0〜3meq /g、さらに好
ましくは、0.5〜2.5meq /gである。上記共
重合体の好ましい分子量は1〜15万である。また上記
共重合体には必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂
、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、
ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。
【0042】本発明に用いられる親油性高分子化合物は
感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量%、好ま
しくは50〜95重量%含有させる。また、本発明に用
いられる感光性ジアゾ樹脂は通常1〜60重量%、好ま
しくは3〜40重量%含有させる。本発明の感光性組成
物には、さらに色素を用いることができる。該色素は、
露光による可視画像(露光可視画像)と現像後の可視画
像を得ることを目的として使用される。
感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量%、好ま
しくは50〜95重量%含有させる。また、本発明に用
いられる感光性ジアゾ樹脂は通常1〜60重量%、好ま
しくは3〜40重量%含有させる。本発明の感光性組成
物には、さらに色素を用いることができる。該色素は、
露光による可視画像(露光可視画像)と現像後の可視画
像を得ることを目的として使用される。
【0043】該色素としては、フリーラジカルまたは酸
と反応して「色調を変化する」ものが好ましく使用でき
る。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色
調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調へ
の変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を
形成して色調を変化するものである。例えば、ビクトリ
アピュアブルーBOH〔保土谷化学社製〕、オイルブル
ー#603〔オリエント化学工業社製〕、パテントピュ
アブルー〔住友三国化学社製〕、クリスタルバイオレッ
ト、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチ
ルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ベ
イシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド
、m−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミン
、4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、
シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等
に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
と反応して「色調を変化する」ものが好ましく使用でき
る。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色
調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調へ
の変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を
形成して色調を変化するものである。例えば、ビクトリ
アピュアブルーBOH〔保土谷化学社製〕、オイルブル
ー#603〔オリエント化学工業社製〕、パテントピュ
アブルー〔住友三国化学社製〕、クリスタルバイオレッ
ト、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチ
ルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ベ
イシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド
、m−クレゾールパープル、ローダミンB、オーラミン
、4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、
シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等
に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
【0044】一方、無色から有色に変化する変色剤とし
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、p
,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン
、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェニ
ルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニル
−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−トリ
アミノトリフェニルメタンに代表される第1級または第
2級アリールアミン系色素が挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、p
,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン
、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェニ
ルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニル
−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−トリ
アミノトリフェニルメタンに代表される第1級または第
2級アリールアミン系色素が挙げられる。
【0045】特に好ましくはトリフェニルメタン系、ジ
フェニルメタン系色素が有効に用いられ、さらに好まし
くはトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリア
ピュアブルーBOHである。上記色素は、感光性組成物
中に通常約0.5〜約10重量%が好ましく、より好ま
しくは約1〜5重量%含有させる。
フェニルメタン系色素が有効に用いられ、さらに好まし
くはトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリア
ピュアブルーBOHである。上記色素は、感光性組成物
中に通常約0.5〜約10重量%が好ましく、より好ま
しくは約1〜5重量%含有させる。
【0046】本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類、ノニオン
系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好ましい)、
塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(例え
ばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタク
リル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で特にリン酸
トリクレジルが好ましい)、画像部の感脂性を向上させ
るための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報
記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコール
によるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、フッ素
系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸
エステル等)、安定剤〔例えば、リン酸、亜リン酸、有
機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンス
ルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、
4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、酒石酸等)〕、現像促進剤(例えば高級アル
コール、酸無水物等)等が好ましくもちいられる。これ
らの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異な
るが、一般に全固形分に対して、0.01〜30重量%
である。
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類、ノニオン
系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好ましい)、
塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(例え
ばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタク
リル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で特にリン酸
トリクレジルが好ましい)、画像部の感脂性を向上させ
るための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報
記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコール
によるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール
−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、フッ素
系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸
エステル等)、安定剤〔例えば、リン酸、亜リン酸、有
機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンス
ルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、
4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−ス
ルホン酸、酒石酸等)〕、現像促進剤(例えば高級アル
コール、酸無水物等)等が好ましくもちいられる。これ
らの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異な
るが、一般に全固形分に対して、0.01〜30重量%
である。
【0047】このような感光性組成物を、感光性平版印
刷版の製造に適用する場合には適当な支持体上に塗設さ
れる。前記の感光性平版印刷版に使用される支持体とし
ては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポルスチレンなど)ラミネート紙、アルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール等のようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムもしくは
クロームメッキが施された鋼板などがあげられ、これら
のうち特に、アルミニウム及びアルミニウム被覆された
複合支持体が好ましい。またアルミニウム材としては鉄
を0.3%程度、ケイ素を0.1%程度、銅を0.00
5〜0.03%、チタンを0.005〜0.04%含有
するIS材が好ましい。
刷版の製造に適用する場合には適当な支持体上に塗設さ
れる。前記の感光性平版印刷版に使用される支持体とし
ては、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポルスチレンなど)ラミネート紙、アルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール等のようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルム、アルミニウムもしくは
クロームメッキが施された鋼板などがあげられ、これら
のうち特に、アルミニウム及びアルミニウム被覆された
複合支持体が好ましい。またアルミニウム材としては鉄
を0.3%程度、ケイ素を0.1%程度、銅を0.00
5〜0.03%、チタンを0.005〜0.04%含有
するIS材が好ましい。
【0048】また、アルミニウム材の表面は、保水性を
高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理さ
れていることが望ましい。粗面化方法として、一般に公
知のブラシ研摩法、ボール研摩法、電解エッチング、化
学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等の
方法およびこれらの組合せがあげられ、好ましくはブラ
シ研摩法、電解エッチング、化学的エッチングおよび液
体ホーニングがあげられ、これらのうちで、特に電解エ
ッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。
高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理さ
れていることが望ましい。粗面化方法として、一般に公
知のブラシ研摩法、ボール研摩法、電解エッチング、化
学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等の
方法およびこれらの組合せがあげられ、好ましくはブラ
シ研摩法、電解エッチング、化学的エッチングおよび液
体ホーニングがあげられ、これらのうちで、特に電解エ
ッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。
【0049】さらに特開昭54−63902号に記載さ
れているようにブラシ研摩した後電解エッチングする方
法も好ましい。また、電解エッチングの際に用いられる
電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む
水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、こ
れらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。こうして得られたアルミニウ
ム板は、陽極酸化処理されることが望ましく、特に好ま
しくは、硫酸またはリン酸を含む浴で処理する方法があ
げられる。また、さらに必要に応じて、ケイ酸アルカリ
や熱水による封孔処理、その他水溶性高分子化合物や弗
化ジルコニウム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表
面処理を行うことができる。
れているようにブラシ研摩した後電解エッチングする方
法も好ましい。また、電解エッチングの際に用いられる
電解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む
水溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、こ
れらのうちで特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。こうして得られたアルミニウ
ム板は、陽極酸化処理されることが望ましく、特に好ま
しくは、硫酸またはリン酸を含む浴で処理する方法があ
げられる。また、さらに必要に応じて、ケイ酸アルカリ
や熱水による封孔処理、その他水溶性高分子化合物や弗
化ジルコニウム酸カリウム水溶液への浸漬などによる表
面処理を行うことができる。
【0050】本発明に用いられるのに適した支持体につ
いてさらに詳しく言うと、まず鉄を0.3%、ケイ素を
0.1%、銅を0.01%、さらにチタンを0.03%
含有するISアルミニウム板をアルカリ好ましくは1〜
30%の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、20〜80℃の
温度で5秒〜250秒間浸漬して、エッチングする。エ
ッチング浴には、アルミニウムをアルカリの1/5程度
加えてもよい。
いてさらに詳しく言うと、まず鉄を0.3%、ケイ素を
0.1%、銅を0.01%、さらにチタンを0.03%
含有するISアルミニウム板をアルカリ好ましくは1〜
30%の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、珪酸ナトリウム等の水溶液に、20〜80℃の
温度で5秒〜250秒間浸漬して、エッチングする。エ
ッチング浴には、アルミニウムをアルカリの1/5程度
加えてもよい。
【0051】次いで、10〜30%硝酸または硫酸水溶
液に20〜70℃の温度で5秒〜250秒間浸漬して、
アルカリエッチング後の中和およびスマット除去を行な
う。このアルミニウム合金板の表面清浄化後、以下に示
す粗面化処理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ
研摩又は/および電解エッチング処理が適している。
液に20〜70℃の温度で5秒〜250秒間浸漬して、
アルカリエッチング後の中和およびスマット除去を行な
う。このアルミニウム合金板の表面清浄化後、以下に示
す粗面化処理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ
研摩又は/および電解エッチング処理が適している。
【0052】ブラシ研摩は、パミストン−水懸濁液とナ
イロンブラシとを用いるのが好ましく、平均表面粗さは
0.25〜0.9μが好ましい。電解エッチング処理に
使用される電解液は塩酸又は硝酸の水溶液であり、濃度
は、0.01〜3重量%の範囲で使用することが好まし
く、0.05〜2.5重量%であれば更に好ましい。ま
た、この電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化物、モノ
アミン類、ジアミン類、アルデヒド類、リン酸、クロム
酸、ホウ酸、シュウ酸、アンモニウム塩等の腐蝕抑制剤
(または安定化剤)、砂目の均一化剤などを加えること
ができる。また電解液中には、適当量(1〜10g/l
)のアルミニウムイオンを含んでいてもよい。
イロンブラシとを用いるのが好ましく、平均表面粗さは
0.25〜0.9μが好ましい。電解エッチング処理に
使用される電解液は塩酸又は硝酸の水溶液であり、濃度
は、0.01〜3重量%の範囲で使用することが好まし
く、0.05〜2.5重量%であれば更に好ましい。ま
た、この電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化物、モノ
アミン類、ジアミン類、アルデヒド類、リン酸、クロム
酸、ホウ酸、シュウ酸、アンモニウム塩等の腐蝕抑制剤
(または安定化剤)、砂目の均一化剤などを加えること
ができる。また電解液中には、適当量(1〜10g/l
)のアルミニウムイオンを含んでいてもよい。
【0053】電解液の温度は通常10〜60℃である。
この際に使用される交流電流は、正負の極性が交互に交
換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波いずれ
のものも用いることでき、通常の商用交流の単相および
三相交流電流を用いることができる。また電流密度は、
5〜100A/dm2 で、10〜300秒間処理する
ことが望ましい。
換されたものであれば、矩形波、台形波、正弦波いずれ
のものも用いることでき、通常の商用交流の単相および
三相交流電流を用いることができる。また電流密度は、
5〜100A/dm2 で、10〜300秒間処理する
ことが望ましい。
【0054】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μ
mとする。このように砂目立てされたアルミニウム合金
は、10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なア
ルカリ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したス
マットが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した
場合は、引続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸
漬して中和する。
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μ
mとする。このように砂目立てされたアルミニウム合金
は、10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なア
ルカリ(水酸化ナトリウム等)により表面に付着したス
マットが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した
場合は、引続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸
漬して中和する。
【0055】表面のスマット除去を行なった後、陽極酸
化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知ら
れている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用
な電解液として用いられる。それについで、リン酸もま
た有用な電解液である。さらに特開昭55−28400
号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用
である。
化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知ら
れている方法を用いることができるが、硫酸が最も有用
な電解液として用いられる。それについで、リン酸もま
た有用な電解液である。さらに特開昭55−28400
号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用
である。
【0056】硫酸法は通常直流電流で処理が行なわれる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸
化皮膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイ
オンが含まれている方が好ましい。さらにこのときの電
流密度は1〜20A/dm2 が好ましい。リン酸法の
場合には、5〜50%の濃度、30〜60℃の温度で、
10〜300秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で
、処理される。
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度は5〜
30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で5〜25
0秒間電解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸
化皮膜が設けられる。この電解液には、アルミニウムイ
オンが含まれている方が好ましい。さらにこのときの電
流密度は1〜20A/dm2 が好ましい。リン酸法の
場合には、5〜50%の濃度、30〜60℃の温度で、
10〜300秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で
、処理される。
【0057】このようにして処理されたアルミニウム支
持体にはさらに米国特許第2714066号明細書に記
載されたようなシリケート類による表面処理を行うのが
望ましい。上述の感光性組成物を支持体上に設けるには
、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要に
応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエ
チルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレン
ジクロライド、ジメチルスルホキシド、水又はこれらの
混合物等)中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調製し
、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。塗布する際
の感光性組成物の固形分濃度は1〜50重量%の範囲と
することが望ましい。この場合、感光性組成物の塗布量
は、おおむね、0.2〜10g/m2(乾燥重量)程度
とすればよい。
持体にはさらに米国特許第2714066号明細書に記
載されたようなシリケート類による表面処理を行うのが
望ましい。上述の感光性組成物を支持体上に設けるには
、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要に
応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒(メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエ
チルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレン
ジクロライド、ジメチルスルホキシド、水又はこれらの
混合物等)中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調製し
、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。塗布する際
の感光性組成物の固形分濃度は1〜50重量%の範囲と
することが望ましい。この場合、感光性組成物の塗布量
は、おおむね、0.2〜10g/m2(乾燥重量)程度
とすればよい。
【0058】感光層上には相互に独立して設けられた突
起物により構成されるマット層を設けるのが好ましい。 マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィルムと
感光性平版印刷版との真空密着性を改良することにより
、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露光時
の微小網点のつぶれを防止することである。
起物により構成されるマット層を設けるのが好ましい。 マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィルムと
感光性平版印刷版との真空密着性を改良することにより
、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露光時
の微小網点のつぶれを防止することである。
【0059】マット層の塗布方法としては、特開昭55
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させ
る方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体
が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶
解するか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい
。
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させ
る方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体
が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶
解するか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい
。
【0060】パウダリングされた固体粉末を熱融着する
方法における固体粉末としては、好ましくは該物質また
は組成物の第1次転移点及び第2次転移点が40℃より
も高く、かつ該物質または組成物の第1次転移点または
第2次転移点が感光性層の第1次転移点よりも低いもの
である。具体例としては、ポリ酢酸ビニル、ポリビニリ
デンクロライド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレ
ングリコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン及びポリスチレ
ン誘導体及びこれらのモノマーの共重合体、ポリビニル
メチルエーテル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
アミド、ポリビニルブチラール等が挙げられる。
方法における固体粉末としては、好ましくは該物質また
は組成物の第1次転移点及び第2次転移点が40℃より
も高く、かつ該物質または組成物の第1次転移点または
第2次転移点が感光性層の第1次転移点よりも低いもの
である。具体例としては、ポリ酢酸ビニル、ポリビニリ
デンクロライド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレ
ングリコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン及びポリスチレ
ン誘導体及びこれらのモノマーの共重合体、ポリビニル
メチルエーテル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
アミド、ポリビニルブチラール等が挙げられる。
【0061】固体粉末粒子の直径は約0.5〜40μの
範囲が適当であり、1〜17μの範囲が好ましく、特に
好ましいのは1〜8μの範囲である。パウダリングは公
知の方法、例えばJ. J. ソコル、R. C. ヘ
ンドリックソン、プラスチック エンジニアリング
ハンドブック、P.426、P.431(1976)
(J. J. Sokol and R. C. He
ndrickson Plastic Eng. Ha
ndbook (1976)) に記載されているフル
イダイズド ベッド(Fluidized bed)
静電スプレー、静電フルイダイズドベッド等のほか、エ
アスプレー、ブラシ、バフ等による方法を用いればよい
。
範囲が適当であり、1〜17μの範囲が好ましく、特に
好ましいのは1〜8μの範囲である。パウダリングは公
知の方法、例えばJ. J. ソコル、R. C. ヘ
ンドリックソン、プラスチック エンジニアリング
ハンドブック、P.426、P.431(1976)
(J. J. Sokol and R. C. He
ndrickson Plastic Eng. Ha
ndbook (1976)) に記載されているフル
イダイズド ベッド(Fluidized bed)
静電スプレー、静電フルイダイズドベッド等のほか、エ
アスプレー、ブラシ、バフ等による方法を用いればよい
。
【0062】感光性平版印刷版の表面に固着させる固体
粉末の量は感光性平版印刷版1mm2 当り固体粉末1
〜1,000個が適当であり、5〜500個が好ましい
。パウダリングされ感光性平版印刷版の表面に付着した
固体粉末は一般にランダムに分布する。固体粉末を感光
性平版印刷版の表面に固着させるには、パウダリングさ
れて感光性平版印刷版の表面に付着した固体粉末を熱に
よって該表面に固着させる。
粉末の量は感光性平版印刷版1mm2 当り固体粉末1
〜1,000個が適当であり、5〜500個が好ましい
。パウダリングされ感光性平版印刷版の表面に付着した
固体粉末は一般にランダムに分布する。固体粉末を感光
性平版印刷版の表面に固着させるには、パウダリングさ
れて感光性平版印刷版の表面に付着した固体粉末を熱に
よって該表面に固着させる。
【0063】すなわち、パウダリングされた面に加熱し
た空気を吹きつけるか、またはパウダリングされた感光
性平版印刷版を加熱した空気室または加熱したロールの
間を通して固体粉末の表面を融解させて感光性平版印刷
版の表面に固着させる。本発明において、実質上有機溶
媒を含まない水性アルカリ現像液とは、有機溶媒を衛生
上、安全性上等の観点から、過剰には含有しない、の意
であり、一般的に現像液組成物中2重量%以下であれば
、問題はない。好ましい有機溶媒含有量は、1重量%以
下であり、より好ましくは全く含有しない態様である。 本発明に係わる現像液に用いるアルカリ剤として好まし
くはケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの中でもケイ
酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム等のケ
イ酸アルカリを含有する現像液は現像階調性が良好なた
め最も好ましく、ケイ酸アルカリの組成がモル比で〔S
iO2〕/〔M〕=0.2〜1.5(ここに〔SiO2
〕、〔M〕はそれぞれSiO2のモル濃度と総アルカリ
金属のモル濃度を示す。)であり、かつSiO2を0.
4〜8重量%含有する現像液が好ましく用いられる。本
発明に係わる現像液のpH(25℃)は12以上であり
、好ましくは、12.5〜14である。
た空気を吹きつけるか、またはパウダリングされた感光
性平版印刷版を加熱した空気室または加熱したロールの
間を通して固体粉末の表面を融解させて感光性平版印刷
版の表面に固着させる。本発明において、実質上有機溶
媒を含まない水性アルカリ現像液とは、有機溶媒を衛生
上、安全性上等の観点から、過剰には含有しない、の意
であり、一般的に現像液組成物中2重量%以下であれば
、問題はない。好ましい有機溶媒含有量は、1重量%以
下であり、より好ましくは全く含有しない態様である。 本発明に係わる現像液に用いるアルカリ剤として好まし
くはケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第
三リン酸カリウム、第二リン酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等が挙げられる。これらの中でもケイ
酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム等のケ
イ酸アルカリを含有する現像液は現像階調性が良好なた
め最も好ましく、ケイ酸アルカリの組成がモル比で〔S
iO2〕/〔M〕=0.2〜1.5(ここに〔SiO2
〕、〔M〕はそれぞれSiO2のモル濃度と総アルカリ
金属のモル濃度を示す。)であり、かつSiO2を0.
4〜8重量%含有する現像液が好ましく用いられる。本
発明に係わる現像液のpH(25℃)は12以上であり
、好ましくは、12.5〜14である。
【0064】また、該現像液中に特開昭50−5132
4号公報に記載されているような、アニオン性界面活性
剤、および両性界面活性剤、特開昭59−75255号
公報、同60−111246号公報に記載されているよ
うな非イオン性界面活性剤のうち少なくとも1種を含有
させることにより、または特開昭55−95946号公
報、同56−142528号公報に記載されているよう
な高分子電解質を含有させることにより、感光性組成物
への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高めることがで
きる。かかる界面活性剤の添加量は特に制限はないが、
0.003〜3重量%が好ましく、特に0.006〜1
重量%の濃度が好ましい。さらに該ケイ酸アルカリのア
ルカリ金属として全アルカリ金属中、カリウムを20モ
ル%以上含むことが、現像液中での不溶物発生が少ない
ため好ましく、より好ましくはカリウムを90モル%以
上含むことであり、最も好ましくはカリウムが100モ
ル%の場合である。
4号公報に記載されているような、アニオン性界面活性
剤、および両性界面活性剤、特開昭59−75255号
公報、同60−111246号公報に記載されているよ
うな非イオン性界面活性剤のうち少なくとも1種を含有
させることにより、または特開昭55−95946号公
報、同56−142528号公報に記載されているよう
な高分子電解質を含有させることにより、感光性組成物
への濡れ性を高めたり、階調性をさらに高めることがで
きる。かかる界面活性剤の添加量は特に制限はないが、
0.003〜3重量%が好ましく、特に0.006〜1
重量%の濃度が好ましい。さらに該ケイ酸アルカリのア
ルカリ金属として全アルカリ金属中、カリウムを20モ
ル%以上含むことが、現像液中での不溶物発生が少ない
ため好ましく、より好ましくはカリウムを90モル%以
上含むことであり、最も好ましくはカリウムが100モ
ル%の場合である。
【0065】また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては例えば、ポリリン酸およびそのナトリウ
ム塩などのリン酸系キレート剤、カリウム塩およびアン
モニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレン
トリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ
酢酸、ヒドロキシエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロ
トリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸
および1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸
などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ(メ
チレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレ
ンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレ
ンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチ
レンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミン
トリ(メチレンホスホン酸)、1−ヒドロキシエタン−
1,1−ジホスホン酸およびホスホノトリカルボン酸や
それらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム
塩などのホスホン酸系キレート剤を挙げることができる
。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度および
その使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用
量を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、
より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有さ
せられる。
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては例えば、ポリリン酸およびそのナトリウ
ム塩などのリン酸系キレート剤、カリウム塩およびアン
モニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレン
トリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ
酢酸、ヒドロキシエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロ
トリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸
および1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸
などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ(メ
チレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレ
ンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレ
ンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチ
レンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミン
トリ(メチレンホスホン酸)、1−ヒドロキシエタン−
1,1−ジホスホン酸およびホスホノトリカルボン酸や
それらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム
塩などのホスホン酸系キレート剤を挙げることができる
。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度および
その使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用
量を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、
より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有さ
せられる。
【0066】このような、実質上有機溶媒を含まない水
性アルカリ現像液として、例えば特開昭59−8424
1号及び特開昭57−192952号公報等に記載され
ている、ポジ型平版印刷版を画像露光後、現像する際に
用いられる現像液組成物を挙げることができる。さらに
、この種の感光性平版印刷版の現像工程システムとして
は種々のやり方が考えられる。たとえは特開昭54−6
2004号に記載のように処理量に応じてアルカリ水溶
液が消費されたり自動現像液の長時間運転により空気に
よってアルカリ濃度が減少するため処理能力が低下した
補充液を用いて処理能力を回復させる方法、特開昭64
−21451号に記載のように補充液の補充量を自動的
にコントロールする方法、特開平1−303440号に
記載のように現像浴上に浮きぶたを設ける等の工夫をし
たり、特開平2−3065号に記載のようにディップ式
にしたりした現像浴槽を用いる方法などがある。これら
の技術は富士写真フィルム(株)製自動現像機スタブロ
ンシリーズとしてまとめられているので本発明において
はスタブロンシリーズの自現機を用いるのが特に好まし
い。
性アルカリ現像液として、例えば特開昭59−8424
1号及び特開昭57−192952号公報等に記載され
ている、ポジ型平版印刷版を画像露光後、現像する際に
用いられる現像液組成物を挙げることができる。さらに
、この種の感光性平版印刷版の現像工程システムとして
は種々のやり方が考えられる。たとえは特開昭54−6
2004号に記載のように処理量に応じてアルカリ水溶
液が消費されたり自動現像液の長時間運転により空気に
よってアルカリ濃度が減少するため処理能力が低下した
補充液を用いて処理能力を回復させる方法、特開昭64
−21451号に記載のように補充液の補充量を自動的
にコントロールする方法、特開平1−303440号に
記載のように現像浴上に浮きぶたを設ける等の工夫をし
たり、特開平2−3065号に記載のようにディップ式
にしたりした現像浴槽を用いる方法などがある。これら
の技術は富士写真フィルム(株)製自動現像機スタブロ
ンシリーズとしてまとめられているので本発明において
はスタブロンシリーズの自現機を用いるのが特に好まし
い。
【0067】現像後の平版印刷版は不感脂化処理をする
前に水洗して版に付着した現像液を除去しておくのが望
ましい。特に水洗水の pHは特開昭63−17226
9号に記載された方法でコントロールされているのが好
ましい。次に本発明においてはアラビアゴムの含有率が
0〜5重量%のフィニッシャーにて不感脂化処理が行わ
れる。アラビアゴムの含有率が5重量%より多いフィニ
ッシャーにて本発明で使用するようなアルカリ可溶性基
を持つジアゾニウム化合物を含む感光層を有する平版印
刷版の不感脂化処理を行なうと印刷において着肉不良が
発生する。アラビアゴムの含有率は0〜5重量%とすべ
きであるが0〜2重量%がさらに好ましい。
前に水洗して版に付着した現像液を除去しておくのが望
ましい。特に水洗水の pHは特開昭63−17226
9号に記載された方法でコントロールされているのが好
ましい。次に本発明においてはアラビアゴムの含有率が
0〜5重量%のフィニッシャーにて不感脂化処理が行わ
れる。アラビアゴムの含有率が5重量%より多いフィニ
ッシャーにて本発明で使用するようなアルカリ可溶性基
を持つジアゾニウム化合物を含む感光層を有する平版印
刷版の不感脂化処理を行なうと印刷において着肉不良が
発生する。アラビアゴムの含有率は0〜5重量%とすべ
きであるが0〜2重量%がさらに好ましい。
【0068】フィニッシャーの種類としては従来より均
一な溶液型、親油性成分を可溶化させた可溶化型そして
親油性成分を乳化分散させた乳化型が知られておりどの
タイプを用いてもよい。アラビアゴム以外のフィニッシ
ャー中の成分としては種々の化合物が使用可能であるが
水溶性有機高分子化合物を必須成分として含有する。水
溶性有機高分子化合物としてはたとえば以下の物があげ
られる。
一な溶液型、親油性成分を可溶化させた可溶化型そして
親油性成分を乳化分散させた乳化型が知られておりどの
タイプを用いてもよい。アラビアゴム以外のフィニッシ
ャー中の成分としては種々の化合物が使用可能であるが
水溶性有機高分子化合物を必須成分として含有する。水
溶性有機高分子化合物としてはたとえば以下の物があげ
られる。
【0069】白色デキストリン、黄色デキストリン及び
ブリティッシュガムなどの焙焼でんぷん、酵素分解テギ
ストリン及びシャーディンガーデキストリン等の酵素変
性デキストリン、可溶化でんぷんに示される酸分解でん
ぷん、ジアルデヒドスターチに示される酸化でんぷん、
変性アルファー化でんぷん及び無変性アルファー化でん
ぷん等のアルファー化でんぷん、りん酸でんぷん、脂肪
でんぷん、硫酸でんぷん、硝酸でんぷん、キサントゲン
酸でんぷん及びカルバミン酸でんぷん等のエステル化で
んぷん、カルボキシアルキルでんぷん、ヒドロキシアル
キルでんぷん、スルフォアルキルでんぷん、シアノエチ
ルでんぷん、アリルでんぷん、ベンジルでんぷん、カル
バミルエチルでんぷん及びジアルキルアミノアルキルで
んぷん等のエーテル化でんぷん、メチロール架橋でんぷ
ん、ヒドロキシアルキル架橋でんぷん、りん酸架橋でん
ぷん及びジカルボン酸架橋でんぷん等の架橋でんぷん、
でんぷんポリアクリルアミド共重合体、でんぷんポリア
クリル酸共重合体、でんぷんポリ酢酸ビニル共重合体、
でんぷんポリアクリロニトリル共重合体、カチオン性で
んぷんポリアクリル酸エステル共重合体、カチオン酸で
んぷんビニルポリマー共重合体、でんぷんポリスチレン
マレイン酸共重合体及びでんぷんポリエチレンオキサイ
ド共重合体等のでんぷんグラフト共重合体、かんしょデ
ンプン、ばれいしょデンプン、タピオカデンプン、小麦
デンプン及びコーンスターチ等のデンプン類およびその
誘導体、カラジーナン、ラミナラン、海ソウマンナン、
ふのり、アイリッシュモス、寒天及びアルギン酸ナトリ
ウム等の藻類から得られるもの、トロロアオイ、マンナ
ン、クインスシード、ペクチン等の植物性粘質物、デキ
ストラン、グルカン及びレバン等のホモ多糖並びにサク
シノグルカン及びザンタンガム等のヘテロ多糖等の微生
物粘質物、メチルセルロース、エチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性繊維素エー
テル、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ビニルメチルエーテルと無水マレイ
ン酸の共重合体など。
ブリティッシュガムなどの焙焼でんぷん、酵素分解テギ
ストリン及びシャーディンガーデキストリン等の酵素変
性デキストリン、可溶化でんぷんに示される酸分解でん
ぷん、ジアルデヒドスターチに示される酸化でんぷん、
変性アルファー化でんぷん及び無変性アルファー化でん
ぷん等のアルファー化でんぷん、りん酸でんぷん、脂肪
でんぷん、硫酸でんぷん、硝酸でんぷん、キサントゲン
酸でんぷん及びカルバミン酸でんぷん等のエステル化で
んぷん、カルボキシアルキルでんぷん、ヒドロキシアル
キルでんぷん、スルフォアルキルでんぷん、シアノエチ
ルでんぷん、アリルでんぷん、ベンジルでんぷん、カル
バミルエチルでんぷん及びジアルキルアミノアルキルで
んぷん等のエーテル化でんぷん、メチロール架橋でんぷ
ん、ヒドロキシアルキル架橋でんぷん、りん酸架橋でん
ぷん及びジカルボン酸架橋でんぷん等の架橋でんぷん、
でんぷんポリアクリルアミド共重合体、でんぷんポリア
クリル酸共重合体、でんぷんポリ酢酸ビニル共重合体、
でんぷんポリアクリロニトリル共重合体、カチオン性で
んぷんポリアクリル酸エステル共重合体、カチオン酸で
んぷんビニルポリマー共重合体、でんぷんポリスチレン
マレイン酸共重合体及びでんぷんポリエチレンオキサイ
ド共重合体等のでんぷんグラフト共重合体、かんしょデ
ンプン、ばれいしょデンプン、タピオカデンプン、小麦
デンプン及びコーンスターチ等のデンプン類およびその
誘導体、カラジーナン、ラミナラン、海ソウマンナン、
ふのり、アイリッシュモス、寒天及びアルギン酸ナトリ
ウム等の藻類から得られるもの、トロロアオイ、マンナ
ン、クインスシード、ペクチン等の植物性粘質物、デキ
ストラン、グルカン及びレバン等のホモ多糖並びにサク
シノグルカン及びザンタンガム等のヘテロ多糖等の微生
物粘質物、メチルセルロース、エチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性繊維素エー
テル、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ビニルメチルエーテルと無水マレイ
ン酸の共重合体など。
【0070】これらは単独または2以上組合わせて使用
することができる。これらの内、特に好ましいものは変
性でんぷん、デキストリン、カルボキシメチルセルロー
ス、である。これらの水溶性有機高分子化合物はフィニ
ッシャー中に1〜30重量%含有させるのがよい。水溶
性有機高分子化合物以外の成分としては以下に示す種々
の化合物が使用可能である。
することができる。これらの内、特に好ましいものは変
性でんぷん、デキストリン、カルボキシメチルセルロー
ス、である。これらの水溶性有機高分子化合物はフィニ
ッシャー中に1〜30重量%含有させるのがよい。水溶
性有機高分子化合物以外の成分としては以下に示す種々
の化合物が使用可能である。
【0071】例えば以下に示す界面活性剤も好ましく用
いられる。例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩
類、アルキルスルホン酸塩類、アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ジアル
キルスルホこはく酸エステル塩類、アルキル燐酸エステ
ル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリ
オキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシ
エチレンアルキルフェノールエーテル硫酸塩、アルキル
リン酸塩類などのアニオン界面活性剤でありこの中でも
特に好ましいのはジアルキルスルホこはく酸塩類及びポ
リオキシエチレンアルキルフェノールエーテル硫酸塩で
ある。
いられる。例えば脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩
類、アルキルスルホン酸塩類、アルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ジアル
キルスルホこはく酸エステル塩類、アルキル燐酸エステ
ル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリ
オキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシ
エチレンアルキルフェノールエーテル硫酸塩、アルキル
リン酸塩類などのアニオン界面活性剤でありこの中でも
特に好ましいのはジアルキルスルホこはく酸塩類及びポ
リオキシエチレンアルキルフェノールエーテル硫酸塩で
ある。
【0072】さらにノニオン界面活性剤として例えばポ
リオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチレンオ
キシプロピレンブロックポリマーアルカノール類のリン
酸エステルなどがあげられる。ノニオン界面活性剤の親
水性と親油性のバランスを表現するHLB値として好ま
しいのは溶液型フィニッシャーの場合12以上であり乳
化型の場合14以下である。
リオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンソ
ルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチレンオ
キシプロピレンブロックポリマーアルカノール類のリン
酸エステルなどがあげられる。ノニオン界面活性剤の親
水性と親油性のバランスを表現するHLB値として好ま
しいのは溶液型フィニッシャーの場合12以上であり乳
化型の場合14以下である。
【0073】さらに例えばアルキルアミン塩類、第4級
アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン
塩類などのカチオン界面活性剤、及び例えばアルキルベ
タインなどのベタイン系活面活性剤に代表される両性界
面活性剤を例示することができる。これらの界面活性剤
は2種以上併用してもさしつかえない。
アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン
塩類などのカチオン界面活性剤、及び例えばアルキルベ
タインなどのベタイン系活面活性剤に代表される両性界
面活性剤を例示することができる。これらの界面活性剤
は2種以上併用してもさしつかえない。
【0074】上記の界面活性剤は、フィニッシャー液の
総重量に対して約0.001〜約5重量%、より好まし
くは0.005〜3重量%の範囲で使用できる。さらに
プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、ベンジルアルコールなどの1価アル
コール類を加えてもよい。エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、グリセリン、ソルビトール、ポリエチレン
グリコールなどの多価アルコールは湿潤剤として好まし
く用いられる。湿潤剤は0.01〜1重量%添加するの
が好ましい。
総重量に対して約0.001〜約5重量%、より好まし
くは0.005〜3重量%の範囲で使用できる。さらに
プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノー
ル、オクタノール、ベンジルアルコールなどの1価アル
コール類を加えてもよい。エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、グリセリン、ソルビトール、ポリエチレン
グリコールなどの多価アルコールは湿潤剤として好まし
く用いられる。湿潤剤は0.01〜1重量%添加するの
が好ましい。
【0075】さらにリン酸、ポリリン酸、有機フォスフ
ォン酸、フィチン酸、ヘキサメタリン酸などのリン含有
酸およびその塩、シュウ酸、こはく酸、クエン酸、酒石
酸、乳酸、酢酸デヒドロ酢酸、安息香酸、p−トルエン
スルホン酸、サリチル酸などの有機酸およびその塩、塩
酸、硝酸、硫酸、ホウ酸、モリブデン酸などの無機酸お
よびその塩を加えてもよい。塩としてはアルカリ金属塩
又はアンモニウム塩が好ましい。
ォン酸、フィチン酸、ヘキサメタリン酸などのリン含有
酸およびその塩、シュウ酸、こはく酸、クエン酸、酒石
酸、乳酸、酢酸デヒドロ酢酸、安息香酸、p−トルエン
スルホン酸、サリチル酸などの有機酸およびその塩、塩
酸、硝酸、硫酸、ホウ酸、モリブデン酸などの無機酸お
よびその塩を加えてもよい。塩としてはアルカリ金属塩
又はアンモニウム塩が好ましい。
【0076】これらの酸は単独または2以上組合わせて
使用される。これらの中でも特に燐酸およびこはく酸は
、平版印刷版の非画像部を不感脂化する作用を有してい
るので好ましい。酸の使用量は、フィニッシャーのpH
が適性値になるような量であり通常は0.05〜5重量
%である。さらにまたEDTA等のキレート剤、シリコ
ン系樹脂、低級アルコール系等の消泡剤および防腐剤を
加えるのも好ましい。防腐剤としては例えば安息香酸及
びその誘導体、フェノールホルマリン、デヒドロ酢酸ナ
トリウムおよびイソチアゾロン系化合物等を0.005
〜2.0重量%の範囲で添加するとよい。
使用される。これらの中でも特に燐酸およびこはく酸は
、平版印刷版の非画像部を不感脂化する作用を有してい
るので好ましい。酸の使用量は、フィニッシャーのpH
が適性値になるような量であり通常は0.05〜5重量
%である。さらにまたEDTA等のキレート剤、シリコ
ン系樹脂、低級アルコール系等の消泡剤および防腐剤を
加えるのも好ましい。防腐剤としては例えば安息香酸及
びその誘導体、フェノールホルマリン、デヒドロ酢酸ナ
トリウムおよびイソチアゾロン系化合物等を0.005
〜2.0重量%の範囲で添加するとよい。
【0077】さらに親油性成分を添加して乳化分散をお
こなったいわゆる乳化型フィニッシャーも好ましく用い
られる。乳化型フィニッシャー中の油相中には有機溶剤
と界面活性剤が必須である。使用される有機溶剤は水不
溶性のものであり、例えばテレピン油、キシレン、トル
エン、n−ヘプタン、ソルベントナフサ、ケロシン、ミ
ネラルスピリット、沸点が約120°〜約250℃の石
油留分などの炭化水素類、例えばジブチルフタレート、
ジヘプチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、
ジ(2−エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレ
ート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブ
チルベンジルフタレートなどのフタル酸ジエステル類、
例えばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペ
ート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ
(2−エチルヘキシル)セバケート、ジオクチルセバケ
ートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ
化大豆油などのエポキシ化トリグリセリド類、例えばト
リクレジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェー
ト、トリスクロルエチルフォスフェートなどの燐酸エス
テル類、例えば安息香酸ベンジルなどの安息香酸エステ
ル類などの凝固点が15℃以下で、1気圧下での沸点が
300℃以上の可塑剤が含まれる。
こなったいわゆる乳化型フィニッシャーも好ましく用い
られる。乳化型フィニッシャー中の油相中には有機溶剤
と界面活性剤が必須である。使用される有機溶剤は水不
溶性のものであり、例えばテレピン油、キシレン、トル
エン、n−ヘプタン、ソルベントナフサ、ケロシン、ミ
ネラルスピリット、沸点が約120°〜約250℃の石
油留分などの炭化水素類、例えばジブチルフタレート、
ジヘプチルフタレート、ジ−n−オクチルフタレート、
ジ(2−エチルヘキシル)フタレート、ジノニルフタレ
ート、ジデシルフタレート、ジラウリルフタレート、ブ
チルベンジルフタレートなどのフタル酸ジエステル類、
例えばジオクチルアジペート、ブチルグリコールアジペ
ート、ジオクチルアゼレート、ジブチルセバケート、ジ
(2−エチルヘキシル)セバケート、ジオクチルセバケ
ートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、例えばエポキシ
化大豆油などのエポキシ化トリグリセリド類、例えばト
リクレジルフォスフェート、トリオクチルフォスフェー
ト、トリスクロルエチルフォスフェートなどの燐酸エス
テル類、例えば安息香酸ベンジルなどの安息香酸エステ
ル類などの凝固点が15℃以下で、1気圧下での沸点が
300℃以上の可塑剤が含まれる。
【0078】親油相中に含まれる他の親油性物質には、
メラミン樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポ
キシ樹脂、ロジン、例えば水添ロジン、ロジンエステル
などの変性ロジン、例えばギルソナイトなどの石油樹脂
、例えばオレイン酸、ラウリン酸、吉草酸、ノニル酸、
カプリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸などのような
炭素数5〜25の有機カルボン酸、ひまし油などが含ま
れる。これらの親油性物質は単独または2以上組合わせ
て使用することができ、フィニッシャー液の総重量に対
して、0.01〜1重量%、より好ましくは0.05〜
0.5重量%の範囲で使用することができる。
メラミン樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、エポ
キシ樹脂、ロジン、例えば水添ロジン、ロジンエステル
などの変性ロジン、例えばギルソナイトなどの石油樹脂
、例えばオレイン酸、ラウリン酸、吉草酸、ノニル酸、
カプリン酸、ミスチリン酸、パルミチン酸などのような
炭素数5〜25の有機カルボン酸、ひまし油などが含ま
れる。これらの親油性物質は単独または2以上組合わせ
て使用することができ、フィニッシャー液の総重量に対
して、0.01〜1重量%、より好ましくは0.05〜
0.5重量%の範囲で使用することができる。
【0079】以上の各成分を含有しpHを2.5〜7.
5にコントロールしたフィニッシャーを用いると着肉、
汚れに特によい結果が得られる。不感脂化剤により処理
する方法は、浸漬する方法、ローラーで塗布する方法、
多数のノズルから噴出してPS版あるいはローラーに噴
きつける方法等種々可能であるが、該不感脂化剤をくり
返し使用、あるいは処理の度毎に未使用の不感脂化剤を
少量づづ使用することにより、製版処理するPS版当り
の不感脂化剤の使用量を大きく減少することが可能とな
る。
5にコントロールしたフィニッシャーを用いると着肉、
汚れに特によい結果が得られる。不感脂化剤により処理
する方法は、浸漬する方法、ローラーで塗布する方法、
多数のノズルから噴出してPS版あるいはローラーに噴
きつける方法等種々可能であるが、該不感脂化剤をくり
返し使用、あるいは処理の度毎に未使用の不感脂化剤を
少量づづ使用することにより、製版処理するPS版当り
の不感脂化剤の使用量を大きく減少することが可能とな
る。
【0080】不感脂化剤で処理された平版印刷版は、そ
の不感脂化剤の塗布量、塗布膜厚が極力均一、適量にな
るようにスキージされることが望ましい。望ましい塗布
量は、乾燥した状態で版面上への指紋付着を防止する性
能が高くなる0.01g/m2以上、印刷する前に不感
脂化剤を少量の水でしかも容易に除去することが可能な
1g/m2以下である。より好ましい塗布量は版面上の
キズを防止する性能が現われる0.05g/m2以上、
平版印刷版の端の部分(俗にいう耳の部分)を含めて塗
布むらが減少する0.5g/m2以下である。平版印刷
版の版面をスキージする方法としては例えばゴムなどの
弾性材料をローラー表面に被覆した弾性ローラー対の間
に平版印刷版を通して、そのニップ圧力によって版面の
液体を除去する方法等がある。ローラーの材料としては
ブチルゴム、ニトリルブタジエンゴム、エチレンプロピ
レンゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ふっ素ゴム、
多硫化ゴムなどが好ましい。
の不感脂化剤の塗布量、塗布膜厚が極力均一、適量にな
るようにスキージされることが望ましい。望ましい塗布
量は、乾燥した状態で版面上への指紋付着を防止する性
能が高くなる0.01g/m2以上、印刷する前に不感
脂化剤を少量の水でしかも容易に除去することが可能な
1g/m2以下である。より好ましい塗布量は版面上の
キズを防止する性能が現われる0.05g/m2以上、
平版印刷版の端の部分(俗にいう耳の部分)を含めて塗
布むらが減少する0.5g/m2以下である。平版印刷
版の版面をスキージする方法としては例えばゴムなどの
弾性材料をローラー表面に被覆した弾性ローラー対の間
に平版印刷版を通して、そのニップ圧力によって版面の
液体を除去する方法等がある。ローラーの材料としては
ブチルゴム、ニトリルブタジエンゴム、エチレンプロピ
レンゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ふっ素ゴム、
多硫化ゴムなどが好ましい。
【0081】不感脂化剤で処理された平版印刷版は、ゴ
ミなどの付着しないように、あるいは取り扱いが容易と
なるように乾燥されることが好ましい。好ましい乾燥温
度は20℃〜120℃である。このようにして処理され
て得られた平版印刷版は印刷する前に必要に応じて現像
インキ盛り、加筆、消去−水洗、消去−水洗−不感脂化
処理などの工程に供することができる。
ミなどの付着しないように、あるいは取り扱いが容易と
なるように乾燥されることが好ましい。好ましい乾燥温
度は20℃〜120℃である。このようにして処理され
て得られた平版印刷版は印刷する前に必要に応じて現像
インキ盛り、加筆、消去−水洗、消去−水洗−不感脂化
処理などの工程に供することができる。
【0082】
【発明の効果】本発明ではフィニッシャーとしてアラビ
アゴム含有率が0〜5重量%のフィニッシャーを使う結
果、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸
基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のような親水
性の高い基を有するジアゾ化合物を含有する感光層を有
する感光性平版印刷版をpH12以上の有機溶媒を含ま
ない現像液で現像することにより得られた平版印刷版で
あっても、印刷において着肉性が劣化することがない。
アゴム含有率が0〜5重量%のフィニッシャーを使う結
果、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸
基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のような親水
性の高い基を有するジアゾ化合物を含有する感光層を有
する感光性平版印刷版をpH12以上の有機溶媒を含ま
ない現像液で現像することにより得られた平版印刷版で
あっても、印刷において着肉性が劣化することがない。
【0083】本発明は、現像処理時に、実質上有機溶媒
を含まない水性アルカリ現像液を使用する為、作業時の
毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安全
上の問題、更に廃液による公害発生等の問題がなく、か
つ低コストで実施できる。また、本発明においては、ポ
ジ型平版印刷版の現像液として公知である水性アルカリ
現像液を用いて、ネガ型平版印刷版を現像することがで
きる。このため、ポジ型平版印刷版とネガ型平版印刷版
の両者を処理する場合に、それぞれに適合するよう現像
液組成物を調製したり、現像液組成物を取りかえたり、
予め2種の現像液組成物及び現像処理装置を用意してお
く等の手間を省くことが可能となり、作業効率、設備費
、配置スペース等が著しく改善される。
を含まない水性アルカリ現像液を使用する為、作業時の
毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安全
上の問題、更に廃液による公害発生等の問題がなく、か
つ低コストで実施できる。また、本発明においては、ポ
ジ型平版印刷版の現像液として公知である水性アルカリ
現像液を用いて、ネガ型平版印刷版を現像することがで
きる。このため、ポジ型平版印刷版とネガ型平版印刷版
の両者を処理する場合に、それぞれに適合するよう現像
液組成物を調製したり、現像液組成物を取りかえたり、
予め2種の現像液組成物及び現像処理装置を用意してお
く等の手間を省くことが可能となり、作業効率、設備費
、配置スペース等が著しく改善される。
【0084】次に本発明に係わるジアゾ樹脂の代表的な
構成例を示す。
構成例を示す。
【0085】
【合成例】ジアゾ樹脂−1の合成
p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(0.025モル)お
よび4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩7.1g(0.
025モル)を水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。こ
の反応後に2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09
モル)をゆっくり添加した。この際、反応温度が10℃
を超えないように添加していった。その後、2時間氷冷
下かくはんを続けた。この反応混合物を氷冷下、1リッ
トルのエタノールに注入し、生じた沈殿を濾過した。エ
タノールで洗浄後、この沈殿物を200ml の純水に
溶解し、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃
厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した後エタノール
で洗浄し、これを300ml の純水に溶解した。この
液にジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム28.7
gを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾別
し水洗した後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1
を得た。
よび4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩7.1g(0.
025モル)を水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。こ
の反応後に2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09
モル)をゆっくり添加した。この際、反応温度が10℃
を超えないように添加していった。その後、2時間氷冷
下かくはんを続けた。この反応混合物を氷冷下、1リッ
トルのエタノールに注入し、生じた沈殿を濾過した。エ
タノールで洗浄後、この沈殿物を200ml の純水に
溶解し、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃
厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した後エタノール
で洗浄し、これを300ml の純水に溶解した。この
液にジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム28.7
gを溶解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾別
し水洗した後、30℃、1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1
を得た。
【0086】このジアゾ樹脂−1をGPC(ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー)により分子量を測定し
たところ、重量平均分子量で約1600であった。 ジアゾ樹脂−2の合成 ジアゾ樹脂−1の合成において、p−ヒドロキシ安息香
酸をベンゼンスルホン酸ナトリウム4.5gに代えた以
外はジアゾ樹脂−1の合成と同様にしジアゾ樹脂−2を
得た。
エーションクロマトグラフィー)により分子量を測定し
たところ、重量平均分子量で約1600であった。 ジアゾ樹脂−2の合成 ジアゾ樹脂−1の合成において、p−ヒドロキシ安息香
酸をベンゼンスルホン酸ナトリウム4.5gに代えた以
外はジアゾ樹脂−1の合成と同様にしジアゾ樹脂−2を
得た。
【0087】GPCにより分子量を測定したところ、重
量平均分子量で1650であった。 ジアゾ樹脂−3の合成 フェノキシ酢酸6.1g(0.040モル)および4−
ジアゾジフェニルアミン硫酸塩11.3g(0.040
モル)を水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応
後に3.0gのパラホルムアルデヒド(0.10モル)
をゆっくり添加した。この際、反応温度が10℃を超え
ないように添加していった。その後、2時間氷冷下かく
はんを続けた。この反応混合物を氷冷下、1リットルの
エタノールに注入し、生じた沈殿を濾過した。エタノー
ルで洗浄後、この沈殿物を200ml の純水に溶解し
、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶
液を加えた。 生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを3
00ml の純水に溶解した。この液にジブチルナフタ
レンスルホン酸ソーダ41gを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈殿を濾別し水洗した後、30℃1昼夜
乾燥してジアゾ樹脂3を得た。このジアゾ共縮合樹脂−
3をGPCにより分子量を測定したところ、重量平均分
子量で約2300であった。 ジアゾ樹脂−4の合成 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミ
リモル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。こ
の反応液に1.5g(50ミリモル)のパラホルムアル
デヒドをゆっくり滴下した。この際、反応温度が10℃
を超えないように添加していった。その後、2時間氷冷
下かくはんを続けた。
量平均分子量で1650であった。 ジアゾ樹脂−3の合成 フェノキシ酢酸6.1g(0.040モル)および4−
ジアゾジフェニルアミン硫酸塩11.3g(0.040
モル)を水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応
後に3.0gのパラホルムアルデヒド(0.10モル)
をゆっくり添加した。この際、反応温度が10℃を超え
ないように添加していった。その後、2時間氷冷下かく
はんを続けた。この反応混合物を氷冷下、1リットルの
エタノールに注入し、生じた沈殿を濾過した。エタノー
ルで洗浄後、この沈殿物を200ml の純水に溶解し
、この液に10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶
液を加えた。 生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを3
00ml の純水に溶解した。この液にジブチルナフタ
レンスルホン酸ソーダ41gを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈殿を濾別し水洗した後、30℃1昼夜
乾燥してジアゾ樹脂3を得た。このジアゾ共縮合樹脂−
3をGPCにより分子量を測定したところ、重量平均分
子量で約2300であった。 ジアゾ樹脂−4の合成 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミ
リモル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。こ
の反応液に1.5g(50ミリモル)のパラホルムアル
デヒドをゆっくり滴下した。この際、反応温度が10℃
を超えないように添加していった。その後、2時間氷冷
下かくはんを続けた。
【0088】この反応混合物をを氷冷下、500ml
のエタノールに滴下し、生じた沈殿を濾過した。この液
に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた
。生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを
150ml の純水に溶解した。この液に16.8gの
ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムを溶解した冷
濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、
30℃、1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−4を得た。
のエタノールに滴下し、生じた沈殿を濾過した。この液
に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた
。生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを
150ml の純水に溶解した。この液に16.8gの
ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムを溶解した冷
濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、
30℃、1昼夜乾燥してジアゾ樹脂−4を得た。
【0089】このジアゾ樹脂−4をGPCにより分子量
を測定したところ、5量体以上が約50モル%含まれて
いた。分子量は1,970であった。次に、親油性高分
子化合物の合成例を示す。 親油性高分子化合物−1の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド53
g、アクリロニトリル16g、メタクリル酸メチル30
g、エチルアクリレート8g、メタクリル酸2gおよび
アゾビスイソブチロニトリル3.3gをアセトン−エタ
ノール1:1混合溶液220ml に溶解し、窒素置換
した後60℃で8時間加熱した。
を測定したところ、5量体以上が約50モル%含まれて
いた。分子量は1,970であった。次に、親油性高分
子化合物の合成例を示す。 親油性高分子化合物−1の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド53
g、アクリロニトリル16g、メタクリル酸メチル30
g、エチルアクリレート8g、メタクリル酸2gおよび
アゾビスイソブチロニトリル3.3gをアセトン−エタ
ノール1:1混合溶液220ml に溶解し、窒素置換
した後60℃で8時間加熱した。
【0090】反応終了後、反応液を水5リットルにかく
はん下注ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して高分子化合
物−1を90g得た。この親油性高分子化合物−1をG
PCにより分子量の測定をしたところ、重量平均分子量
は2.9万であった。 親油性高分子化合物−2の合成 N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド4.57g(0.0192mol )、アクリロニト
リル2.55(0.0480mol )、メタクリル酸
1.66g(0.0192mol )、ベンジルアクリ
レート18.40g(0.1136mol)、α,α′
−アゾビスイソブチロニトリル0.41g及びN,N−
ジメチルホルムアミド25gを、撹拌機、冷却管を備え
た100ml 三ツ口フラスコに入れ、64℃に暖めな
がら5時間撹拌した。この反応混合物を水2リットルに
撹拌下投入し、30分間撹拌後、ろ過、乾燥することに
より、19gの高分子化合物−2が得られた。GPCに
より、この高分子化合物−2の重量平均分子量(ポリス
チレン標準)を測定したところ1.8万であった。 実施例1 銅を0.02%、チタンを0.01%、鉄を0.30%
、ケイ素を0.1含有するJISA1050アルミニウ
ム板を5%水酸化ナトリウム水溶液にて50℃、10秒
間エッチングした後、30%硝酸浴中、25℃で30秒
間中和処理しこれを2%塩酸浴中で25℃、20A/d
m2 の電流密度で電解エッチングし、次に20℃の1
%水酸化ナトリウム水溶液で30秒間中和した後、水洗
し15%硫酸浴中で30℃、1.5A/dm2 の条件
で2分間陽極酸化処理した。次に1%メタケイ酸ナトリ
ウム水溶液中、85℃で30秒間封孔処理し、水洗、乾
燥して、平版印刷用アルミニウム板を得た。このアルミ
ニウム板に次のような組成の感光液−1をホワイラー塗
布機を用いて乾燥後の膜重量が2.4g/m2となるよ
うに塗布した。
はん下注ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して高分子化合
物−1を90g得た。この親油性高分子化合物−1をG
PCにより分子量の測定をしたところ、重量平均分子量
は2.9万であった。 親油性高分子化合物−2の合成 N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド4.57g(0.0192mol )、アクリロニト
リル2.55(0.0480mol )、メタクリル酸
1.66g(0.0192mol )、ベンジルアクリ
レート18.40g(0.1136mol)、α,α′
−アゾビスイソブチロニトリル0.41g及びN,N−
ジメチルホルムアミド25gを、撹拌機、冷却管を備え
た100ml 三ツ口フラスコに入れ、64℃に暖めな
がら5時間撹拌した。この反応混合物を水2リットルに
撹拌下投入し、30分間撹拌後、ろ過、乾燥することに
より、19gの高分子化合物−2が得られた。GPCに
より、この高分子化合物−2の重量平均分子量(ポリス
チレン標準)を測定したところ1.8万であった。 実施例1 銅を0.02%、チタンを0.01%、鉄を0.30%
、ケイ素を0.1含有するJISA1050アルミニウ
ム板を5%水酸化ナトリウム水溶液にて50℃、10秒
間エッチングした後、30%硝酸浴中、25℃で30秒
間中和処理しこれを2%塩酸浴中で25℃、20A/d
m2 の電流密度で電解エッチングし、次に20℃の1
%水酸化ナトリウム水溶液で30秒間中和した後、水洗
し15%硫酸浴中で30℃、1.5A/dm2 の条件
で2分間陽極酸化処理した。次に1%メタケイ酸ナトリ
ウム水溶液中、85℃で30秒間封孔処理し、水洗、乾
燥して、平版印刷用アルミニウム板を得た。このアルミ
ニウム板に次のような組成の感光液−1をホワイラー塗
布機を用いて乾燥後の膜重量が2.4g/m2となるよ
うに塗布した。
【0091】この場合の乾燥は100℃、1分間で行っ
た。 感光液−1 親油性高分子化合物−1
5.0g
ジアゾ樹脂−1
0.
6g ビクトリアピュアブルーBOH
0.1g
(保土谷化学(株)製) ジュリマーAC−10L
0.3g
(日本純薬(株)製) メチルセロソルブ
50
ml メタノール
30ml メチルエチルケトン
20ml この感光性層の上に、ボールミ
ルで粉砕し、分級器(アルビメ社製ジクザグ分級器)で
分級した以下に示す樹脂からなる固体粉末をスプレーガ
ンによりパウダリングし、150℃の空気浴に5秒間さ
らして固着させた。1mm2 当りの粉末量は55個で
あった。 固体粉末樹脂:スチレン/アクリル酸メチル/アクリル
酸(2:1:1)共重合体粉末の粒径0.5〜10(μ
)得られた感光性平版印刷版をネガ透明原画およびステ
ップウェッジ(光学濃度が0.150ずつ段階増加)を
密着させて、5KWのメタルハライドランプで1mの距
離から30秒間露光した。
た。 感光液−1 親油性高分子化合物−1
5.0g
ジアゾ樹脂−1
0.
6g ビクトリアピュアブルーBOH
0.1g
(保土谷化学(株)製) ジュリマーAC−10L
0.3g
(日本純薬(株)製) メチルセロソルブ
50
ml メタノール
30ml メチルエチルケトン
20ml この感光性層の上に、ボールミ
ルで粉砕し、分級器(アルビメ社製ジクザグ分級器)で
分級した以下に示す樹脂からなる固体粉末をスプレーガ
ンによりパウダリングし、150℃の空気浴に5秒間さ
らして固着させた。1mm2 当りの粉末量は55個で
あった。 固体粉末樹脂:スチレン/アクリル酸メチル/アクリル
酸(2:1:1)共重合体粉末の粒径0.5〜10(μ
)得られた感光性平版印刷版をネガ透明原画およびステ
ップウェッジ(光学濃度が0.150ずつ段階増加)を
密着させて、5KWのメタルハライドランプで1mの距
離から30秒間露光した。
【0092】さらに次に示す条件で現像処理を行った。
すなわち富士写真フィルム(株)製自現機スタブロン9
00Dの第1浴に下記現像液−1を、第2浴に水を、第
3浴に下記フィニッシャー−1をそれぞれ仕込み、現像
液温30℃にて処理を行い平版印刷版を得た。 現像液−1の組成 1K珪酸カリウム
60
g 水酸化カリウム
12g ホウ素系界面活性剤
0.1g (エマルボンT−20) キレート剤
0.1g (EDTA) シリコン系消泡剤
0.1g (東芝シリコン製TSA−731
) 酢酸コバルト
0.3g 水
600g 現像液−1のpHは
13.1であった。 フィニッシャー−1の組成 アラビアゴム
10g ヒドロキシプロピル化酵素
150g
変性デキストリン 尿素−リン酸化でんぷん
20g
アルキルスルホこはく酸ナトリウム
3g (日
本油脂(株)製ラピゾールB−80) アニオン
界面活性剤
10g (三
洋化成(株)製エレミノールMON2) エチレ
ングリコール
20g リン酸
第1アンモニウム
2g 水酸化ナ
トリウム
1g デヒ
ドロ酢酸ナトリウム
1g シリコ
ン消泡剤
0.3g
EDTA
5g 水
777.7g フィニッシャー−1の
pHは6.3であった。
00Dの第1浴に下記現像液−1を、第2浴に水を、第
3浴に下記フィニッシャー−1をそれぞれ仕込み、現像
液温30℃にて処理を行い平版印刷版を得た。 現像液−1の組成 1K珪酸カリウム
60
g 水酸化カリウム
12g ホウ素系界面活性剤
0.1g (エマルボンT−20) キレート剤
0.1g (EDTA) シリコン系消泡剤
0.1g (東芝シリコン製TSA−731
) 酢酸コバルト
0.3g 水
600g 現像液−1のpHは
13.1であった。 フィニッシャー−1の組成 アラビアゴム
10g ヒドロキシプロピル化酵素
150g
変性デキストリン 尿素−リン酸化でんぷん
20g
アルキルスルホこはく酸ナトリウム
3g (日
本油脂(株)製ラピゾールB−80) アニオン
界面活性剤
10g (三
洋化成(株)製エレミノールMON2) エチレ
ングリコール
20g リン酸
第1アンモニウム
2g 水酸化ナ
トリウム
1g デヒ
ドロ酢酸ナトリウム
1g シリコ
ン消泡剤
0.3g
EDTA
5g 水
777.7g フィニッシャー−1の
pHは6.3であった。
【0093】このようにして得られた平版印刷版を用い
てハイデルベルグ社製SOR印刷機で市販のインキにて
上質紙に印刷した。印刷開始よりインキが紙に十分着い
た枚数すなわち着肉枚数を表1に示す。 実施例2 実施例1おける感光液−1においてジアゾ樹脂−1をジ
アゾ樹脂−2にかえた以外は実施例1と同様にした。 実施例3 銅を0.01%、チタンを0.03%、鉄を0.3%、
ケイ素を0.1%含有する厚さ0.24mmのISアル
ミニウム板をナイロンブラシと400メッシュのパミス
トンの水性懸濁液を用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。これを10%水酸化ナトリウム水溶
液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗後20%硝酸で中和洗浄後、VA =12.7V
、VC =9.1Vの正弦波交番波形電流を用い、1%
硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時電気
量で電解粗面化処理を行った。引き続き30%の硫酸水
溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、7
%硫酸水溶液中で酸化アルミニウムの被覆量が2.0g
/m2になるように陽極酸化処理を行った。その後70
℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し
、水洗乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウ
ム板に次に示す感光液−3をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1.8g/m2で
あった。 感光液−3 親油性高分子化合物−1
5.0g ジ
アゾ樹脂−3
1.1g ビク
トリアピュアブルーBOH
0.2g (保土谷化学(株
)製) フッ素系界面活性剤F−177
0.02g (
大日本インキ(株)製) リン酸トリクレジル
0.1g リンゴ酸
0.05g スチレン−無水マレイ
ン酸共重合体の 0.05
g n−ヘキシルアルコールによるハー
フエステル 2−メトキシプロパノール
50g メタノール
20g 乳酸メチル
10gこの感光性印刷版の上に下記
の組成の共重合物の20重量%水溶液を静電スプレーで
塗布し、温度60℃の雰囲気中に5秒間露して乾燥させ
て感光性平版印刷版表面をマット化した。
てハイデルベルグ社製SOR印刷機で市販のインキにて
上質紙に印刷した。印刷開始よりインキが紙に十分着い
た枚数すなわち着肉枚数を表1に示す。 実施例2 実施例1おける感光液−1においてジアゾ樹脂−1をジ
アゾ樹脂−2にかえた以外は実施例1と同様にした。 実施例3 銅を0.01%、チタンを0.03%、鉄を0.3%、
ケイ素を0.1%含有する厚さ0.24mmのISアル
ミニウム板をナイロンブラシと400メッシュのパミス
トンの水性懸濁液を用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。これを10%水酸化ナトリウム水溶
液に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水
で水洗後20%硝酸で中和洗浄後、VA =12.7V
、VC =9.1Vの正弦波交番波形電流を用い、1%
硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時電気
量で電解粗面化処理を行った。引き続き30%の硫酸水
溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした後、7
%硫酸水溶液中で酸化アルミニウムの被覆量が2.0g
/m2になるように陽極酸化処理を行った。その後70
℃のケイ酸ナトリウムの3%水溶液に1分間浸漬処理し
、水洗乾燥した。以上のようにして得られたアルミニウ
ム板に次に示す感光液−3をホイラーを用いて塗布し、
80℃で2分間乾燥した。乾燥重量は1.8g/m2で
あった。 感光液−3 親油性高分子化合物−1
5.0g ジ
アゾ樹脂−3
1.1g ビク
トリアピュアブルーBOH
0.2g (保土谷化学(株
)製) フッ素系界面活性剤F−177
0.02g (
大日本インキ(株)製) リン酸トリクレジル
0.1g リンゴ酸
0.05g スチレン−無水マレイ
ン酸共重合体の 0.05
g n−ヘキシルアルコールによるハー
フエステル 2−メトキシプロパノール
50g メタノール
20g 乳酸メチル
10gこの感光性印刷版の上に下記
の組成の共重合物の20重量%水溶液を静電スプレーで
塗布し、温度60℃の雰囲気中に5秒間露して乾燥させ
て感光性平版印刷版表面をマット化した。
【0094】共重合物組成
メチルメタクリレート−エチルアクリレート−2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム
(5:3:2) 共重合物の塗布量は0.1g/m2、50〜100個/
mm2 の液滴の数があり、乾燥後の樹脂層の高さは2
〜6μ、巾は20μ〜150μであった。
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム
(5:3:2) 共重合物の塗布量は0.1g/m2、50〜100個/
mm2 の液滴の数があり、乾燥後の樹脂層の高さは2
〜6μ、巾は20μ〜150μであった。
【0095】得られた感光性平版印刷版を実施例1と同
様にして露光、現像処理および印刷を行った。結果を表
1に示す。 実施例4 実施例3における感光液−3において親油性高分子化合
物−1を親油性高分子化合物−2にかえた以外は実施例
3と同様にした。 実施例5 実施例3におけるフィニッシャー−1を以下の組成のフ
ィニッシャー−2にかえた以外は実施例3と同様にした
。
様にして露光、現像処理および印刷を行った。結果を表
1に示す。 実施例4 実施例3における感光液−3において親油性高分子化合
物−1を親油性高分子化合物−2にかえた以外は実施例
3と同様にした。 実施例5 実施例3におけるフィニッシャー−1を以下の組成のフ
ィニッシャー−2にかえた以外は実施例3と同様にした
。
【0096】
フィニッシャー−2の組成
アラビアゴム
15g オクテニルこはく化でんぷん
70g
デキストリンクリーム
100g
グリセリン
20
g リン酸(85%)
3g 第1リン酸アンモニウム
2g ジブチルセバケート
3g ノニオン界面活性剤 (日本油脂(株)製ノニオンOP−80R
) 3g ノニオン界面
活性剤 (花王アトラス(株)製エマルゲン903
) 3g アルキルスル
ホこはく酸ナトリウム
20g (日本油脂(株)製ラピ
ゾールB−80) 重合ロジンエステル
3g 水
763gなおこのフィニッシ
ャーは親油性成分を水溶液中に乳化分散することにより
作成した。フィニッシャー−2のpHは3.2であった
。 実施例6 実施例1における自現機スタブロン900Dをコニカ(
株)製PSU−820に、現像液−1をコニカ(株)製
SDP−12にかえた以外は実施例1と同様にした。 なおSDP−12のpHは13.0であった。 実施例7 実施例1におけるフィニッシャーを以下の組成のフィニ
ッシャー−3にかえた以外は実施例1と同様にした。
15g オクテニルこはく化でんぷん
70g
デキストリンクリーム
100g
グリセリン
20
g リン酸(85%)
3g 第1リン酸アンモニウム
2g ジブチルセバケート
3g ノニオン界面活性剤 (日本油脂(株)製ノニオンOP−80R
) 3g ノニオン界面
活性剤 (花王アトラス(株)製エマルゲン903
) 3g アルキルスル
ホこはく酸ナトリウム
20g (日本油脂(株)製ラピ
ゾールB−80) 重合ロジンエステル
3g 水
763gなおこのフィニッシ
ャーは親油性成分を水溶液中に乳化分散することにより
作成した。フィニッシャー−2のpHは3.2であった
。 実施例6 実施例1における自現機スタブロン900Dをコニカ(
株)製PSU−820に、現像液−1をコニカ(株)製
SDP−12にかえた以外は実施例1と同様にした。 なおSDP−12のpHは13.0であった。 実施例7 実施例1におけるフィニッシャーを以下の組成のフィニ
ッシャー−3にかえた以外は実施例1と同様にした。
【0097】
フィニッシャー−3の組成
アラビアゴム
45g ヒドロキシプロピル化酵素
80g
変性デキストリン カルボキシメチルセルロース
75g
リン酸(85%)
3.4g
リン酸カルシウム
0.6g ヘキサメタリン酸ナトリウム
5
g アルキルスルホン酸ナトリウム
7g
(竹本油脂(株)型パイオニンA−32B)
シリコン系消泡剤
0.
3g 水
783.7gなおフィニッシャー−3のpH
は3.6であった。 実施例8 実施例1におけるフィニッシャー1の成分のうちアラビ
アゴム10gをカルボキシメチルセルロース10gにか
えたフィニッシャー4を用いた以外は実施例1と同様に
した。 比較例1 実施例−1におけるフィニッシャー−1の成分のうちア
ラビアゴム10gを80gにヒドロキシプロピル化酵素
変性デキストリン150gを100gに尿素リン酸化で
んぷん20gを10gにかえたフィニッシャー5を用い
た以外は実施例1と同様にした。 比較例2 実施例−5におけるフィニッシャー−2の成分のうちア
ラビアゴム15gを100gにデキストリンクリームを
15gにかえたフィニッシャー−6を用いた以外は実施
例−5と同様にした。 比較例3 実施例7におけるフィニッシャー3の成分のうちアラビ
アゴム45gを75gにカルボキシルメチルセルロース
を45gにかえたフィニッシャー−7を用いた以外は実
施例7と同様にした。 比較例4 実施例1における感光液−1においてジアゾ樹脂−1を
ジアゾ樹脂−4にかえた以外は実施例−1と同様にした
。しかしこのようにして得られた平版印刷版は印刷機に
かけると汚れが発生した。
45g ヒドロキシプロピル化酵素
80g
変性デキストリン カルボキシメチルセルロース
75g
リン酸(85%)
3.4g
リン酸カルシウム
0.6g ヘキサメタリン酸ナトリウム
5
g アルキルスルホン酸ナトリウム
7g
(竹本油脂(株)型パイオニンA−32B)
シリコン系消泡剤
0.
3g 水
783.7gなおフィニッシャー−3のpH
は3.6であった。 実施例8 実施例1におけるフィニッシャー1の成分のうちアラビ
アゴム10gをカルボキシメチルセルロース10gにか
えたフィニッシャー4を用いた以外は実施例1と同様に
した。 比較例1 実施例−1におけるフィニッシャー−1の成分のうちア
ラビアゴム10gを80gにヒドロキシプロピル化酵素
変性デキストリン150gを100gに尿素リン酸化で
んぷん20gを10gにかえたフィニッシャー5を用い
た以外は実施例1と同様にした。 比較例2 実施例−5におけるフィニッシャー−2の成分のうちア
ラビアゴム15gを100gにデキストリンクリームを
15gにかえたフィニッシャー−6を用いた以外は実施
例−5と同様にした。 比較例3 実施例7におけるフィニッシャー3の成分のうちアラビ
アゴム45gを75gにカルボキシルメチルセルロース
を45gにかえたフィニッシャー−7を用いた以外は実
施例7と同様にした。 比較例4 実施例1における感光液−1においてジアゾ樹脂−1を
ジアゾ樹脂−4にかえた以外は実施例−1と同様にした
。しかしこのようにして得られた平版印刷版は印刷機に
かけると汚れが発生した。
【0098】
表 1────────────
────────────────────────実
施例 ジアゾ化合物が有す フィニッシャ
ー中 印刷結果 No る
アルカリ可溶性基 のアラビアゴム
着肉枚数 汚 れ
含有率(%)
─────────────────────────
─────────── 1 カルボキシ
ル基及び 1
10 なし
フェノール性水酸基 2 スルホン酸基
1
12 なし 3
カルボキシル基
1 12 なし
4 カルボキシル基
1 12
なし 5 カルボキシル基
1.5
8 なし 6 カ
ルボキシル基及び 1
25 やや汚れ
フェノール性水酸基 7 カル
ボキシル基及び 4.5
40 なし
フェノール性水酸基 8 カルボ
キシル基及び 0
8 やや汚れ
フェノール性水酸基────────────
────────────────────────比
較例1 カルボキシル基及び
8 120 なし
フェノール性水酸基
2 カルボキシル基 1
0 90 なし
3 カルボキシル基及び
7.5 200枚で
なし フェノール性水酸基
着肉
しない 4 な し
1
10 汚れあり表1から、本発明の平
版印刷版の製造方法では、アラビアゴム含有率が5%以
下のフィニッシャーを使用するので、上記した親水性の
高いジアゾ樹脂を含む感光層をpH12以上の強アルカ
リで現像した場合にも着肉不良が起ることがなく又、汚
れも発生しない非常にすぐれたものであることがわかる
。
表 1────────────
────────────────────────実
施例 ジアゾ化合物が有す フィニッシャ
ー中 印刷結果 No る
アルカリ可溶性基 のアラビアゴム
着肉枚数 汚 れ
含有率(%)
─────────────────────────
─────────── 1 カルボキシ
ル基及び 1
10 なし
フェノール性水酸基 2 スルホン酸基
1
12 なし 3
カルボキシル基
1 12 なし
4 カルボキシル基
1 12
なし 5 カルボキシル基
1.5
8 なし 6 カ
ルボキシル基及び 1
25 やや汚れ
フェノール性水酸基 7 カル
ボキシル基及び 4.5
40 なし
フェノール性水酸基 8 カルボ
キシル基及び 0
8 やや汚れ
フェノール性水酸基────────────
────────────────────────比
較例1 カルボキシル基及び
8 120 なし
フェノール性水酸基
2 カルボキシル基 1
0 90 なし
3 カルボキシル基及び
7.5 200枚で
なし フェノール性水酸基
着肉
しない 4 な し
1
10 汚れあり表1から、本発明の平
版印刷版の製造方法では、アラビアゴム含有率が5%以
下のフィニッシャーを使用するので、上記した親水性の
高いジアゾ樹脂を含む感光層をpH12以上の強アルカ
リで現像した場合にも着肉不良が起ることがなく又、汚
れも発生しない非常にすぐれたものであることがわかる
。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体上にカルボキシル基、フェノー
ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリン
の酸素酸基からなる群から選ばれた少なくとも1種を有
する芳香族ジアゾニウム化合物を含有する感光層を有す
る感光性平版印刷版を画像露光後、25℃におけるpH
が12以上でかつ実質上有機溶媒を含まない水性アルカ
リ現像液で現像した後、親水性有機高分子化合物を含有
し、かつアラビアゴム含有率が0〜5重量%であるフィ
ニッシャーを用いて不感脂化処理することを特徴とする
平版印刷版の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8003491A JPH04314054A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 平版印刷版の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8003491A JPH04314054A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 平版印刷版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04314054A true JPH04314054A (ja) | 1992-11-05 |
Family
ID=13706982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8003491A Pending JPH04314054A (ja) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 平版印刷版の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04314054A (ja) |
-
1991
- 1991-04-12 JP JP8003491A patent/JPH04314054A/ja active Pending
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