JPH04314869A - 化学銅めっき液中のキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度の測定方法 - Google Patents

化学銅めっき液中のキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度の測定方法

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JPH04314869A
JPH04314869A JP7995191A JP7995191A JPH04314869A JP H04314869 A JPH04314869 A JP H04314869A JP 7995191 A JP7995191 A JP 7995191A JP 7995191 A JP7995191 A JP 7995191A JP H04314869 A JPH04314869 A JP H04314869A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、化学銅めっき液中のキ
レート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度の測定
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、プリント配線板の多くは化学銅め
っきにより絶縁基板上に回路導体を設けて製造されてい
る。この場合、回路導体である化学銅めっき皮膜は電気
特性と機械特性が良好であることを要求される。
【0003】一般に、化学銅めっき液は、銅イオン、銅
イオンのキレート剤等の錯化剤、銅イオンの還元剤及び
アルカリ金属の水酸化物を主成分としている。そして、
アルカリ金属の水酸化物と還元剤はめっき反応によって
消費され濃度が低下する。また銅イオン濃度などの変動
によりキレート剤の一部が銅イオンとキレートを形成す
るので、銅イオンとキレートを形成していないキレート
剤濃度が変動する。
【0004】ところで、化学銅めっき皮膜の機械的特性
はめっき液中のアルカリ金属の水酸化物濃度と還元剤や
銅イオンとキレートを形成していないキレート剤濃度に
著しく影響を受ける。このため、化学銅めっき皮膜の特
性を良好に保つためには、これらの成分の濃度管理が必
要となる。そこで、従来は化学銅めっき液中のキレート
剤濃度と水酸化物濃度還元剤の測定を各々別途に行って
いた。
【0005】従来のキレート剤濃度の測定方法は、一定
濃度の硫酸銅水溶液をアンモニウム水によりアルカリ性
にしてこの中にムレキシド指示薬を入れ、この溶液を化
学銅めっき液によって滴定して青緑から青紫への液の色
の変化により反応の終点を求め、このときの滴定量から
化学銅めっき液中の銅イオンとキレートを形成していな
いキレート剤濃度を求めるものであった。また、水酸化
物イオン濃度の測定方法は、ガラス電極法によって化学
銅めっき液中の水素イオン濃度を測定し、水のイオン積
より計算によって水酸化物イオン濃度を間接的に求める
ものであった。
【0006】さらに、従来の化学銅めっき液中の還元剤
であるホルムアルデヒド濃度を測定するには、先ず濃度
を測定する化学銅めっき液とこの化学銅めっき液に混合
する亜硫酸塩溶液のpHが等しくなるように調整し、次
に両液を混合してこの混合溶液のpH変化が終わった後
、この混合溶液に酸を混合前のpHになるまで加えて、
加えた酸の容量より還元剤であるホルムアルデヒドの濃
度を求めていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来の
方法は、キレート剤濃度と水酸化物濃度と還元剤濃度の
測定操作が別々であり、複雑で時間がかかった。また、
それぞれの方法にも問題があった。すなわち、上記のキ
レート剤濃度の測定では反応の終点の色の変化を精度よ
く検知するのに熟練を要することや、終点検知の化学反
応が遅いために一度変化した色が1〜2分後に戻ってし
まうなどの問題があった。また、上記の水酸化物イオン
濃度の測定方法はガラス電極法であるため、pH11以
上ではアルカリ誤差が大きく正確さに欠けることや、電
極の劣化などの問題があった。
【0008】さらに上記の如き化学銅めっき液と亜硫酸
塩との反応を利用して、この反応により生成する水酸化
物イオン酸で滴定することによってホルムアルデヒド濃
度を測定する方法では、化学銅めっき液中の銅イオンと
キレートを形成していないキレート剤の影響を受けて、
化学銅めっき液中の還元剤であるホルムアルデヒド濃度
を正確に測定することができなかった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、重金属イオンの
塩の水溶液で化学銅めっき液を滴定することにより、そ
の目的が達成されていることを見出し、この知見に基づ
いて本発明を完成するに至った。
【0010】すなわち本発明は、銅イオン、銅イオンの
キレート剤、銅イオンの還元剤及びアルカリ金属の水酸
化物を主成分とする化学銅めっき液の一定量の試料液を
重金属イオンの塩の水溶液で滴定して試料液のpH変化
を検出し、経時的に記録する。
【0011】次に、同じ化学銅めっき液の一定量の試料
液に試料液中の還元剤量よりも過剰当量のアルカリ金属
の亜硫酸塩を加えた後に、重金属イオンの塩で水溶液で
滴定し、試料液のpHの変化を検出し、経時的に記録す
る。これら2度の滴定からキレート剤濃度と水酸化物イ
オン濃度と還元剤濃度を求めることを特徴とする化学銅
めっき液中のキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還
元剤濃度の測定方法を提供するものである。
【0012】本発明の対象となる化学銅めっき液は、銅
イオン、銅イオンのキレート剤、銅イオンの還元剤及び
アルカリ金属の水酸化物を主成分とするものである。
【0013】この化学銅めっき液に含まれる銅イオンの
キレート剤としては、化学銅めっき液の安定性より、エ
チレンジアミン四酢酸又はその塩が好ましい。また、化
学銅めっき液には、上記の成分の他に添加剤としてシア
ン化合物、界面活性剤、α,α’−ジピリジル、金属酸
化物イオンなどを含んでいてもよい。
【0014】本発明では、上記の化学銅めっき液の一定
量の試料液を重金属イオンの塩の水溶液で滴定する。滴
定に使用する重金属イオンの塩としては、キレート剤と
の反応性より、アルカリ土類金属、遷移金属、アルミニ
ウム、スズ又は鉛等のイオンの塩が好ましい。
【0015】上記の化学銅めっき液の一定量の試料液の
重金属イオンの塩の水溶液で滴定すると、化学銅めっき
液中のキレート剤(Y4−)と水酸化物イオン(OH−
 )は重金属イオン(M2+)と以下のように順次反応
する。         M2++  Y4−  →MY2− 
                         
    〔I〕        M2++2OH− →
M(OH)2                   
      〔II〕
【0016】ここで、式〔I〕の
反応は速く、式〔II〕の反応より起こりやすい。また
、この反応により試料液のpHの変化はほとんどない。 一方、式〔II〕の反応は式〔I〕の反応が終了した段
階で始まり、この反応によりOH− が減少するため、
試料液のpHの変化は大きい。よって、ガラス電極等に
よりpHを測定し記録しつつ、濃度が既知である重金属
イオンの水溶液を化学銅めっき液に滴下すると、試料液
のpHの変化の様子から式〔I〕及び〔II〕の反応の
終点を知ることができる。
【0017】図1は、本発明の測定方法に基づいて化学
銅めっき液を重金属イオンの塩の水溶液で滴定した場合
の滴定曲線の一例を示すグラフである。横軸は重金属イ
オンの塩の水溶液の滴定量(ml)、縦軸はpHを示す
【0018】図1に示すように、横軸に重金属イオンの
塩の水溶液の滴定量、縦軸にpHををとって滴定曲線を
描くと、式〔I〕の反応中と式〔II〕の反応中とでp
Hの変化量が異なるので、滴定曲線が折れ曲がる。式〔
I〕の反応の終点は、ほぼ直線的に緩やかに減少してい
たpHが急激に減少を始める点(図1中のA点)である
。この点は同時に式〔II〕の反応の始点でもある。式
〔II〕の反応の終点は、pHの急激な減少が緩やかと
なる変曲点(図1中のB点)である。従って、滴定曲線
の傾きの変化から式〔I〕及び〔II〕の反応の終点を
知ることができる。
【0019】このようにして得た式〔I〕及び〔II〕
の反応の終点までの重金属イオンの塩の水溶液の滴定量
と重金属イオンの塩の水溶液の濃度から、化学銅めっき
液中のキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度を求めるこ
とができる。
【0020】次に、別に同じ化学銅めっき液の一定量の
試料液に試料液中の還元剤量よりも過剰当量のアルカリ
金属の亜硫酸塩を加える。ここで試料液中の還元剤と亜
硫酸イオンで下記の式〔III〕 のような反応がおこ
る。   Na2 SO3 +CH2 O+H2 O→CH3
 OSO3 +NaOH      〔III〕この反
応によって試料液中の水酸化物イオンは、上記の式〔I
II〕 によるもので還元剤量と等量のものと試料液に
最初から含まれているものの合計になる。そこで、亜硫
酸塩添加後の試料液に対して最初の滴定と同様に重金属
イオンの塩の水溶液で滴定を行う。試料液中のキレート
剤と水酸化物イオンは〔I〕〔II〕のように順次反応
し、反応によるpHの変化から最初の滴定と同様にして
終点を検出でキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度を求
めることができる。
【0021】図2は本発明の基づいて亜硫酸塩を加えた
めっき液試料を重金属イオンの塩の水溶液で滴定した場
合の一例を示す。横軸と縦軸は図1と同様である。この
2回目の滴定から求められた水酸化物イオン濃度から1
回目の滴定から求められた水酸化物イオン濃度を差し引
くと上記の式〔III〕 に基づく水酸化物イオン濃度
から求めることができ、よって還元剤濃度がより得るこ
とができる。
【0022】
【作用】本発明において、化学銅めっき液の一定量の試
料液に重金属イオンの塩の水溶液が加えられると、先ず
、銅イオンとキレートを形成していないキレート剤と重
金属イオンとの反応が進行し、この反応が終了すると同
時に重金属イオンと水酸化物イオンとの反応が進行する
。前者の反応はpHの変化が小さく、後者の反応はpH
の変化が大きいことから、化学銅めっき液の一定量を重
金属イオンの塩の水溶液で滴定し、それと同時に混合溶
液のpHを検出することによって前者の反応と後者の反
応の両方の終点を知り得、一度にキレート剤濃度と水酸
化物イオン濃度を測定することができる。
【0023】次に、化学銅めっき液の一定量の試料液に
亜硫酸塩を加えた後に最初の滴定と同様に重金属イオン
の塩の水溶液で滴定する。この滴定ではpHの変化の様
子は最初の滴定と同じであり、この結果から求められる
キレート剤濃度も同一試料であるため同じである。しか
し水酸化物イオン濃度は還元剤と亜硫酸塩の反応〔II
I〕 に基づく量だけ多くなっているため、2回目の結
果から求めた水酸化物イオン濃度と1回目の結果から求
めた水酸化物イオン濃度の差から還元剤濃度を求めるこ
とができる。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。化学
銅めっき液として以下の組成のものを用いた。       硫酸銅                
                         
   10  g/l        (CuSO4 
・5H2 O)(0.04モル/l)      エチ
レンジアミン四酢酸四ナトリウム          
    54.2g/l        (EDTA・
4Na)    (0.02モル/l)      ホ
ルマリン                     
                   3  ml/
l        (37%ホルムアルデヒド水溶液)
      水酸化ナトリウム           
                         
2  g/l        (NaOH)     
       (0.05モル/l)      添加
剤                        
                    少量
【00
25】上記化学銅めっき液10mlをビーカーにとり、
純水を加えて約50ml程度にした。このビーカーにp
Hメーターと、記録計と接続したガラス電極(堀場製作
所  複合ガラス電極No6366)を浸した。この中
へ、ビュレットを用いて0.1モル/lの硫酸銅水溶液
を滴下させ、このときのpHの変化を経時的に検出、記
録した。この結果を図1に示した。横軸は硫酸銅水溶液
の滴定量(ml)、縦軸はpHを示す。
【0026】この図1中のA点は、キレート剤と銅イオ
ンの反応の終点であると同時に水酸化物イオンと銅イオ
ンの反応の開始点である。また、B点は銅イオンと水酸
化物イオンとの反応の終点である。このことから、A点
における硫酸銅水溶液の滴定量が8.0mlであったこ
とにより、化学銅めっき液のキレート剤の中で銅イオン
と錯体を形成していないキレート剤濃度0.08モル/
lを得た。また、B点とA点における硫酸銅水溶液の滴
定量の差が2.5mlであり、銅イオンと水酸化物イオ
ンの反応比が1:2であることから、水酸化物イオン濃
度0.05モル/lを得た。なお。濃度の計算方法はキ
レート剤濃度の場合、下記の式〔III〕に従い、水酸
化物イオンの場合、下記の式〔IV〕に従った。           CV    =    C’V’
                         
   〔  〕          C1 V  = 
 2C’V1                   
          〔  〕〔ただし、Cは化学銅め
っき液液中のキレート剤濃度、Vは化学銅めっき液の分
取量(10ml)、C’は滴定に用いた硫酸銅水溶液の
濃度(0.1モル/l)、V’はA点における硫酸銅水
溶液の滴定量、C1 は化学銅めっき液中の水酸化物イ
オンの濃度、V1 はB点とA点における硫酸銅水溶液
の滴定量の差を示す。〕
【0027】次に同一の化学銅
めっき液の一定量(10ml)の試料液に0.1モル/
lの亜硫酸ナトリウムの水溶液を約50ml加え、2分
間攪拌した。この試料液に対して上記の滴定と同一の手
順と条件で重金属イオンの塩の水溶液で滴定してキレー
ト剤濃度と水酸化物イオン濃度を求めた。この滴定での
pHの変化の様子を図2に示した。C点、D点は図1の
A点、B点に対応するものである。この結果より上記の
式〔V〕〔VI〕より求めたキレート剤の濃度は0.0
8モル/l(滴定量8ml)であり、1回目の滴定の結
果から求めたものと同じであったが、水酸化物イオン濃
度は、0.09モル/l(滴定量4.5ml)であった
。このことから2回目の水酸化物イオン濃度(0.09
モル/l)から、1回目の水酸化物イオン濃度(0.0
5モル/l)を差し引くことによって還元剤濃度は0.
04モル/lであった。 この還元剤濃度をml/lで示すと下記の式〔VI〕よ
り3ml/lである。 M=75M’                   
           〔VI〕ここでMはml/l表
示の還元剤濃度であl、M’はモル/l表示の還元剤濃
度である。
【0028】
【発明の効果】本発明によると、化学銅めっき液中のキ
レート剤濃度と水酸化物イオン濃度を一度に化学銅めっ
き液に重金属イオンの塩の水溶液を添加するたけで簡便
に、かつ、正確に測定することができる。また、上記同
様の滴定を亜硫酸塩と試料液を混合後に行うだけで上記
の結果との差から簡便かつ、正確に還元剤濃度を測定す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】  本発明の測定方法に基づいて化学銅めっき
液を重金属イオンの塩の水溶液で滴定した場合の滴定曲
線の一例を示すグラフである。横軸は重金属イオンの塩
の水溶液の滴定量(ml)、縦軸はpHを示す。
【図2】  本発明の測定方法に基づいて化学銅めっき
液に亜硫酸ナトリウムを加えた試料液を重金属の塩の水
溶液で滴定した場合の滴定曲線の一例を示すグラフであ
る。横軸は、縦軸は図1と同じ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  銅イオン、銅イオンのキレート剤、銅
    イオンの還元剤及びアルカリ金属の水酸化物を主成分と
    する化学銅めっき液から一定量の試料液を採取し、この
    液を重金属イオンの塩の水溶液で滴定して試料液のpH
    変化を検出し、経時的に記録する。次に、同じ化学銅め
    っき液から一定量の試料液を採集し、この試料液中の還
    元剤量よりも過剰当量のアルカリ金属の亜硫酸塩を加え
    た後に、重金属イオンの塩の水溶液で滴定し、試料液の
    pHの変化を検出し、記録する。これらの2度の滴定か
    らキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度を
    求めることを特徴とする化学銅めっき液中のキレート剤
    濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度の測定方法。
  2. 【請求項2】  銅イオンのキレート剤が、エチレンジ
    アミン四酢酸又はその塩である請求項1記載の化学銅め
    っき液中のキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元
    剤濃度の測定方法。
  3. 【請求項3】  重金属イオンの塩が、アルカリ土類金
    属、遷移金属、アルミニウム、スズ又は鉛のイオンの塩
    である請求項1又は2記載の化学銅めっき液中のキレー
    ト剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度の測定方法
JP7995191A 1991-04-12 1991-04-12 化学銅めっき液中のキレート剤濃度と水酸化物イオン濃度と還元剤濃度の測定方法 Expired - Lifetime JP2616272B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06184758A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Matsushita Electric Works Ltd 無電解銅メッキ法及びその装置
US6551837B1 (en) * 1998-03-17 2003-04-22 James R. Johnson Method for testing soluble salt levels in a solution
JP2007517186A (ja) * 2003-06-13 2007-06-28 シャーリット,ユージン 無電解めっき浴における錯化剤濃度の測定

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06184758A (ja) * 1992-12-18 1994-07-05 Matsushita Electric Works Ltd 無電解銅メッキ法及びその装置
US6551837B1 (en) * 1998-03-17 2003-04-22 James R. Johnson Method for testing soluble salt levels in a solution
JP2007517186A (ja) * 2003-06-13 2007-06-28 シャーリット,ユージン 無電解めっき浴における錯化剤濃度の測定

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